W/Si,WSi2/Si和W/TiN纳米多层膜的成膜特性和热稳定性


Autoria(s): 刘文汉; 周凌云; 伍历文; 张裕恒; 许振嘉
Data(s)

1994

Resumo

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19923

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104599

Idioma(s)

中文

Fonte

刘文汉;周凌云;伍历文;张裕恒;许振嘉.W/Si,WSi2/Si和W/TiN纳米多层膜的成膜特性和热稳定性,科学通报,1994,39(7):594

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文