InGaAs/GaAs多量子阱SEED设计和特性研究

分析计算了InGaAs/GaAs多量子阱(SEED)的激子吸收行为,对器件的多量子阱及谐振腔结构进行了设计和理论分析, 用MOCVD系统生长了多量子阱外延材料,并且对器件的反射谱和光电流谱特性进行了测试。

InGaAs/InGaAsP量子阱激光器材料带隙蓝移研究

为了在光开关器件的制作中实现低传输损耗的光波导，对InGaAs/InGaAsP分别限制异质结多量子阱(SCH-MQW)激光器结构进行了一系列带隙蓝移实验。将能量1～2MeV、注量1～5×10~(13)cm~(-2)的P~+注入到实验样品后，在700℃下快速热退火90s。发现光致发光谱的峰值位置发生蓝移9～89nm。蓝移量随着注入能量和注量的增大而增大，并且能量比注量对蓝移的影响更大。

基于HEMT的单片微波集成放大器设计

航空基础科学基金

MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器

用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片，用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器，并详细介绍了整个制备工艺过程。在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值激射，测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW，激射波长约为1.6μm，品质因数Q=800，激射光谱线宽为2nm，同时指出微碟激光器射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的。

快速热退火对带有 InGaAs盖层的 InAs/GaAs量子点发光特性的影响（英文）

系统地研究了快速热退火对带有3nm In_xGa_(1-x)As(x=0,0.1,0.2)盖层的3nm高的InAs/GaAs量子点发光特性的影响。随着退火温度从650℃上升到850℃，量子点发光峰的蓝移趋势是相似的。但是，量子点发光峰的半高宽随退火温度的变化趋势明显依赖于InGaAs盖层的组分。实验结果表明In-Ga在界面的横向扩散在量子点退火过程中起了重要的作用。另外，在较高的退火温度下观测到InGaAs的发光峰。

InGaAs/GaAs多量子阱 SEED面阵结构特性与设计（英文）

讨论了谐振腔中的DBR对InGaAs/GaAs多量子阱SEED面阵光反射特性的影响。采用InGaAs/GaAs作为多量子阱SEED器件的有源区，从而获得了980nm工作波长。设计和分析了InGaAs/GaAs多量子阱SEED中的一种用于倒装焊的新型谐振腔结构。多量子阱材料是用MOCVD系统生长，利用微区光反射谱、PL谱以及X射线双晶衍射对多量子阱材料进行了测量和分析，测量结果表明多量子阱材料具有良好的质量，证明了器件结构的设计和分析是准确的。

应变补偿InGaAs/InAlAs量子级联激光器

利用应变补偿的方法研制出激射波长λ≈3.5-3.7μm的量子经联激光器。条宽20μm,腔长1.6mm的In_xGa_(1x)As/In_yAl_(1-y)As量子级联激光器已实现室温准连续激射。在最大输出功率处的准连续激射可持续30mn以上。

MBE生长的高质量AlGaAs/InGaAs双δ掺杂PHEMT结构的材料

用MBE方法制备的PHEMT微结构材料，其2DEG浓度随材料结构的不同在2.0-4.0×10~(12)cm~(-2)之间，室温霍耳迁移率在5000-6500cm~2·V~(-1)·s~(-1)之间。制备的PHEMT器件，栅长为0.7μm的器件的直流特性：I_(dss)～280mA/mm,I_(max)～520-580mA/mm,g_m～320-400mS/mm,BV_(DS)>15V(I_(DS)=1mA/mm),BV_(GS)>10V,微波特性：P_0～600-900mW/mm,G～6-10dB,η_(add)～40-60%;栅长为0.4μm的器件的直流特性:I_(max)～800mA/mm,g_m>400mS/mm。

High Efficiency Al-Free 980 nm InGaAs/ InGaAsP/ InGaP Strained Quantum Well Lasers

于2010-11-23批量导入

界面态对AlGaAs/GaAs HEMT直流输出特性的影响

利用高电子迁移率晶体管(HEMT)的直流输出分析模型，首次定量地分析了界面态对AlGaAs/GaAs HEMT直流输出特性的影响。考虑界面态的作用，详细分析了不同界面态密度对HEMT的I-V特性和器件跨导的影响。研究结果表明随着界面态密度的增加，栅极电压对电流的控制能力减小，从而使器件的跨导减小。

浅离子注入InGaAs/InGaAsP SL-MQW激光器的混合蓝移效应

利用300keV的P~+离子对InGaAs/InGaAsP应变层多量子阱(MQW)激光器外延结构实施浅注入，经H_2/N_2混合气氛下的快速退火，结构的光致发光(PL)峰值波长蓝移了76nm,所作宽接触激光器的激射波长蓝移了77.9nm。发现具有应变结构的InGaAs/InGaAsP MQW,在较低的诱因素作用下即可产生较大的量子阱混合(intermixing)效应。

HEMT结构材料中二维电子气的输运性质研究

该文通过变温的Hall测量系统地研究了GaAs基HEMT和PHEMT以及InP基HEMT三种结构材料的电子迁移率μ_n和二维电子浓度n_s。仔细地分析了不同HEMT结构材料的散射机制对电子迁移率的影响以及不同HEMT材料结构对电子浓度的影响。研究结果表明InP基HEMT的n_s×μ_n值比GaAs基HEMT和PHEMT的n_s×μm值都大，说明可以用n_s×μ_0值来判断HEMT结构材料的性能好坏。

InGaAs/AlGaAs应变量子阱激光器的可靠性

利用分子束外延方法研制的InGaAs/AlGaAs应变量子阱激光器外延材料制备了窄条型脊型波导结构量子阱激光器件。通过对其50℃高温加速老化，检测了器件的可靠性，并对器件中存在的三种典型退化行为，即快速退化、慢退化和端面光学灾变损伤进行了分析与研究。

MBE生长高光功率转换效率InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器

该文从理论上分析了实现InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器高光功率转换效率、高输出功率的有效途径，并优化了器件结构，可以同时获得低的腔面光功率密度和小的垂直于结平面远场发散角。利用分子束外延生长构成了高质量InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器，其最高光功率转换效率为53%、最大输出功率为3.7W,垂直于结平面方向远场发散角为30°。

High power 980 nm InGaAs/AlGaAs strained quantum well lasers

于2010-11-23批量导入