999 resultados para beta-SiC


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Highly (001) orientation LiGaO2 layers have been successfully fabricated on (100) beta-Ga2O3 surface by vapor transport equilibration (VTE) technique. The temperature is very important for the WE treatment. At low temperature (800 degrees C), LiGaO(2)layers are textured. As the temperature was raised to 1100 C the layer becomes highly oriented in the [100] direction. It shows that the best temperature for WE treatment is 1100 degrees C. This technique is promising to fabricate small lattice mismatch composite substrate of LiGaO2 (001)//beta-Ga2O3 (100) for GaN films. (c) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.

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We present a detailed quantum oscillation study of the Fermi surface of the recently discovered Yb-based heavy fermion superconductor beta-YbAlB4. We compare the data, obtained at fields from 10 to 45 T, to band structure calculations performed using the local density approximation. Analysis of the data suggests that f holes participate in the Fermi surface up to the highest magnetic fields studied. We comment on the significance of these findings for the unconventional superconducting properties of this material.

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Crystalline beta-BBO layers have been successfully prepared on (0 0 1)-oriented Sr2+-doped alpha-BBO substrates using vapor transport equilibration technique. The layers were characterized by X-ray diffraction, X-ray rocking curve and transmission spectra. The present results manifest that the VTE treatment time and powder ratio are important factors on the preparation of beta-BBO layers. beta-BBO layers with a highly (0 0 l) preferred orientation were obtained according to XRD profiles. The full width at half-maximum of the rocking curve for the layer is as low as about 1000 in., which shows the high crystallinity of the layer. These results reveal the possibility of fabricating beta-BBO (0 0 1) layers on (0 0 1)-oriented Sr2+-doped alpha-BBO substrates by VTE. (C) 2006 Elsevier Ltd. All rights reserved.

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Morphological defects in beta-barium borate (beta-BBO) thin films grown on Sr2+ -doped alpha-BBO substrates by liquid phase epitaxy (LPE) technique were studied by scanning electron micrograph (SEM), atomic force microscopy (AFM) and optical spectroscopy. The present results indicate that the main defects exit in beta-BBO thin films are microcracks and hollow structure. The formation of microcrack is due to the lattice mismatch and the difference of thermal expansion coefficients between substrate and film. The hollow structure might be caused during the combination of islands, which formed in the initial stage. (C) 2006 Elsevier GmbH. All rights reserved.

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beta-Ga2O3: Cr single crystals were grown by floating zone technique. Absorption spectra and fluorescence spectra were measured at room temperature. The values of field splitting parameter Dq and Racah parameter B were obtained by the peak values of absorption spectra. The value 10Dq/B=23.14 manifests that in beta-Ga2O3 crystals Cr3+ ions are influenced by low energy crystal field. After high temperature annealing in air, the Cr3+ intrinsic emission was enhanced and the green luminescence disappeared. The strong and broad 691 nm emission was obtained at 420 nm excitation due to the electron transition occurred from T-4(2) to (4)A(2). The studies manifest that the beta-Ga2O3 crystals have the potential application for tunable laser.

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The growth and fabrication of GaN/InGaN multiple quantum well (MQW) light emitting diodes ( LEDs) on ( 100) beta-Ga2O3 single crystal substrates by metal-organic chemical vapour deposition (MOCVD) technique are reported. x-ray diffraction (XRD) theta-2 theta. scan spectroscopy is carried out on the GaN buffer layer grown on a ( 100) beta-Ga2O3 substrate. The spectrum presents several sharp peaks corresponding to the ( 100) beta-Ga2O3 and ( 004) GaN. High-quality ( 0002) GaN material is obtained. The emission characteristics of the GaN/InGaN MQW LED are measurement. The first green LED on beta-Ga2O3 with vertical current injection is demonstrated.

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We observed and described some phenomena, which were that when a alpha-BBO crystal was irradiated by a focused femtosecond laser beam, the temperature effect happened in a minute area of focus, then the induced beta-BBO phase was separated within the minute area in the alpha-BBO crystal. (C) 2007 Elsevier B.V. All rights reserved.

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The magnetic behavior of Mn-doped beta-Ga2O3 is Studied from first-principles calculations within the generalized gradient approximation method. Calculations show that ferromagnetic ordering is always favorable for configurations in which two Mn ions substitute either tetrahedral or octahedral sites, and the ferromagnetic ground state is also sometimes favorable for configurations where one Mn ion substitutes a tetrahedral site and another Mn ion substitutes an octahedral site. However, the configurations of the latter case are less stable than those of the former. (c) 2008 Acta Materialia Inc. Published by Elsevier Ltd. All rights reserved.

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As doenças cardiovasculares possuem a maior taxa de óbitos no mundo, e notavelmente nos últimos anos as pesquisas genéticas sobre as mesmas estão baseadas em estudos de associação, no qual o gene suspeito que esteja em maior frequência entre os pacientes passa a ser considerado um possível fator causal. Os polimorfismos genéticos que ocorrem no receptor beta-adrenérgico podem resultar em mudanças significativas na função do receptor, podendo acarretar fisiopatologias. Neste trabalho, o objetivo foi estimar a diversidade e a frequência do polimorfismo Ser49Gly do gene do receptor beta-adrenérgico 1 a partir de uma amostra de 188 indivíduos da população do Estado do Rio de Janeiro. As frequências também foram analisadas a partir da estratificação da amostra por critério fenotípico em função do padrão de cor da pele em (negros e não negros) ou ancestralidade genética em (afrodescendente e não afrodescendente), definida através da informação dos marcadores de ancestralidade Indels e SNP de cromossomo Y, para avaliar se os padrões de ancestralidade ou cor da pele são fundamentais para a diferenciação e distanciamento genético. Fragmentos de interesse foram amplificados por PCR (reação de cadeia de polimerase) com primers específicos para o marcador Ser49Gly e as reações de genotipagem foram realizadas com enzimas de restrição Eco0109I. Os valores da heterozigosidade variaram entre 0,25-0,50 e 0,20-0,41 nos grupos estratificados por ancestralidade e cor da pele, respectivamente. No que diz respeito à análise do equilíbrio de Hardy-Weinberg, não houve um desvio significativo na distribuição do marcador nas amostras gerais do Estado do Rio de Janeiro, ou mesmo nas amostras estratificadas. A distribuição dos alelos na amostra dos 188 indivíduos da população geral do Rio de Janeiro (AC_RJ) mostrou uma frequência de 80,30% e 19,70% para o alelo selvagem e mutado Ser49Gly, respectivamente. A comparação das análises sobre a distribuição das frequências alélicas para este marcador mostrou a ocorrência de diferenças significativas na distribuição das frequências alélicas entre negros e não negros e afrodescendentes e não afrodescendentes. A diferença significativa observada entre os negros e afrodescendentes, foi em menor grau de distanciamento. A informação obtida em relação à ancestralidade foi crucial para a obtenção dos dados sobre o aumento da variável mutada do polimorfismo Ser49Gly nas populações negras e afrodescendentes do Estado Rio de Janeiro. Tal evidência, em combinação com estudos clínicos podem contribuir para uma análise pormenorizada do padrão de susceptibilidade à doença em questão, em falhas do mecanismo deste receptor.

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A presente dissertação objetiva a verificação do desempenho dos ensaios do tipo CRS, com velocidade controlada, quando comparados aos ensaios de adensamento oedométricos convencionais, SIC. O ensaio SIC é executado em vários estágios de carga, cada qual com vinte e quatro horas de duração e razão unitária entre o incremento de tensão e a tensão anterior, requerendo um prazo total de cerca de 10 dias para sua execução. Já o ensaio de adensamento com velocidade controlada, CRS, tem sua duração bastante reduzida, o que levou diversos pesquisadores da área de Geotecnia a concentrarem esforços no estudo de seu desempenho, visando sua utilização mais ampla. Para este estudo foi adquirido equipamento da empresa Hogentogler Inc., designado por GeoStar. Sua instalação, montagem e calibração foram realizadas no Laboratório de Mecânica dos Solos. Foram executados ensaios em corpos de prova obtidos de amostras de caulim, preparadas em laboratório, e também em amostras de solos originários de dois depósitos de diferentes regiões no Estado do Rio de Janeiro: baixada de Jacarepaguá e Itaboraí. A dissertação procurou detalhar a execução dos ensaios, as dificuldades da interpretação das planilhas originadas pelo sistema de aquisição de dados, acoplado ao equipamento GeoStar, as mudanças efetuadas, as ocorrências não previstas, a análise e interpretação dos resultados e a comparação dos parâmetros obtidos com os ensaios SIC e CRS. Procurou-se estudar o efeito da velocidade de deformação, histórico de tensões, qualidade dos corpos de prova, parâmetros do ensaio, facilidade de execução e desempenho. Verificou-se a simplicidade, rapidez e o desempenho satisfatório do ensaio CRS. Sugere-se estender estudos semelhantes a outros locais e, principalmente, a amostras de qualidade superior, na expectativa de confirmar as conclusões detalhadas nesta pesquisa.

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在4H-SiC基底上设计并制备了Al2O3/SiO2紫外双层减反射膜,通过扫描电镜(SEM)和实测反射率谱来验证理论设计的正确性。利用编程计算得到Al2O3和SiO2的最优物理膜厚分别为42.0nm和96.1nm以及参考波长λ=280nm处最小反射率为0.09%。由误差分析可知,实际镀膜时保持双层膜厚度之和与理论值一致有利于降低膜系反射率。实验中应当准确控制SiO2折射率并使Al2O3折射率接近1.715。用电子束蒸发法在4H-SiC基底上淀积Al2O3/SiO2双层膜,厚度分别为42nm和96nm。SEM截面图表明淀积的薄膜和基底间具有较强的附着力。实测反射率极小值为0.33%,对应λ=276nm,与理论结果吻合较好。与传统SiO2单层膜相比,Al2O3/SiO2双层膜具有反射率小,波长选择性好等优点,从而论证了其在4H-SiC基紫外光电器件减反射膜上具有较好的应用前景。

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4H-silicon carbide (SiC) metal-semiconductor-metal (MSM) ultraviolet (UV) photodetectors with Al2O3/SiO2 (A/S) films employed as antireflection/passivation layers have been demonstrated. The devices showed a peak responsivity of 0.12 A/W at 290 nm and maximum external quantum efficiency of 50% at 280 nm under 20 V electrical bias, which were much larger than conventional MSM detectors. The redshift of peak responsivity and response restriction effect were found and analyzed. The A/S/4H-SiC MSM photodetectors were also shown to possess outstanding features including high UV to visible rejection ratio, large photocurrent, etc. These results demonstrate A/S/4H-SiC photodetectors as a promising candidate for OEIC applications. (C) 2008 American Institute of Physics.

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Al2O3/SiO2 films have been deposited as UV antireflection coatings on 4H-SiC by electron-beam evaporation and characterized by reflection spectrum, scanning electron microscopy (SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The reflectance of the Al2O3/SiO2 films is 0.33% and 10 times lower than that of a thermally grown SiO2 single layer at 276 nm. The films are amorphous in microstructure and characterize good adhesion to 4H-SiC substrate. XPS results indicate an abrupt interface between evaporated SiO2 and 4H-SiC substrate free of Si-suboxides. These results make the possibility for 4H-SiC based high performance UV optoelectronic devices with Al2O3/SiO2 films as antireflection coatings. (C) 2007 Elsevier B.V. All rights reserved.

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Al2O3/SiO2 films have been prepared by electron-beam evaporation as ultraviolet (UV) antireflection coatings on 4H-SiC substrates and annealed at different temperatures. The films were characterized by reflection spectra, ellipsometer system, atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD) and Xray photoelectron spectroscopy (XPS), respectively. As the annealing temperature increased, the minimum reflectance of the films moved to the shorter wavelength for the variation of refractive indices and the reduction of film thicknesses. The surface grains appeared to get larger in size and the root mean square (RMS) roughness of the annealed films increased with the annealing temperature but was less than that of the as-deposited. The Al2O3/SiO2 films maintained amorphous in microstructure with the increase of the temperature. Meanwhile, the transition and diffusion in film component were found in XPS measurement. These results provided the important references for Al2O3/SiO2 films annealed at reasonable temperatures and prepared as fine anti-reflection coatings on 4H-SiC-based UV optoelectronic devices. (c) 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.