Si(111)衬底无微裂GaN的MOCVD生长

采用AlN插入层技术在Si(111)衬底上实现无微裂GaN MOCVD生长.通过对GaN外延层的a,c轴晶格常数的测量,得到了GaN所受张应力与AlN插入层厚度的变化关系.当AlN厚度在7～13nm范围内,GaN所受张应力最小,甚至变为压应力.因此,GaN微裂得以消除.同时研究了AlN插入层对GaN晶体质量的影响,结果表明,许多性能相比于没有AlN插入层的GaN样品有明显提高.

(111)Si上外延生长六方GaN的TEM观察

利用衍衬、SAED、HRTEM对在（111）Si上外延生长的六方GaN进行了观察分析。GaN外延层与缓冲层和基底的取向关系为(0001)_(GaN)∥(0001)_(AlN)∥(111)_(Si)，[11(2-bar)0]_(GaN)∥[11(2-bar)0]_(AlN)∥[110]_(Si)。GaN外延层中存在倒反畴。GaN中位错以刃型位错为主。In_(0.1) Ga_(0.9) N/GaN的多重量子阱结构（MQW）具有阻挡穿透位错，降低位错密度的作用。

质量分离的双离子束沉积法生长CeO_2（111）/Si薄膜

国家973计划

在Si（111）上外延生长硅化钴薄膜的SEM和XPS研究

于2010-11-23批量导入

Si（111）衬底上IBE法外延生长β-FeSi2薄膜的研究

于2010-11-23批量导入

GaAs中过渡族杂质Pd和Zr有关的深中心

采用结谱、光荧光等技术对Pd和Zt在GaAs中的光学和电学性质进行了研究.在GaAs:Pd中观测到三个能级,分别位于导带下0.4eV、0.60eV和价带上0.69eV.在GaAs:Zr中也观测到三个能级,分别位于导带下0.43eV和介带上0.32eV和0.55eV.基于深中心所表现出的Poole-Frenkel效应,讨论了一些中心对应的荷电态,对它们的俘获和对光致发光的影响也作了研究,结果表明:Pd和Zr在GaAs中均不是有效的复合中心.

用低能离子束淀积技术在硅（111）衬底上生长氧化铈外延薄膜

采用质量分离的低能双离子束淀积(IBD)技术,在硅(111)衬底上共淀积,生长了氧化铈外延薄膜。椭圆偏振仪测得,膜厚2000A。俄歇能谱仪测得,外延层内铈、氧分布均匀,具有很好的正化学比。X射线双晶衍射得到明显的氧化铈(111),(222)峰,半高宽≤23''。

GaAs中4d过渡杂质Mo与Pd的光电行为

4d过渡杂质Mo、Pd在GaAs中分别引入E（0．42eV）、H（0．61eV）和E（0．66eV）、H（0．69eV）等能级。根据过渡杂质Mo和Pd在GaAs中的光电行为, 推测这些杂质在GaAs中不起有效复合中心的作用。图4参3

Pd/c-Si界面反应研究

于2010-11-23批量导入

Pd/a-Si∶H界面反应研究

中科院基金

硅中Pd-B络合物性质的理论研究

于2010-11-23批量导入

Pd/a-Si:H界面的光电子能谱研究

其它基金

Long-wavelength SiGe/Si MQW resonant-cavity-enhanced photodetectors (RCE-PD) for application in optical fiber communication network

　

Microstructural and compositional characteristics of GaN films grown on a ZnO-buffered Si(111) wafer

Polycrystalline GaN thin films have been deposited epitaxially on a ZnO-buffered (111)-oriented Si substrate by molecular beam epitaxy. The microstructural and compositional characteristics of the films were studied by analytical transmission electron microscopy (TEM). A SiO2 amorphous layer about 3.5 nm in thickness between the Si/ZnO interface has been identified by means of spatially resolved electron energy loss spectroscopy. Cross-sectional and plan-view TEM investigations reveal (GaN/ZnO/SiO2/Si) layers exhibiting definite a crystallographic relationship: [111](Si)//[111](ZnO)//[0001](GaN) along the epitaxy direction. GaN films are polycrystalline with nanoscale grains (similar to100 nm in size) grown along [0001] direction with about 20degrees between the (1 (1) over bar 00) planes of adjacent grains. A three-dimensional growth mode for the buffer layer and the film is proposed to explain the formation of the as-grown polycrystalline GaN films and the functionality of the buffer layer. (C) 2004 Elsevier Ltd. All rights reserved.