气态源分子束外延InP和InAs基Ⅲ-V族化合物材料


Autoria(s): 袁瑞霞; 阎春辉; 国红熙; 李晓兵; 朱世荣; 曾一平; 李灵霄; 孔梅影
Data(s)

1996

Resumo

简要报告气态源分子束外延实验结果。材料是GaAs(100)衬底上外延的晶格匹配的In_y(Ga_(1-x)Al_x)_(1-y)P(x=0~1,y=0.5),InGaP/InAlP多量子阱;在InP(100)衬底上外延的InP,晶格匹配的InGaAs、InAlAs以及InP/InGaAs、InP/InAsP多量子阱,InGaAs/InAlAs HEMT等,外延实验是用国产第一台化学束外延(CBE)系统做的。

国家863计划

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19591

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104433

Idioma(s)

中文

Fonte

袁瑞霞;阎春辉;国红熙;李晓兵;朱世荣;曾一平;李灵霄;孔梅影.气态源分子束外延InP和InAs基Ⅲ-V族化合物材料,半导体学报,1996,17(1):6

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文