694 resultados para CMOS processs


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对全耗尽CMOS/SOI工艺进行了研究,成功地开发出成套全耗尽CMOS/SOI抗辐照工艺,其关键工艺技术包括:氮化H2-O2合成薄栅氧、双栅和注Ge硅化物等技术,经过工艺设计,获得性能良好的抗辐照CMOS/SOI器件和电路(包括101级环振、2000门门海阵列等)其中,nMOS:Vt=0.7V,Vds=4.5-5.2V,μeff=465cm^2/(V·S),PMOS:Vt=-0.8V,Vds=-5~-6.3V,μeff=264cm^2/(V·S),当工作电压为5V时,0.8μm环振单级延迟为45ps。

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本文概述了近年来该器件的研究与进展,从发光机理、器件研制和应用前景等方面做了详细的叙述。

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采用工业标准0.6μm CMOS工艺设计了以反向击穿硅p-n结为基础的光发射器件。讨论了该器件的光发射机理。利用商业模拟软件对器件的工作特性进行了模拟,包括器件的正向和反向I-V特性、p区掺杂浓度对击穿电压的影响以及门电压对器件发光强度的调制特性的影响等。结果表明该器件是一种很有前途的硅发光器件,在光互连等领域具有广阔的应用前景。

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从速度、集成度、功耗和成本等几个方面深入的分析了利用标准CMOS工艺来设计开发高速模拟器件和混合处理芯片的现状及发展潜力。

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基于CMOS器件的离散性机理及误差消除对策,研究了高速、高精度嵌入式CMOS数/模转换器(DAC)IP核的设计与实现。采用行、列独立译码的二次中心对称电流源矩阵结构,优化了电流源开关电路结构与开关次序;利用Cadence的Skill语言独立开发电流源矩阵的版图排序和布线方法。在0.6μm N阱CMOS工艺平台下,12-bitDAC的微分线性误差和积分线性误差分别为1LSB和1.5LSB,在采样率为150MHz、工作电源为3.3V时的平均耗为140mW。流片一次成功,主要性能指标满足设计要求。

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设计了与CMOS工艺兼容的光电单片接收机电路,其中包括光电探测器、前置放大器和主放大器。它采用0.6μm CMOS工艺,可在自血的高阻外延片上使用MPW (multi-project wafer)进行流水。其中光电探测器的工作波长为850nm,响应度为0.2A/W,接收灵敏度为-16dBm,带宽为800MHz,因此适用于VSR(versy short reach)系统。前置放大器采用电流模反馈放大器,主放大器输出为LVDS(low voltage differential signals)电平。通过器件模拟与电路模拟统一的方法将光电探测器与接收机放大电路进行统一模拟,分析了电路的限制因素,并提出了相应的改进方法。

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研究了CMOS/SOI 4Kb静态随机存储器的抗总剂量辐照性能。CMOS/SOI 4Kb静态随机存储器采用1K * 4的并行结构体纱,其地址取数时间为30ns,芯片尺寸为3.6mm * 3.84mm;在工作电压为3V时,CMOS/SOI 4Kb静态随机存储器抗总剂量高达5 * 10~5R(Si),能较好地满足军用和航天领域的要求。

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用器件模拟的方法,设计了一种与常规CMOS工艺兼容的硅高速光电探测器,该探测器可与CMOS接收机电路单片集成,对该探测器进行了器件模拟研究,给出了该探测器的电路模型。通过MOSIS(MOS implementation support project)0.35 μm COMS工艺制做了该探测器,实际测试了该器件的频率响应和波长响应,探测器频率响应在1GH以上,峰值波长响应在0.69 μm。

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报道了Φ150mm CMOS硅外延材料的研究开发及集成电路应用成果,对Φ200mmP/P~-硅外延材料进行了初步探索研究。Φ150mm P/P~+硅外延片实现了批量生产,并成功应用于集成电路生产线,芯片成品率大于80%。硅外延片的参数指标能满足集成电路制造要求。

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对部分耗尽CMOS/SOI工艺进行了研究,成功地开发出成套部分耗尽CMOS/SOI抗辐照工艺。其关键工艺技术包括

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于2010-11-23批量导入

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提出并设计了一种基于CMOS工艺实现的高速高精度的单向隔离模拟开关,该开关用在高速两步法A/D转换器中使电路结构大为简化。通过对开关特性的理论分析与电路模拟,证明了这种模拟开关具有高速可控性,传输信号的精度优于先前研究的双极单向隔离模拟开关。

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