灵长类大脑前额叶NE Alpha-2Ⅰ亚型受体参与记忆过程的证据

灵长类大脑前额皮质与感觉联合皮质和皮质下结构有广泛的纤维联系, 可广 泛接受来自体内外的感觉信息。前额皮质与注意和短时记忆过程都有关, 可能 主沟区与短时空间记忆的关系更为密切, 北区的去甲肾上腺素能系统参与短时记 忆过程, alpha-2Ⅰ去甲肾上腺素亚型受体与增强记忆有关。参23

1523nm He-Ne 横向塞曼激光器的理论及实验

Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z

Structural properties of ne implanted GaN

We report a study on the micro-structural changes in GaN due to neon ion implantation using the x-ray diffraction and Raman scattering techniques. An implantation dose of 10(14) cm(-2) was found unable to produce lattice deformation observable by Raman measurements. For higher doses of implantation several disorder activated Raman scattering centers were observed which corroborate the literature. A new dose dependent feature has been recorded at 1595 cm(-1) for higher implantation doses which is suggested to be the vibrational mode of microcavities produced in the lattice.

微量掺碳ne-SiC:H薄膜用于p-i-n太阳电池的窗口层

采用等离子增强化学气相沉积方法(PEVVD)制备了微量掺碳的p型纳米非晶硅碳薄膜(p-nc-SiC:H),反应气体为硅烷和甲烷,掺杂气体采用硼烷,沉积温度分别采用333 K,353 K和373 K.测量结果表明随着沉积温度增加和碳含量的增加,薄膜的光学带隙增加;薄膜具有较宽的带隙和较高的电导率,同时有较低的激活能(0.06 eV).Raman和XRD测量结果表明薄膜存在纳米晶.优化的p型纳米非晶硅碳薄膜作为非晶硅p-i-n太阳电池的窗口层,使得太阳电池的开路电压达到0.94 V.

ne-Si:H薄膜的内应力特性研究

测试了采用PECVD生长的氢化纳米硅(nc-Si：H)薄膜的内应力。利用XRD、Raman、AFM、 HRTEM研究了nc-Si：H薄膜的微结构，用全场薄膜应力测试仪测量了nc-Si：H薄膜的内应力。结果表明：nc-Si：H薄膜的内应力与薄膜的微结构密切相关，强烈依赖于制备工艺。压应力随掺杂浓度的提高而增加；在一定功率密度范围内掺磷nc-Si：H薄膜的压应力随功率密度增加而减少，并过渡为张应力；在373-523K之间，掺硼nc-Si：H薄膜的压应力随衬底温度升高而增加；nc- Si：H薄膜的压应力随氢气对硅烷稀释比的变化而变化。

激发态~(17)Ne双质子2p发射的实验

<正>在中国科学院近代物理研究所放射性束流装置RIBLL上完成了17Ne+197Au的实验,采用硅条探测器与CsI(Tl)+PIN探测器阵列进行运动学完全测量,研究了17Ne双质子发射的机制。实验选用

低速多电荷态离子He~(2+)、O~(2+)和Ne~(2+)与W靶表面相互作用的动能电子发射研究

本文报道了He2+,O2+和Ne2+与W靶表面相互作用中的动能电子产额随离子入射速度变化的实验测量结果.结果表明:在本实验的入射速度范围内,对同一入射离子,动能电子产额随入射离子的速度增大而线性增加.基于动能电子发射的机理,我们分析了影响动能电子产额的因素,理论上得出动能电子产额与入射速度增长呈线性增加的关系,取得了实验上和理论上一致的结果.