MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器


Autoria(s): 吴根柱; 张子莹; 任大翠; 张兴德
Data(s)

2001

Resumo

用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片,用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器,并详细介绍了整个制备工艺过程。在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值激射,测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW,激射波长约为1.6μm,品质因数Q=800,激射光谱线宽为2nm,同时指出微碟激光器射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的。

用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片,用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器,并详细介绍了整个制备工艺过程。在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值激射,测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW,激射波长约为1.6μm,品质因数Q=800,激射光谱线宽为2nm,同时指出微碟激光器射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的。

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兵器科技预研基金

长春光学精密机械学院;中科院半导体所国家光电子工艺中心

兵器科技预研基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18637

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103956

Idioma(s)

中文

Fonte

吴根柱;张子莹;任大翠;张兴德.MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器,半导体学报,2001,22(8):1057

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文