10 resultados para compósito alfa-SiAlON-SiC

em Consorci de Serveis Universitaris de Catalunya (CSUC), Spain


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Repàs de la trajectòria professional com a editor, començant com a editor de caire socialista i acabant col·laborant amb la dictadura de Primo de Rivera. Es fa especial menció al seu paper com a editor de Josep Pla i a la seva editorial, Ediciones Alfa

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Dintre del projecte del cotxe de baix consum “Àliga”, vehicle experimental que participa en la “Eco-Shell Marathon”, una competició internacional que es realitza anualment, el projecte tracta del disseny d’un banc de proves per a poder mesurar les pèrdues de fregament dels pneumàtics provant diferents pressions, càrregues suportades, angles de la direcció, tipus de pneumàtics i diversos components del sistema de direcció

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L’objecte del projecte és crear una interfície capaç d’obtenir paràmetres dels processos d’escairat i ranurat, tals com l’avanç, la profunditat de passada i el número de passades en funció de la rugositat superficial i tenint en compte tant els diferents factors i restriccions entrats per l’usuari com els que van ser estudiats, al seu moment, pels autors G. Halvei i R.D. Weill. L’aplicació informàtica formarà part d’un programa de dimensions majors que oferirà el càlcul de totes les operacions d’arrencada de ferritja

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La adherencia al tratamiento antiviral de la hepatitis crónica C (HCC) es una variable importante en la obtención de la respuesta viral sostenida (RVS). El objetivo de este trabajo es evaluar el impacto de un programa de atención multidisciplinar (PAM) en la adherencia y eficacia del tratamiento de la HCC. Se incluyeron 447 pacientes tratados con peginterferón-alfa-2a y ribavirina y se clasificaron en tres grupos: grupo control (2003-2004, n=147), grupo PAM (2005-2006, n=131) y grupo Validación-PAM (2007-2009, n=169). La adherencia y los porcentajes de RVS fueron superiores en los pacientes incluidos en los grupos PAM (94.6% y 77.1%) y Validación-PAM (91.7% y 74.6%) en comparación con el grupo control (78.9% y 61.9%) (p<0.05 para todos los casos).

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This paper deals with the determination of the interface density of states in amorphous silicon-based multilayers. Photothermal deflection spectroscopy is used to characterize two series of aSi:H/aSi1-xCx:H multilayers, and a new approach in the treatment of experimental dada is used in order to obtain accurate results. From this approach, an upper limit of 10^10 cm-2 is determined for the interface density of states.

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We investigated the influence of a hydrogenated disordered carbon (a-C:H) layer on the nucleation of diamond. Substrates c-Si<100>, SiAlON, and highly oriented pyrolytic graphite {0001} were used in this study. The substrate surfaces were characterized with Auger electron spectroscopy (AES) while diamond growth was followed with Raman spectroscopy and scanning electron microscopy (SEM). It was found that on silicon and SiAlON substrates the presence of the a-C:H layer enabled diamond to grow readily without any polishing treatment. Moreover, more continuous diamond films could be grown when the substrate was polished with diamond powder prior to the deposition of the a-C:H layer. This important result suggests that the nucleation of diamond occurs readily on disordered carbon surfaces, and that the formation of this type of layer is indeed one step in the diamond nucleation mechanism. Altogether, the data refute the argument that silicon defects play a direct role in the nucleation process. Auger spectra revealed that for short deposition times and untreated silicon surfaces, the deposited layer corresponds to an amorphous carbon layer. In these cases, the subsequent diamond nucleation was found to be limited. However, when the diamond nucleation density was found to be high; i.e., after lengthy deposits of a¿C:H or after diamond polishing, the Auger spectra suggested diamondlike carbon layers.

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In this work we will prove that SiC-based MIS capacitors can work in environments with extremely high concentrations of water vapor and still be sensitive to hydrogen, CO and hydrocarbons, making these devices suitable for monitoring the exhaust gases of hydrogen or hydrocarbons based fuel cells. Under the harshest conditions (45% of water vapor by volume ratio to nitrogen), Pt/TaOx/SiO2/SiC MIS capacitors are able to detect the presence of 1 ppm of hydrogen, 2 ppm of CO, 100 ppm of ethane or 20 ppm of ethene, concentrations that are far below the legal permissible exposure limits.

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En este trabajo se presenta un estudio químico y estructural de las capas metálicas de Pt y TaSix utilizadas como puerta catalítica en sensores de gas de alta temperatura basados en dispositivos MOS de SiC. Para ello se han depositado capas de diferentes espesores sobre substratos de Si. Los resultados muestran que con la reducción del espesor de Pt y con un recocido se consigue aumentar la rugosidad de las capas de puerta, lo que debería aumentar la sensibilidad y la velocidad de respuesta de los dispositivos que las incorporasen. Otro efecto del recocido es la transformación química del material de la puerta que, para capas delgadas de Pt con TaSix, produce la transformación total Pt en Pt2Ta, lo que podría afectar a las características catalíticas de la puerta. Los primeros resultados eléctricos indican que, a pesar de que las capas de Pt empleadas son gruesas y compactas, los diodos MOS túnel de SiC son sensibles a los gases CO y NO2, aunque presentan una velocidad de respuesta bastante lenta.

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En este trabajo se investiga la síntesis de estructuras SiC/Si mediante implantación iónica de carbono en Si. Las implantaciones se han realizado a energías entre 25 y 300 keV y las dosis en el rango lO^^ylO^^ cm , manteniendo el substrato a temperatura ambiente o 500°C. Algunas estructuras han sido recocidas a 1150°C. Los resultados indican que implantando a temperatura ambiente se forma una capa de SiC amorfa y de composición gradual, que recristaliza formando precipitados de ß-SiC con orientaciones aleatorias después del recocido. Además se forma un capa superficial rica en carbono, debida a la difusión del carbono hacia la superficie durante la implantación, y que desaparece con el recocido. Implantando a 500°C se forma directamente una capa con una muy alta densidad de precipitados de ß-SiC orientados preferencialmente con la matriz de silicio. Dada la estabilidad térmica y química de dicha capa se han realizado membranas de SiC mediante técnicas fotolitográficas y ataque químico selectivo, cuya rugosidad superficial es inferior a 6 nm. Estas membranas muestran unos gradientes de tensiones residuales, que prácticamente desaparecen después del recocido. Los resultados confirman la potencialidad de la implantación iónica para la formación de estructuras microme-cánicas de SiC sobre Si.