980 nm InGaAs应变量子阱激光器和掺铒光纤放大器用泵浦源

利用分子束外延技术研制出了高质量InGaAs/GaAs应变量子阱材料及量子阱激光器。在室温和10 K温度下,应变量子阱材料的光荧光峰值半宽分别为32 meV和.4 meV,宽接触激光器的阈值电流密度低达140 A/cm~2。脊形波导窄条形量子阱激光器的阈值电流和微分量子效率分别为15 mA和0.8 W/A,线性输出功率大于120 mW,基横模输出功率可达100 mW。InGaAs应变量子阱激光器和单模光纤进行了耦合其组合件出纤光功率典型值为40 mW,最大值可达60 mW,显示出了高的基横模输出功率和高的耦合效率。其组合件在40 mW下,中心发射波长在977 nm,成功地研制出适于掺铒光纤放大器用的应变量子阱激光器泵浦源。

电子束辐照对InP（100）表面硫钝化的增强作用

采用含有过量硫的(NH_4)_2S_x对InP(100)表面进行化学钝化和辉光放电电子束辐照处理,液氮下光致发光强度比未辐射的光致发光强度提高了1.5倍,比未钝化的提高了5倍.利用X射线光电子谱研究了电子辐照对InP表面硫钝化的影响.结果表明,硫钝化InP表面经电子束辐照可以促使S与InP更好的化合.

GaAs（100）的（NH4）2Sx和P2S5/（NH4）2Sx表面钝化

于2010-11-23批量导入

室温下InP（100）表面K诱发催化氮化反应的同步辐射光电子能谱研究

于2010-11-23批量导入

K对InP（100）表面催化氧化反应的同步辐射光电子能谱研究

国家自然科学基金

碱金属Rb在InP（100）表面的催化氧化作用

用XPS和UPS研究了氧在Rb复盖的和清洁的InP(100)表面的吸附行为。实验结果表明,碱金属可以使衬底的氧化能力大大增加。在氧的暴露量低于1L时,氧主要吸附在碱金属原子之间的InP衬底上,且位于Rb原子层之下。当氧暴露量增加时,氧主要还是吸附在Rb覆盖层下面,这时衬底开始氧化。在清洁表面,氧主要吸附在In原子上,样品退火后,Rb部分脱附,同时,衬底的氧化物相(InPO_4)含量增加。

水分子在Si（100）面上吸附位的确定

于2010-11-23批量导入

同步辐射光电子能谱研究室温下Na对InP（100）表面氮化反应的影响

利用同步辐射光电子能谱研究了室温下Na吸附下于P型InP(100)表面对其氮化反应的影响,通过P2p、In 4d芯能级谱的变化,对Na/InP(100)表面的氮化反应的研究表明,碱金属Na的吸附对InP(100)无明显的催化氮化作用,即使采用N_2/Na/N_2/Na/N_2/Na/InP(100)的类多层结构,在室温下也只有极少量的氮化物形成,而无明显的催化氮化反应发生.碱金属吸附层对III-V族半导体氮化反应的催化机制不同于碱金属对于元素半导体的催化反应机制,碱金属对元素半导体的催化氮化反应,吸附的碱金属与元素半导体衬底之间无需界面反应发生,而碱金属吸附层和III-V族半导体衬底之间发生界面反应而形成的表面缺陷在III-V族半导体的催化氮化反应过程中具有重要的作用.

W/Si,WSi2/Si和W/TiN纳米多层膜的成膜特性和热稳定性

国家自然科学基金

铯对GaAs（100）表面氧化的催化作用

于2010-11-23批量导入

Cs/InP（100）界面相互作用性质的研究

于2010-11-23批量导入

O2在FeSi（100）表面的初始吸附研究

于2010-11-23批量导入