909 resultados para GA-FACE
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利用俄歇电子能谱(AES)和X射线衍射(XRD)分析了室温条件下离子束外延生长Ga、Mn、As样品,在不同的温度条件下进行退火后组分和元素分布的变化.结果表明退火有助于样品内部元素的均匀分布,温度为400 ℃会导致MnO2和Ga5.2Mn的结晶.
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Self-organized In_(0.5)Ga_(0.5)As/GaAs quantum island structure emitting at 1. 35 (im at room temperature has been successfully fabricated by molecular beam epitaxy (MBE) via cycled (InAs)_1/( GaAs)_1 monolayer deposition method. Photoluminescence (PL) measurement shows that very narrow PL linewidth of 19.2 meV at 300 K has been reached for the first time, indicating effective suppression of inhomogeneous broadening of optical emission from the In_(0.5)Ga_(0.5)As islands structure. Our results provide important information for optimizing the epitaxial structures of 1.3 μm wavelength quantum dot (QD) devices.
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利用低能双离子束外延技术,在400 ℃条件下生长样品(Ga, Mn, As)/GaAs。样品光致发光谱出现三个峰,即1.5042eV处的GaAs激子峰、1.4875eV处的弱碳峰和低能侧的一宽发光带。宽发光带的中心位置在1.35eV附近,半宽约0.1eV在840 ℃条件下对样品进行退火处理,退火后的谱结构类似退火前,但激子峰和碳杂质峰的峰位分别移至1.5066eV和1.4894eV,同时低能侧的宽发光带的强度大大增加。这一宽发射的来源还不清楚,原因可能是体内杂质和缺陷形成杂质带,生成Mn_2As新相,Mn占Ga位或形成GaMnAs合金。
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国家攀登计划,国家973计划
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研究了离子损伤对等离子体辅助分子束外延生长的GaNAs/GaAs和GaInNAs/GaAs量子阱的影响。研究表明离子损伤是影响GaNAs和GaInNAs量子阱质量的关键因素。去离子磁场能有效地去除了等离子体活化产生的氮离子。对于使用去离子磁场生长的GaNAs和GaInNAs量子阱样品,X射线衍射测量和PL谱测量都表明样品的质量被显著地提高。GaInAs量子阱的PL强度已经提高到可以和同样条件下生长的GaInAs量子阱相比较,研究也表明使用的磁场强度越强,样品的光学质量提高越明显。
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中科院基金,国家自然科学基金,国家攀登计划
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利用分子束外延技术和S-K生长模式,系统研究了InAs/GaAs材料体系应变自组装量子点的形成和演化。研制出激射波长λ≈960nm,条宽100μnm,腔长800μm的In(Ga)As/GaAs量子点激光器
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集成光电子学国家重点实验室基金,国家863计划,国家自然科学基金,中科院项目
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于2010-11-23批量导入
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于2010-11-23批量导入
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于2010-11-23批量导入
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于2010-11-23批量导入
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于2010-11-23批量导入
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国家自然科学基金