Wideband antireflection film fabricated by glancing angle deposition

Graded-index ZrO2 films has been fabricated on K9 glass by glancing angle deposition. Because the index mismatch at the interface has been reduced, the film results in wideband high-transmission antireflection. From 400nm to 1200nm, the film reflection is lower than 0.8% and the lowest value is 0.2% at 432nm.

斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率分析

斜角入射沉积法是一种制备薄膜的新颖方法，它可以用来制备渐变折射率薄膜．本文首先探讨了膜料的沉积入射角为α，薄膜柱状生长倾斜角为β时的薄膜的填充系数；之后利用drude理论，分析研究了斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率与薄膜的入射角和生长方向的关系．

Expressão de marcadores imuno-histoquímicos em biópsias renais de pacientes transplantados

A partir da década de 60, com a utilização do transplante renal em larga escala como terapia substitutiva para pacientes com falência do órgão, surgiu a preocupação quanto ao desenvolvimento do processo de rejeição do enxerto. Tal intercorrência, em geral, cursa com sinais e sintomas clínicos apenas quando o evento está bem estabelecido, ou mesmo quando lesões irreversíveis já se instalaram. Assim, é fundamental um acompanhamento rigoroso, visando detectar os casos subclínicos. O presente trabalho, a fim de fornecer novas ferramentas que auxiliem o diagnóstico precoce de rejeição do enxerto, avaliou a expressão imuno-histoquímica dos anticorpos CD3, CD5, CD20, CD68, CD25, FoxP3 e C4d em biópsias renais realizadas entre os anos de 2007 e 2009 em pacientes transplantados acompanhados pelo Serviço de Nefrologia do Hospital Universitário Pedro Ernesto, UERJ - RJ, correlacionando os resultados obtidos com o diagnóstico histológico. Para tal, as biópsias foram reavaliadas por três médicos patologistas que as classificaram, segundo Critérios de Banff 2007, quanto à presença ou não de rejeição do enxerto e seu tipo, aguda ou crônica. A partir de então, os blocos de parafina foram processados pela técnica Tissue Microarray for all (Pires, ARC. e cols.) e submetidos à imuno-histoquímica. A positividade dos marcadores foi avaliada e graduada e os resultados encontrados foram correlacionados, em um primeiro momento, com a presença ou ausência de rejeição. Posteriormente, os casos com diagnóstico histológico de rejeição tiveram seu perfil imuno-histoquímico analisado em função da positividade para C4d, marcador definidor de rejeição humoral. Neste momento, buscou-se averiguar se os anticorpos estudados seriam úteis em detectar, neste grupo, rejeição humoral e celular. Após a análise estatística, realizada pelo Teste Exato de Fisher, pode-se, então, concluir que o comportamento do marcador CD3 é capaz de inferir a presença de rejeição e que os anticorpos CD5 e CD25 permitem sugerir rejeição celular e humoral, respectivamente. Foi observado também que casos sem diagnóstico histológico de rejeição podem apresentar marcação para C4d em mais de 10% de seus capilares peritubulares.

线性共蒸法制备非均匀膜的误差特性模拟分析

对双源线性共蒸法制备的非均匀薄膜折射率分布与光学特性的关系作了探讨，并与均匀介质膜的光学特性作了对比；从折射率正变和负变两个方面．讨论了混合介质膜折射率不同变化规律对光学性能带来的影响；讨论了厚度误差和折射率极值误差对非均匀膜光学性能的影响。结果发现：折射率变化规律误差主要对非均匀膜的应用波段范围产生影响，而膜层厚度误差和折射率极值误差超过一定值时，将对薄膜光学特性产生重要影响。

不同膜层数的Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率

用磁控溅射法制备了顶层分别是Mo膜层和Si膜层的两个系列的Mo/Si多层膜，它们的周期厚度相同但是膜层数各不相同。Mo/Si多层膜的周期厚度和界面粗糙度由小角X射线衍射（SAXRD）曲线拟和得到。用原子力显微镜测量了Mo/Si多层膜的表面粗糙度。在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。通过理论和试验研究，发现Mo/Si多层膜的软X射线反射率主要由周期数和界面粗糙度决定，表面粗糙度对Mo/Si多层膜的软X射线反射率影响较小。

Characteristics of high reflection mirror with an SiO2 top layer for multilayer dielectric grating

The high reflection (HR) mirror composed of dielectric stacks with excellent spectrum characteristics and high damage resistant ability is critical for fabricating multilayer dielectric (MLD) grating for pulse compressor. The selection of the SiO2 material as the top layer of the HR mirror for grating fabrication is beneficial for improving the laser-induced damage threshold of MLD grating as well as minimizing the standing-wave effect in the photoresist during the exposure process. Based on an (HLL) H-9 design comprising quarter-waves of HfO2 ( H) and half-waves of SiO2 ( L), we obtain an optimal design of the HR mirror for MLD grating, the SiO2 top layer of which is optimized with a merit function including both the diffraction efficiency of the MLD grating and the electric field enhancement in the grating. Dependence of the performance of the MLD grating on the fabrication error of the dielectric mirror is analysed in detail. The HR mirror is also fabricated by E-beam evaporation, which shows good spectral characteristics at the exposure wavelength of 413 nm and at the operation wavelength of 1053 nm and an average damage threshold of 10 J cm(-2) for a 12 ns pulse.

研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟

在特定波长下,用四层结构模型模拟了Mo/Si多层膜的软X射线反射率.研究了扩散屏障层dMo-on-Si和dSi-on-Mo对Mo/Si多层膜软X射线反射率的影响.研究发现,扩散屏障层并不总是损害Mo/Si多层膜的光学性能,通过合理设计dMo-on-Si和dSi-on-Mo厚度,增加dMo-on-Si与dSi-on-Mo的比值,也能提高多层膜的软X射线反射率.

用不同的Mo靶溅射功率制备Mo／Si多层膜

用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo／Si多层膜，用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时，Mo／Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo／Si多层膜的软X射线反射率。研究发现，随着Mo靶溅射功率的增大，Mo／Si多层膜的表面粗糙度增加，Mo的特征X射线衍射峰也增强，Mo／Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。

Mo／Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究

用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo／Si多层膜系列，利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo／Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面，通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律。并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率。研究表明：随着膜层数的增加，Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小，多层膜的峰值反射率先增加后减小。

Qualidade da imagem nas pacientes com suspeita de Endometriose infiltrada profunda : comparação entre a ultrassonografia transvaginal antes e após a realização do preparo retal

Comparar a qualidade da imagem entre a ultrassonografia transvaginal sem preparo intestinal e após preparo intestinal nas pacientes com suspeita de endometriose infiltrativa profunda do compartimento posterior e avaliar do grau de desconforto das pacientes em relação ao preparo intestinal. Estudo transversal com dados coletados prospectivamente, incluindo 39 pacientes com suspeita clínica de endometriose do compartimento posterior do ambulatório de Endometriose do Hospital Universitário Pedro Ernesto (HUPE) da Universidade do Estado do Rio de Janeiro (UERJ), no Rio de Janeiro. As pacientes foram submetidas à ultrassonografia transvaginal (USTVG) sem preparo intestinal prévio, seguido de nova USTVG uma hora após realização do enema retal. Os vídeos dos exames gravados foram editados, com ênfase na avaliação do compartimento posterior, com interesse na identificação do nódulo retrocervical e do retossigmóide. Foram graduados conforme a qualidade da imagem pelo examinador e por um radiologista (ambos mascarados), que marcaram uma nota de 0 a 10, usando a escala analógica visual. Restaram apenas 26 pacientes. Em relação ao desconforto devido a realização do enema retal, todas pacientes (100%) relataram apenas um desconforto discreto. Conforme a opção escolhida pelos avaliadores em relação ao melhor método, eles concordaram em 13 (50%) pacientes que a ultrassonografia transvaginal com preparo retal é melhor. Foi usado o teste não-paramétrico de Wilcoxon para amostras dependentes. O p-valor obtido foi de 0.042, considerado significativo (abaixo de 0.05). Isto significa que a realização do enema retal antes da realização da ultrassonografia transvaginal proporcionou uma qualidade melhor na avaliação dos nódulos. A diferença entre as avaliações com e sem preparo retal é maior nos nódulos menores que 2cm, porque encontramos a diferença de 1,1 entre os valores das medianas dos dois tipos de exames. Nos nódulos maiores que 2cm, a diferença encontrada foi de apenas 0,65. A realização do enema retal previamente à realização da ultrassonografia transvaginal no diagnóstico do nódulo endometriótico mostra uma melhora discretamente significativa na qualidade da imagem, comparativamente a não realização de preparo intestinal prévio. Somente nos casos onde o nódulo era menor que 2 cm, foram encontrados valores estatisticamente significativos com o preparo retal. O enema retal causa discreto desconforto, porém isto não parece ser um fator limitante na realização da ultrassonografia com preparo intestinal.

渐变折射率薄膜的分层评价探讨

首先阐述了将渐变折射率薄膜细分为多层均匀薄膜的分层介质理论，接着给出了一种获得最佳分层数目的分层评价方法，最后以线性变化渐变折射率薄膜为例说明了如何优化获得渐变折射率薄膜的分层数目．研究发现：渐变折射率薄膜的分层数目与薄膜的厚度和薄膜的折射率变化快慢有关，在一定的折射率变化范围内，渐变折射率薄膜的分层数目随着薄膜厚度的增加先减小后增大．

渐变反射率镜的设计与制备

按照高斯型渐变反射率镜(GRM)的参数要求,采用了中间层厚度渐变的方案对膜系和掩模板形状进行设计.根据薄膜的实际需求和具体的沉积设备,设计了掩模和掩模切换装置.在一次高真空环境下镀制了渐变反射率镜的所有膜系.采用直接测量的方法,测量了高斯型渐变反射率镜反射率的径向分布.测试结果表明,用这种技术制备的样品,与设计要求基本一致.分析得出,掩模板形状与精度对镀制结果有影响.随着设计尺寸减小,掩模板对膜料分子的散射作用增强,使样品中心反射率小于设计要求,边缘出现旁瓣.提出了减小基片与掩模板之间的距离和提高膜厚监控的精度的改善方案.

退火对HfO2/SiO2多层膜残余应力的影响

用电子束蒸发方法在BK7基底上沉积了HfO2/SiO2多层膜。研究了200℃到400℃的退火对残余应力的影响。结果表明退火前的薄膜残余应力为压应力，在200℃退火后发展为张应力，然后张应力值随着退火温度的升高而增大。在400℃退火后，由于张应力太大，薄膜表面出现了裂纹。同时，随着退火温度的升高，晶粒尺寸长大，晶面间距降低。残余应力的变化与结构的演变相对应。

Thermal-mechanical modeling of nodular defect embedded within multilayer coatings

The initiation of laser damage within optical coatings can be better understood by thermal-mechanical modeling of coating defects. The result of this modeling shows that a high-temperature rise and thermal stress can be seen just inside the nodular defect compared to surrounding coating layers. The temperature rise and thermal stress tend to increase with seed diameter. Shallower seed tend to cause higher temperature rise and greater thermal stress. There is a critical seed depth at which thermal stress is largest. The composition of the seed resulting from different coating-material emission during evaporation can affect the temperature rise and thermal stress distribution.

Regime próprio de previdência e assistência social: uma análise do grau de conhecimento que o servidor público do Município do Rio de Janeiro detém em relação às informações gerenciais do regime previdenciário municipal

Em função dos problemas vivenciados na seguridade social ao longo da história os governos promoveram reformas estruturais com o objetivo de equacionar estes problemas e promover o equilíbrio das contas públicas. A seguridade social brasileira foi modulada em um sistema multipilar congregando uma previdência pública para cobertura de trabalhadores do setor privado (RGPS), uma previdência complementar (RPC) e uma previdência do setor público (RPPS). O RPPS é uma previdência de filiação obrigatória e contribuição compulsória, não permitindo aos seus contribuintes argüirem sua adesão, sendo um questionamento impraticável enquanto houver um vínculo empregatício. A compreensão do funcionamento do regime previdenciário ao qual está vinculado, suas obrigações e direitos enquanto contribuinte e beneficiário, apresenta-se de vital importância para a aquiescência de sua participação, assim como também a sua co-responsabilidade na gestão dos recursos aportados ao sistema. Neste contexto, este estudo teve como objetivo avaliar, por meio da realização de uma pesquisa de natureza descritiva e com adoção do método quantitativo para tratamento dos dados, se as informações contábeis geradas pelo regime previdenciário municipal são úteis ao processo decisório desta última classe de segurados previdenciários, os servidores públicos municipais. Os resultados obtidos evidenciaram que o servidor municipal demonstra um baixo interesse em obter informações previdenciárias principalmente financeiras e contábeis. Este baixo interesse advém de dois fatores: dificuldade de acesso (65% dos respondentes) e pouco conhecimento de temas relacionados tema tais como fontes de custeio e aplicação dos recursos (62%). O baixo interesse dos servidores públicos em obter informações quanto ao PREVIRIO/ FUNPREVI concede ao gestor do sistema liberdade para decidir os rumos que devem ser tomados para a instituição previdenciária. O servidor público precisa tomar conhecimento quanto aos resultados de gestão do sistema previdenciário e para isto são necessárias duas ações: de um lado uma intenção de agir do próprio servidor, tomando para si a responsabilidade pelos rumos do sistema. Do outro lado uma intenção próativa dos responsáveis pela gestão e pela elaboração de informações a serem disponibilizadas para este segmento de usuário.