Pd/c-Si界面反应研究


Autoria(s): 沈波; 方一生; 赵特秀; 许振嘉
Data(s)

1990

Resumo

于2010-11-23批量导入

zhangdi于2010-11-23 13:16:06导入数据到SEMI-IR的IR

Made available in DSpace on 2010-11-23T05:16:06Z (GMT). No. of bitstreams: 1 6291.pdf: 140980 bytes, checksum: 2e2c347b68b5c2979bda2fd3547cfddb (MD5) Previous issue date: 1990

其它基金

中国科学技术大学;中科院半导体所

其它基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20355

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104815

Idioma(s)

中文

Fonte

沈波;方一生;赵特秀;许振嘉.Pd/c-Si界面反应研究,中国科学技术大学学报,1990,20(2):143

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文