High power 980 nm InGaAs/AlGaAs strained quantum well lasers

于2010-11-23批量导入

快速热退火引起GaAs/AlGaAs双量子阱中铝原子的扩散研究

用分子束外延生长了GaAs/AlGaAs双量子阱激光器结构样品，并对不同温度快速热退火导致量子阱组分无序即阱和垒中三族元素的扩散过程进行了实验和理论研究。用光荧光技术测量退火样品的n=1量子阱能级跃迁峰值位置，结果表明退火前后样品量子阱能级位置发生蓝移，蓝移量随温度的提高而增大，对退火过程中GaAs/AlGaAs量子阱中三族元素的扩散过程进行了理论分析，并与实验结果相比较，获得了不同退火温度下铝原子的扩散系数和扩散过程的激活能。950℃，30s退火条件下，铝原子的扩散系数为6.6×10~(-16)cm~2/s，扩散过程的激活能为5.0eV。

GaAs/AlGaAs多量子阱FET-SEED灵巧象元

将GaAs/AlGaAs多量子阱光探测器、光调制器与GaAs场效应晶体管(FET)混合集成,构成FET-SEED灵巧像元光探测器和光调制器均为反射型自电光效应器件(SEED),光源为量子阱半导体激光器。光输入信号对光输出信号有明显的调制作用,可以导致光输出信号较大的变化。

GaAs/AlGaAs量子点阵的制备及其荧光特性

采用电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺，将GaAs/AlGaAs量子阱外延材料制成量子点阵，其光荧光谱显示出蓝移，并且蓝移量随着量子点直径尺寸的减少而增大。

分子束外延GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层量子阱材料的研究

采用分子束外延技术(MBE)生长了GaAs/AlGaAs单量子阱和多量子阱材料。采用GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层掩埋衬底缺陷，获得的量子阱结构材料被成功地用于制作量子阱激光器。波长为778nm的激光器，最低阈值电流为30 mA，室温下线性光功率大于20 mW。

低阈值电流密度InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器

利用分子束外延技术,生长了极低阈值电流密度、低内损耗、高量子效率的InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器。在腔长900μm时，80μm宽接触激光器阈值电流密度是125A/cm~2,在腔长为2000μm时是113A/cm~2,这样低的阈值电流密度是目前国内报道的最低值。激光器的内损耗和内量子效率分别是2cm~(-1)和84％。

高温连续输出AlGaAs大功率单量子阱激光器的工作特性

介绍了利用MBE方法生长的大功率AlGaAs单量子阱激光器的高温工作特性。激光器的室温连续输出功率达到2W。在95℃高温连续工作状态下，其输出功率仍可达到500mW的水平。器件的特征温度高达185K(35￣85℃)及163K(85￣95℃)。同室温相比，器件在95℃的工作条件下，其功率输出的斜效率下降了23％。

δ掺杂AlGaAs/GaAs HEMT的二维量子模型

首次建立了δ掺杂AlGaAs/GaAs高电子迁移率晶体管(HEMT)的二维量子模型，这种模型考虑了HEMT器件沟道中二维电子气的量子特性。根据这个模型，应用二维数值模拟方法和自洽求解薛定谔方程和泊松方程获得了器件沟道中的二维电子浓度，同时也得到了器件沟道中的横向电场分布和横向电流密度，模拟结果表明二维电子气主要分布在异质结GaAs一侧量子阱中。详细讨论了不同栅压和不同漏压下HEMT沟道中的二维电子浓度的分布及变化。