Temperature quenching mechanisms for photoluminescence of MBE-grown chlorine-doped ZnSe epilayers

We report on a detailed investigation on the temperature-dependent behavior of photoluminescence from molecular beam epitaxy (MBE)-grown chlorine-doped ZnSe epilayers. The overwhelming neutral donor bound exciton ((ClX)-X-0) emission at 2.797 eV near the band edge with a full-width at half-maximum (FWHM) of similar to 13 meV reveals the high crystalline quality of the samples used. In our experiments, the quick quenching of the (ClX)-X-0 line above 200 K is mainly due to the presence of a nonradiative center with a thermal activation energy of similar to 90 meV, The same activation energy and similar quenching tendency of the (ClX)-X-0 line and the I-3 line at 2.713 eV indicate that they originate from the same physical mechanism. We demonstrate for the first time that the dominant decrease of the integrated intensity of the I, line is due to the thermal excitation of the "I-3 center"-bound excitons to its free exciton states, leaving the "I-3 centers" as efficient nonradiative centers. The optical performance of ZnSe materials is expected to be greatly improved if the density of the "I-3 center" can be controlled. The decrease in the luminescence intensity at moderately low temperature (30-200 K) of the (ClX)-X-0 line is due to the thermal activation of neutral-donor-bound excitons ((ClX)-X-0) to free excitons. (C) 2000 Published by Elsevier Science B.V.

MOCVD生长Al_(0.48)Gao_(0.52)N/Al_(0.54)Ga_(0.36)N多量子阱的结构和光学特性

采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上生长了Al_(0.48)Gao_(0.52)N/Al_(0.54)Ga_(0.36)N多量子阱(MQWs)结构.通过双晶X射线衍射(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)和阴极荧光(CL)等测试技术,分别对样品的结构和光学特性进行了表征.在DCXRD图谱中,可以观察到明显的MQWs衍射卫星峰,通过拟和,MQWs结构中阱和垒的厚度分别为2.1和9.4 nm,Al组分分别为0.48和0.54.在AFM表面形貌图上,可以观察到清晰的台阶流,表明MQWs获得了二维生长;与此同时,MQWs结构存在一些裂缝,主要原因为AlGaNMQWs结构和下层GaN层间存在很大的应力.CL测试表明,AlGaN MQWs结构的发光波长为295 nm,处于深紫外波段,同时观察到处于蓝光、绿光波段的缺陷发光.

One-Dimensional InP-Based Photonic Crystal Quantum Cascade Laser Emitting at 5.36μm

An InP-based one-dimensional photonic crystal quantum cascade laser is realized. With photo lithography instead of electron beam lithography and using inductively coupled plasma etching, four-period air-semiconductor couples are defined as Bragg reflectors at one end of the resonator. The spectral measurement at 80K shows the quasi-continuous-wave operation with the wavelength of 5.36μm for a 22μm-wide and 2mm-long epilayer-up bonded device.

35MeV／u~(36)Ar+~(112,124)Sn反应中中等质量碎片关联函数的入射道依赖

测量了35MeV／u36Ar+112,124Sn反应中小角关联出射的中等质量碎片(IMF)约化速度关联函数．结果表明36Ar+124Sn反应系统中的约化速度关联函数在小约化速度处的反关联程度比36Ar+112Sn反应系统中的强,表现出明显的入射道依赖性．考察出射粒子对的单核子总动量时,发现这种差异主要来自于高动量粒子对的贡献．用三体弹道理论模型MENEKA分别计算了两个系统的IMF发射时标,在36Ar+112Sn反应系统中约为150fm／c,而在36Ar+124Sn反应系统中,约为120fm／c．同位旋相关的量子分子动力学计算表明,36Ar+124Sn系统中IMF的发射时间谱比36Ar+112Sn系统略有前移,相应地,其中心密度从最高点随时间的下降亦比36Ar+112Sn系统略快．

高电荷态离子~(207)Pb~(36+)与金属Nb表面作用产生的二次离子产额

本文报道了利用兰州重离子加速器国家实验室的ECR离子源引出的高电荷态离子207Pb36+入射到金属Nb表面产生的二次离子的实验测量结果.实验发现,二次离子产额Y随入射初动能Ek的增加有先增加后减小的关系,在初动能为576 keV时二次离子产额达到最大.通过对实验点做高斯拟合发现,曲线峰值对应的入射初动能为602 keV.分析表明,这是势能沉积作用与线性级联碰撞过程协同作用的结果.高电荷态离子本身携带的高势能沉积在靶表面引起势能溅射,促进了二次离子的发射;而主导二次离子溅射的过程是动能溅射,它与靶表面的动量沉积(核能损)过程密切相关.

高电荷态离子~(207)Pb~(q+)(24≤q≤36)与Si(110)固体表面作用的电子发射研究

报道了利用兰州重离子加速器国家实验室ECR源引出的高电荷态离子207Pbq+(24≤q≤36)入射到Si(110)表面产生的电子发射的实验测量结果.结果表明,高电荷态离子与固体表面相互作用产生的电子发射产额Y与入射离子的电荷态q、入射角度ψ和入射能量E都有很强的关联.首次发现,电子发射产额Y与入射角度ψ间有接近1/tanψ的关系.理论分析认为,这些过程与基于经典过垒模型的势能电子发射过程密切相关.

35MeV/u~(36)Ar+~(124)Sn反应中类弹产物的同位素分布特性

测量了 35MeV u36Ar +12 4 Sn反应中 5 .3°处类弹产物的同位素分布 ,观察到随着出射动能的增加 ,产物的平均中质比逐渐减小而接近弹核的平均中质比 .同位旋相关的量子分子动力学计算表明 ,随着反应时间的增加 ,类弹产物的平均出射动能逐渐减小而平均N Z值则逐渐增大 .另外 ,碰撞参数也影响类弹产物的同位素组成 :随着碰撞参数的减小 ,类弹产物的平均N Z值减小 .

35MeV/u~(36,40)Ar+~(112,124)Sn反应中同位旋自由度的弛豫

35MeV/u 36 ,40　Ar+ 112 ,12 4Sn反应中 ,在前角 5°和 2 0°观测到丰中子核与稳定核的产额比随粒子出射动能的增加而减小 ,而缺中子核与稳定核的产额比随动能的增加而增加 .对于某种元素 ,随着动能的减小 ,其平均中质比逐渐由弹核N/Z向靶核N/Z过渡 .这些现象表明在这样的入射能量下 ,周边或近周边碰撞过程中同位旋自由度没有完全达到平衡 .这种行为对两个靶核系统是相似的 ,但是同位素产额比的绝对值在 5°没有靶核相关性 ,而在 2 0°处却表现出明显的靶核相关性 .