Influência da associação de catalisadores químicos na cimentação de pinos pré-fabricados de fibra de vidro

O objetivo deste estudo foi avaliar a Influência da associação de catalisadores químicos junto a diferentes sistemas adesivos autocondicionantes e cimentos resinosos de dupla polimerização, na cimentação de pinos pré-fabricados de fibra de vidro, quanto a sua resistência ao cisalhamento por extrusão - push out, seu grau de conversão e nanoinfiltração. Foram utilizadas trinta raízes bovinas extraídas, que tiveram seus canais obturados com guta-percha termoplastificada, divididas em três grupos: G1 - Adper SE Plus /Rely X ARC; G2- Adper SE Plus / Catalisador Scotchbond + Rely X ARC ; G3- Clearfil SE Bond / ED Primer + Panavia F. Após a cimentação dos pinos foram obtidas fatias das raízes, com 1mm de espessura, dos terços cervical (C), médio (M) e apical (A). O ensaio de resistência ao cisalhamento por extrusão foi realizado em máquina de ensaio universal EMIC D500 com carga de 100KN à velocidade de 1,0 mm/min, até o deslocamento do pino. Os dados obtidos no ensaio foram tabulados e submetidos à análise estatística. A análise de variância a dois critérios mostrou que apenas os fatores grupo e profundidade foram significativos, não sendo significativa a sua interação. O resultado do teste de Tukey (ρ≥0,05), para o fator grupo, mostrou que a menor média de resistência ao cisalhamento por extrusão foi obtida pelo grupo 3, que apresentou diferença estatística significativa para os grupos 1 e 2 que não diferiram entre si. Para o fator Profundidade a maior média foi obtida no terço cervical que apresentou diferença estatística significativa para os terços médio e apical que não diferiram entre si: A análise do grau de conversão foi feita após vinte e quatro horas e os fatores estudados foram os cimentos resinosos Panavia F e Rely X ARC e os catalisadores químicos ED Primer e Catalisador Scotchbond, na forma incorporada ou aplicada superficialmente aos cimentos, formando 10 grupos experimentais. Para o grau de conversão, o teste de Tukey mostrou que o catalisador químico não aumentou o grau de conversão do RelyX ARC, já para o Panavia F, este aumentou significativamente seu grau de conversão. Quanto a análise em MEV da nanoinfiltração para o fator grupo, o resultado do teste de Tukey (ρ≥0,05) mostrou que a maior média foi obtida pelo grupo 3 que apresentou diferença estatística significativa para os grupos 1 e 2, que não diferiram entre si. Para o fator Profundidade a maior média foi obtida no terço apical que apresentou diferença estatística significativa para o terço cervical, que não diferiu do terço médio. Conclusões: 1- A associação de catalisadores químicos não aumentou a resistência ao cisalhamento por extrusão dos pinos de fibra de vidro. 2- O cimento Panavia F é dependente de catalisador aumentar o grau de conversão. 3- A associação de catalisadores químicos não foi capaz de alterar o padrão da camada híbrida, representado pela nanoinfiltração. 4- A nanoinfiltração está associada inversamente ao grau de conversão dos sistemas de cimentação, o que contribui negativamente para a resistência adesiva de pinos de fibra de vidro.

一种同时测量温度和应变的光纤光栅传感器

报道了一种新型实用的用单根光纤布拉格光栅(FBG)实现温度和应变分离传感的技术。当光纤光栅一部分包层直径变小时，整个光栅可以看成由两个周期相同但直径不同的子光栅连接而成。理沦分析和实验都证实了这两个子光栅具有相同的温度敏感性和不同的应变敏感性．由此实现光纤光栅传感器中温度和应变两参数的分离测量，而且这两个子光栅的中心波长间距可以直接测量应变大小．温度变化不影响所测量的应变值。实验中光栅的一部分包层直径被HF酸腐蚀到82μm．获得了两子光栅应变响应系数分别为0．00201nm/με．0．000858nm/μ

NUMERICAL STUDY OF DAMMANN ARRAY ILLUMINATORS

The numerical solutions of binary-phase (0, tau) gratings for one-dimensional array illuminators up to 32 are presented. Some fabrication errors, which are due to position-quantization errors, phase errors, dilation (or erosion) errors, and the side-slope error, are calculated and show that even-number array illuminators are superior to odd-number array illuminators when these fabrication errors are considered. One (0, tau) binary-phase, 8 x 16 array illuminator made with the wet-chemical-etching method is given in this paper.

Fabrication of fused silica phase gratings with inductively coupled plasma technology

Inductively coupled plasma (ICP) technology is a new advanced version of dry-etching technology compared with the widely used method of reactive ion etching (RIE). Plasma processing of the ICP technology is complicated due to the mixed reactions among discharge physics, chemistry and surface chemistry. Extensive experiments have been done and microoptical elements have been fabricated successfully, which proved that the ICP technology is very effective in dry etching of microoptical elements. In this paper, we present the detailed fabrication of microoptical fused silica phase gratings with ICP technology. Optimized condition has been found to control the etching process of ICP technology and to improve the etching quality of microoptical elements greatly. With the optimized condition, we have fabricated lots of good gratings with different periods, depths, and duty cycles. The fabricated gratings are very useful in fields such as spectrometer, high-efficient filter in wavelength-division-multiplexing system, etc..

Efeito de um primer autocondicionante na resistência ao cisalhamento de bráquetes com compósito pré-incorporado

O uso de primers autocondicionantes e de bráquetes com compósito pré-incorporado tem sido apresentado como uma alternativa para a redução de passos clínicos. O propósito deste estudo foi avaliar o efeito de um primer autocondicionante (Transbond Plus Self-Etching Primer - SEP) na resistência ao cisalhamento de bráquetes com compósito pré-incorporado colados in vivo. A amostra consistiu de 92 dentes obtidos de 23 pacientes com indicação prévia de extração de 4 pré-molares. Os dentes foram divididos em 4 grupos, sendo os bráquetes colados pelo mesmo operador, alternando os quadrantes em cada paciente: Grupo 1 (controle) - Ácido fosfórico à 37% + primer (Transbond XT Primer) + compósito (Transbond XT Adhesive Paste) + bráquete convencional; Grupo 2 - Ácido fosfórico à 37% + primer + bráquete com compósito pré-incorporado; Grupo 3 SEP + compósito + bráquete convencional; Grupo 4 - SEP + bráquete com compósito pré-incorporado. Após 30 dias os pré-molares foram extraídos, sendo submetidos ao teste de resistência ao cisalhamento através da uma Máquina de Ensaios Universal, com velocidade de 0,5mm/min. Os dados obtidos pelos grupos foram analisados com 2-way ANOVA (p<0,05). As forças médias e desvios padrão obtidos foram os seguintes: Grupo 1 = 11,35 (2,36) MPa; Grupo 2 = 9,77 (2,49) MPa; Grupo 3 = 10,89 (2,60) MPa; e Grupo 4 = 10,16 (2,75) MPa. Não foi observada diferença significativa entre o uso do SEP e o de condicionador e primer tradicionais (p = 0,948). De qualquer modo, diferenças significativas na força de adesão foram observadas quando utilizados bráquetes com compósito pré-incorporado (p = 0,032). Pode ser concluído que a combinação do primer autocondicionante com o bráquete com compósito pré-incorporado apresentou valores de força de adesão adequados, sendo promissora para uso clínico.

Estudo aleatório e controlado do uso clínico de um primer autocondicionante na colagem de bráquetes ortodônticos

O uso de primers autocondicionantes tem sido proposto como uma alternativa para a redução de passos clínicos. O objetivo deste estudo clínico aleatório e controlado foi avaliar a performance de um sistema autocondicionante (Transbond Plus Self-Etching Primer, 3M Unitek - SEP) comparado a um sistema multipasso convencional (Transbond XT, 3M Unitek - TBXT) de colagem ortodôntica, durante um período de 12 meses. Vinte e oito pacientes participaram deste estudo, sendo estes alocados aos grupos SEP ou TBXT de forma aleatória, através de randomização em bloco. Um total de 548 bráquetes metálicos (Micro-Arch, prescrição Alexander, GAC International, Bohemia, NY) foram colados com uso da pasta adesiva Transbond XT (3M Unitek), sendo todos os produtos manuseados de acordo com as recomendações dos fabricantes. Foram totalizados 276 bráquetes no grupo controle e 272 no segundo. Curvas de sobrevivência Kaplan-Meier e o teste log-rank (p<0,05) foram utilizados para comparar o percentual de falhas adesivas para as duas técnicas. Ao final do período foram verificadas trinta e duas falhas adesivas (bráquetes descolados), sendo 19 (6,98%) falhas quando utilizado o primer autocondicionante (SEP) e 13 (4,71%) quando usado o primer convencional (TBXT). Não houve diferença significante entre a sobrevivência dos bráquetes entre os dois grupos avaliados (log-rank test, p=0,311). Quando a influência de gênero do paciente, arco dentário e tipo dentário (anterior ou posterior) foram analisados, somente o tipo dentário foi achado significante. Bráquetes de dentes posteriores apresentaram uma maior probabilidade de falha adesiva que os colados em dentes anteriores (p=0,013) Os autores concluem que o primer autocondicionante pode ser utilizado para colagem direta de bráquetes ortodônticos sem que sua sobrevivência clínica seja afetada.

Deep-etched high-density fused-silica transmission gratings with high efficiency at a wavelength of 1550 nm

We describe the design, fabrication, and excellent performance of an optimized deep-etched high-density fused-silica transmission grating for use in dense wavelength division multiplexing (DWDM) systems. The fabricated optimized transmission grating exhibits an efficiency of 87.1% at a wavelength of 1550 nm. Inductively coupled plasma-etching technology was used to fabricate the grating. The deep-etched high-density fused-silica transmission grating is suitable for use in a DWDM system because of its high efficiency, low polarization-dependent loss, parallel demultiplexing, and stable optical performance. The fabricated deep-etched high-density fused-silica transmission gratings should play an important role in DWDM systems. (c) 2006 Optical Society of America.

Polarizing beam splitter of a deep-etched fused-silica grating

We described a highly efficient polarizing beam splitter (PBS) of a deep-etched binary-phase fused-silica grating, where TE- and TM-polarized waves are mainly diffracted in the -1st and 0th orders, respectively. Tb achieve a high extinction ratio and diffraction efficiency, the grating depth and period are optimized by using rigorous coupled-wave analysis, which can be well explained based on the modal method with effective indices of the modes for TE/TM polarization. Holographic recording technology and inductively coupled plasma etching are employed to fabricate the fused-silica PBS grating. Experimental results of diffraction efficiencies approaching 80% for a TE-polarized wave in the -1st order and more than 85% for a TM-polarized wave in the 0th order were obtained at a wavelength of 1550 nm. Because of its compact structure and simple fabrication process, which is suitable for mass reproduction, a deep-etched fused-silica grating as a PBS should be a useful device for practical applications. (C) 2007 Optical Society of America

Wideband two-port beam splitter of a binary fused-silica phase grating

The usual beam splitter of multilayer-coated film with a wideband spectrum is not easy to achieve. We describe the realization of a wideband transmission two-port beam splitter based on a binary fused-silica phase grating. To achieve high efficiency and equality in the diffracted 0th and -1st orders, the grating profile parameters are optimized using rigorous coupled-wave analysis at a wavelength of 1550 nm. Holographic recording and the inductively coupled plasma dry etching technique are used to fabricate the fused-silica beam splitter grating. The measured efficiency of (45% x 2) = 90% diffracted into the both orders can be obtained with the fabricated grating under Littrow mounting. The physical mechanism of such a wideband two-port beam splitter grating can be well explained by the modal method based on two-beam interference of the modes excited by the incident wave. With the high damage threshold, low coefficient of thermal expansion, and wideband high efficiency, the presented beam splitter etched in fused silica should be a useful optical element for a variety of practical applications. (C) 2008 Optical Society of America.

Miniature pulse compressor of deep-etched gratings

We propose a miniature pulse compressor that can be used to compensate the group velocity dispersion that is produced by a commercial femtosecond laser cavity. The compressor is composed of two identical highly efficient deep-etched transmissive gratings. Compared with prism pairs, highly efficient deep-etched transmissive grating pairs are lightweight and small. With an optimized groove depth and a duty cycle, 98% diffraction efficiency of the -1 transmissive order can be achieved at a wavelength of 800 nm under Littrow conditions. The deep-etched gratings are fabricated in fused silica by inductively coupled plasma etching. With a pair of the fabricated gratings, the input positively chirped 73.9 fs pulses are neatly compressed into the nearly Fourier transform-limited 43.2 fs pulses. The miniature deep-etched grating-based pulse compressor should be of interest for practical applications. (c) 2008 Optical Society of America

Three-port beam splitter of a binary fused-silica grating

A deep-etched polarization-independent binary fused-silica phase grating as a three-port beam splitter is designed and manufactured. The grating profile is optimized by use of the rigorous coupled-wave analysis around the 785 nm wavelength. The physical explanation of the grating is illustrated by the modal method. Simple analytical expressions of the diffraction efficiencies and modal guidelines for the three-port beam splitter grating design are given. Holographic recording technology and inductively coupled plasma etching are used to manufacture the fused-silica grating. Experimental results are in good agreement with the theoretical values. (c) 2008 Optical Society of America.

Paths Towards High Efficiency Silicon Photovoltaics

While photovoltaics hold much promise as a sustainable electricity source, continued cost reduction is necessary to continue the current growth in deployment. A promising path to continuing to reduce total system cost is by increasing device efficiency. This thesis explores several silicon-based photovoltaic technologies with the potential to reach high power conversion efficiencies. Silicon microwire arrays, formed by joining millions of micron diameter wires together, were developed as a low cost, low efficiency solar technology. The feasibility of transitioning this to a high efficiency technology was explored. In order to achieve high efficiency, high quality silicon material must be used. Lifetimes and diffusion lengths in these wires were measured and the action of various surface passivation treatments studied. While long lifetimes were not achieved, strong inversion at the silicon / hydrofluoric acid interface was measured, which is important for understanding a common measurement used in solar materials characterization.

Cryogenic deep reactive ion etching was then explored as a method for fabricating high quality wires and improved lifetimes were measured. As another way to reach high efficiency, growth of silicon-germanium alloy wires was explored as a substrate for a III-V on Si tandem device. Patterned arrays of wires with up to 12% germanium incorporation were grown. This alloy is more closely lattice matched to GaP than silicon and allows for improvements in III-V integration on silicon.

Heterojunctions of silicon are another promising path towards achieving high efficiency devices. The GaP/Si heterointerface and properties of GaP grown on silicon were studied. Additionally, a substrate removal process was developed which allows the formation of high quality free standing GaP films and has wide applications in the field of optics.

Finally, the effect of defects at the interface of the amorphous silicon heterojuction cell was studied. Excellent voltages, and thus efficiencies, are achievable with this system, but the voltage is very sensitive to growth conditions. We directly measured lateral transport lengths at the heterointerface on the order of tens to hundreds of microns, which allows carriers to travel towards any defects that are present and recombine. This measurement adds to the understanding of these types of high efficiency devices and may aid in future device design.

Deep silicon grating as high-extinction-ratio polarizing beam splitter

A deep binary silicon grating as high-extinction-ratio reflective polarizing beam splitter (PBS) at the wavelength of 1550 nm is presented. The design is based on the phenomenon of total internal reflection (TIR) by using the rigorous coupled wave analysis (RCWA). The extinction ratio of the rectangular PBS grating can reach 2.5×105 with the optimum grating period of 397 nm and groove depth of 1.092 μm. The effciencies of TM-polarized wave in the 0th order and TE-polarized wave in the −1st order can both reach unity at the Littrow angle. Holographic recording technology and inductively coupled plasma (ICP) etching could be used to fabricate the silicon PBS grating.

一种利用相位掩模版对光栅波长进行微调的光栅刻写方法

提出并实验证实了一种刻写光栅时既能保护相位版又能对光栅的反射波长进行微调的方法．通过调整光纤和相位版之间的距离，利用1550nm单模光纤和掺铒分别实现了0．48nm和2．2nm的光栅反射波长的调节．在相位版和光纤之间的距离保持在3mm的条件下，既可以保护相位版又可以获得高质量的光栅．

静动结合的化学腐蚀法制备近场光学探针的理论分析

理论上分析了静动结合的化学腐蚀法制备探针的具体机理及过程。在静态腐蚀的过程中, 利用流体力学Young-Laplace方程的一级近似解获得了光纤插入到HF酸中形成的新月形高度。在动态腐蚀过程中, 详细分析了当静态腐蚀时间和动态腐蚀时间分别取不同值时, 光纤移动速度对光纤探针结构的影响。利用此法可制备出尖端锐利、大锥角或多锥体等各种结构的光纤探针。这为实验上制备出性能优良的探针, 为拓宽扫描近场光学显微镜的应用范围奠定基础。将上述理论分析的结果与本文实验中所得初步结果进行了比较, 所得结果一致。