电子束辐照对InP(100)表面硫钝化的增强作用


Autoria(s): 陈维德; 李秀琼; 段俐宏; 谢小龙
Data(s)

1996

Resumo

采用含有过量硫的(NH_4)_2S_x对InP(100)表面进行化学钝化和辉光放电电子束辐照处理,液氮下光致发光强度比未辐射的光致发光强度提高了1.5倍,比未钝化的提高了5倍.利用X射线光电子谱研究了电子辐照对InP表面硫钝化的影响.结果表明,硫钝化InP表面经电子束辐照可以促使S与InP更好的化合.

采用含有过量硫的(NH_4)_2S_x对InP(100)表面进行化学钝化和辉光放电电子束辐照处理,液氮下光致发光强度比未辐射的光致发光强度提高了1.5倍,比未钝化的提高了5倍.利用X射线光电子谱研究了电子辐照对InP表面硫钝化的影响.结果表明,硫钝化InP表面经电子束辐照可以促使S与InP更好的化合.

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国家自然科学基金

中科院半导体所;中科院微电子中心

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19713

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104494

Idioma(s)

中文

Fonte

陈维德;李秀琼;段俐宏;谢小龙.电子束辐照对InP(100)表面硫钝化的增强作用,半导体学报,1996,17(7):518

Palavras-Chave #半导体化学
Tipo

期刊论文