HEMT结构材料中二维电子气的输运性质研究


Autoria(s): 张兴宏; 夏冠群; 徐元森; 徐波; 杨玉芬; 王占国
Data(s)

1999

Resumo

该文通过变温的Hall测量系统地研究了GaAs基HEMT和PHEMT以及InP基HEMT三种结构材料的电子迁移率μ_n和二维电子浓度n_s。仔细地分析了不同HEMT结构材料的散射机制对电子迁移率的影响以及不同HEMT材料结构对电子浓度的影响。研究结果表明InP基HEMT的n_s×μ_n值比GaAs基HEMT和PHEMT的n_s×μm值都大,说明可以用n_s×μ_0值来判断HEMT结构材料的性能好坏。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18949

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104112

Idioma(s)

中文

Fonte

张兴宏;夏冠群;徐元森;徐波;杨玉芬;王占国.HEMT结构材料中二维电子气的输运性质研究,半导体学报,1999,20(4):292

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文