Effect of rapid thermal annealing on Ti-AlN interfaces

The interface diffusion, reaction, and adherence of rapid thermal annealed Ti/ALN were investigated by RES, AES, SIMS, XRD and a scratch test. The experimental results show that diffusion and reaction occurs at the interface of Ti/AlN when the sample is rapidly annealed. During annealing, both the O adsorbed on the surface and doped in the AlN substrate diffuse into the Ti film. At low temperature TiO2 is produced. At higher temperature O reacts with the diffused Al in the Ti film and produces an Al2O3 layer in the middle of the film. N diffuses into the Ti film and produces TiN with an interface reaction. Ti oxide is produced at the interface between the film and the substrate. Scratch test results show that interface adherence is distinctly improved by rapid annealing at low temperature and decreases at higher temperature. (C) 1999 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

Topographic mapping skills for secondary students.

Ofrece a los estudiantes la comprensión de conocimientos geográficos y la posibilidad de practicar las habilidades topográficas. Incluye, además de mapas de gran formato organizados por continentes y material complementario sobre población y clima, imágenes de satélite y fotografías aéreas y al nivel del suelo. También, contiene actividades graduadas para ayudar a leer, interpretar y analizar los mapas topográficos.

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Se incluyen como anexos los elementos utilizados para la recogida de datos y an??lisis de la informaci??n para obtenci??n de conclusiones. No se expone en qu?? IES se lleva a cabo la investigaci??n. Resumen basado en el del proyecto de innovaci??n. Convocatoria de los Premios Nacionales de Investigaci??n e Innovaci??n Educativa 2005. Modalidad de Innovaci??n Educativa. Tercer Premio