有序Ga（0.5）In（0.5）P光致发光的研究

国家自然科学基金

静压下ZnS（0.02）Te（0.98）混晶的共振喇螺散射研究

于2010-11-23批量导入

MOCVD和GSMBE生长Ga（0.5）In（0.5）P 外延层中有序结构的研究

用MOCVD在(100)、GSMBE在(100)和(111)B GaAs上生长了GaInP外延层.PL测试表明,(100)衬底上GaIn PL 峰的能量比计算的带隙分别小43(GSMBE生长)和104meV(M(CVD生长).用Kurtz等人的模型对MOCVD和GSMBE生长的GaInP中有序度的不同进行了解释.并讨论了衬底晶向对GaInP中有序程度的影响.

自发有序Ga（0.5）In（0.5）P合金的静压光致发光研究

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自发有序Ga（0.5）In（0.5）P合金的喇曼光谱研究

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GaAs/Al（0.3）Ga（0.7）As短周期超晶格中负微分电导效应的观察

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High-field nonlinear perpendicular transport in a GaAs/Al_(0.3)Ga_(0.7) As short-period superlattice

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1.55μm InGaAsP/InP DH激光器中的0.95μm发光带与Auger复合

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1MeVSi＋衬底加温注入Al（0.3）Ca（0.7）As/GaAs超晶格和GaAs的晶格损伤研究

用卢瑟福背散射沟道技术研究了1MeVSi~+在衬底加温和室温下以不同剂量注入Al＿(0．3)Ga＿(0．7)As／GaAs超晶格和GaAs后的晶格损伤。在衬底加温下, 观察到Al＿(0．3)Ga＿(0．7)As／GaAs超晶格和GaAs都存在一个动态退火速率与缺陷产生速率相平衡的剂量范围, 以及两种速率失去平衡的临界剂量。用热尖峰与碰撞模型解释了晶格损伤积累与注入剂量和衬底温度的关系。

GaAs/Al（0.4）Ga（0.6）As多量子肼红外探测器光吸收计算

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GaAs/Al（0.33）Ga（0.67）As短周期超晶格中能带不连续性随压力的变化

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高迁移率Si/Si（0.7）Ge（0.3）/Si调帛掺杂异质结构的生长和输运性质

863计划,国家攀登计划

GaAs/Ga（0.7）Al（0.3）超晶格中场致激子峰展宽机制的研究

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