LP-MOVPE生长的低阈值1.3μm InGaAsP/InP 压、张应变交替 MQW 激光器特性

国内首次报道了LP-MOVPE法生长高质量的高、张应变交替InGaAsP多量子阱结构的研制过程及其材料的高精度X-ray双晶摇摆衍射曲线和荧光光谱特性表征。经过双腔面镀增透射膜后，其TE模与TM模自发发射谱光强差为3dBm，呈现偏振补偿特性。

LP-MOVPE生长的1.3μmInGaAsP/InP张压应变交替MQW特性

于2010-11-23批量导入

匹配In（0.53）Ga（0.47）As/InP量子阱材料的GSMBE生长及特性分析

于2010-11-23批量导入

In_xGa_(1-x)As/InP应变多量子阱P-i-N结构的GSMBE生长及X射线双晶衍射研究

国家863计划

压应变In（0.63）Ga（0.3）7As/InP单量子阱的变温光致发光研究

于2010-11-23批量导入

刻蚀腔InGaAsP/InP双异质结激光器的制作与特性

于2010-11-23批量导入

InAs/InP（0.7）Sb（0.3）热电子晶体管的fT及f（max）

于2010-11-23批量导入

气态源分子束外延InP和InAs基Ⅲ-V族化合物材料

简要报告气态源分子束外延实验结果。材料是GaAs(100)衬底上外延的晶格匹配的In_y(Ga_(1-x)Al_x)_(1-y)P(x=0～1,y=0.5),InGaP/InAlP多量子阱;在InP(100)衬底上外延的InP,晶格匹配的InGaAs、InAlAs以及InP/InGaAs、InP/InAsP多量子阱,InGaAs/InAlAs HEMT等,外延实验是用国产第一台化学束外延(CBE)系统做的。

InP的MOVPE生长

利用常压MOVPE设备和国产的三甲基铟以及进口的磷烷生长了InP处延材料,其77K迁移 率为65300cm~2/V·s,是国内迄今为止用各种方法获得的InP薄膜的最大低温迁移率值.

InGaAsP/InP MQW电流控制型双稳/非线性增益开关激光器

一种电流控制型二端及三端MOW(多量子阱)InGaAsP/InP双区共腔双稳/非线性增益开关激光器业已研制成功,文中报道了部分结果.

InGaAsP/InP PFBH激光器

采用N-InP衬底研制InGaAsP/InP激光器和DFB激光器在国内已报导多次，该文介绍用P-InP衬底研制InFaAsP/InP平面埋层异质结构(PFBH)激光器和DFB-PFBH激光器，同时利用晶体生长和晶向的依赖关系，改进埋区的结构，使器件最高激射温度大于100℃。

三端1.3μm InGaAsP/Inp双区共腔激光器

于2010-11-23批量导入

电子束辐照对InP（100）表面硫钝化的增强作用

采用含有过量硫的(NH_4)_2S_x对InP(100)表面进行化学钝化和辉光放电电子束辐照处理,液氮下光致发光强度比未辐射的光致发光强度提高了1.5倍,比未钝化的提高了5倍.利用X射线光电子谱研究了电子辐照对InP表面硫钝化的影响.结果表明,硫钝化InP表面经电子束辐照可以促使S与InP更好的化合.