(Ga, Mn, As)/GaAs的发光谱


Autoria(s): 杨君玲; 陈诺夫; 叶小玲; 何宏家
Data(s)

2002

Resumo

利用低能双离子束外延技术,在400 ℃条件下生长样品(Ga, Mn, As)/GaAs。样品光致发光谱出现三个峰,即1.5042eV处的GaAs激子峰、1.4875eV处的弱碳峰和低能侧的一宽发光带。宽发光带的中心位置在1.35eV附近,半宽约0.1eV在840 ℃条件下对样品进行退火处理,退火后的谱结构类似退火前,但激子峰和碳杂质峰的峰位分别移至1.5066eV和1.4894eV,同时低能侧的宽发光带的强度大大增加。这一宽发射的来源还不清楚,原因可能是体内杂质和缺陷形成杂质带,生成Mn_2As新相,Mn占Ga位或形成GaMnAs合金。

利用低能双离子束外延技术,在400 ℃条件下生长样品(Ga, Mn, As)/GaAs。样品光致发光谱出现三个峰,即1.5042eV处的GaAs激子峰、1.4875eV处的弱碳峰和低能侧的一宽发光带。宽发光带的中心位置在1.35eV附近,半宽约0.1eV在840 ℃条件下对样品进行退火处理,退火后的谱结构类似退火前,但激子峰和碳杂质峰的峰位分别移至1.5066eV和1.4894eV,同时低能侧的宽发光带的强度大大增加。这一宽发射的来源还不清楚,原因可能是体内杂质和缺陷形成杂质带,生成Mn_2As新相,Mn占Ga位或形成GaMnAs合金。

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国家重点基础研究专项经费(G2 683),攀登计划(PAN95-YU-34)基金资助项目

中国科学院半导体研究所

国家重点基础研究专项经费(G2 683),攀登计划(PAN95-YU-34)基金资助项目

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18125

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103700

Idioma(s)

中文

Fonte

杨君玲;陈诺夫;叶小玲;何宏家.(Ga, Mn, As)/GaAs的发光谱,半导体学报,2002,23(1):26-29

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文