MOCVD生长Al_(0.48)Gao_(0.52)N/Al_(0.54)Ga_(0.36)N多量子阱的结构和光学特性


Autoria(s): 王保柱; 安胜彪; 文环明; 武瑞红; 王晓君; 王晓亮
Data(s)

2009

Resumo

采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上生长了Al_(0.48)Gao_(0.52)N/Al_(0.54)Ga_(0.36)N多量子阱(MQWs)结构.通过双晶X射线衍射(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)和阴极荧光(CL)等测试技术,分别对样品的结构和光学特性进行了表征.在DCXRD图谱中,可以观察到明显的MQWs衍射卫星峰,通过拟和,MQWs结构中阱和垒的厚度分别为2.1和9.4 nm,Al组分分别为0.48和0.54.在AFM表面形貌图上,可以观察到清晰的台阶流,表明MQWs获得了二维生长;与此同时,MQWs结构存在一些裂缝,主要原因为AlGaNMQWs结构和下层GaN层间存在很大的应力.CL测试表明,AlGaN MQWs结构的发光波长为295 nm,处于深紫外波段,同时观察到处于蓝光、绿光波段的缺陷发光.

国家自然科学基金,河北省教育厅基金,河北科技大学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/15633

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/101855

Idioma(s)

中文

Fonte

王保柱;安胜彪;文环明;武瑞红;王晓君;王晓亮.MOCVD生长Al_(0.48)Gao_(0.52)N/Al_(0.54)Ga_(0.36)N多量子阱的结构和光学特性,光电子·激光,2009,20(11):1454-1457

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文