Um método sintético de difusão para aceleração do esquema de fonte de espalhamento em cálculos SN unidimensionais de fonte fixa

O esquema iterativo de fonte de espalhamento (SI) é tradicionalmente aplicado para a convergência da solução numérica de malha fina para problemas de transporte de nêutrons monoenergéticos na formulação de ordenadas discretas com fonte fixa. O esquema SI é muito simples de se implementar sob o ponto de vista computacional; porém, o esquema SI pode apresentar taxa de convergência muito lenta, principalmente para meios difusivos (baixa absorção) com vários livres caminhos médios de extensão. Nesta dissertação descrevemos uma técnica de aceleração baseada na melhoria da estimativa inicial para a distribuição da fonte de espalhamento no interior do domínio de solução. Em outras palavras, usamos como estimativa inicial para o fluxo escalar médio na grade de discretização de malha fina, presentes nos termos da fonte de espalhamento das equações discretizadas SN usadas nas varreduras de transporte, a solução numérica da equação da difusão de nêutrons em grade espacial de malha grossa com condições de contorno especiais, que aproximam as condições de contorno prescritas que são clássicas em cálculos SN, incluindo condições de contorno do tipo vácuo. Para aplicarmos esta solução gerada pela equação da difusão em grade de discretização de malha grossa nas equações discretizadas SN de transporte na grade de discretização de malha fina, primeiro implementamos uma reconstrução espacial dentro de cada nodo de discretização, e então determinamos o fluxo escalar médio em grade de discretização de malha fina para usá-lo nos termos da fonte de espalhamento. Consideramos um número de experimentos numéricos para ilustrar a eficiência oferecida pela presente técnica (DSA) de aceleração sintética de difusão.

Technique for diagnosing x-ray laser beam quality by use of the moire signal

We present what we believe is a novel technique based on the moire effect for fully diagnosing the beam quality of an x-ray laser. Using Fresnel diffraction theory, we investigated the intensity profile of the moire pattern when a general paraxial beam illuminates a pair of Ronchi gratings in the quasi-far field. Two formulas were derived to determine the beam quality factor M-2 and the effective radius of curvature R-e from the moire pattern. On the basis of the results, the far-field divergence, the waist location, and the radius can be calculated further. Finally, we verified the approach by use of numerical simulation. (C) 1999 Optical Society of America [S0740-3232(99)01502-1].

Improved uniformity of target illumination by combining a lens array and the technique of spectral dispersion

A scheme using a lens array and the technique of spectral dispersion is presented to improve target illumination uniformity in laser produced plasmas. Detailed two-dimensional simulation shows that a quasi-near-field target pattern, of steeper edges and without side lobes, is achieved with a lens array, while interference stripes inside the pattern are smoothed out by the use of the spectral dispersion technique. Moving the target slightly from the exact focal plane of the principal focusing lens can eliminate middle-scale-length intensity fluctuation further. Numerical results indicate that a well-irradiated laser spot with small nonuniformity and great energy efficiency can be obtained in this scheme. (c) 2007 American Institute of Physics.

Nonlinear response and optical limiting in SrBi2Ta2O9 thin films

SrBi2Ta2O9 (SBT) thin films on quartz substrates were prepared by use of the pulsed-laser deposition technique. The nonlinear refractive indices, n(2), Of the SBT films were measured by use of z-scan techniques with picosecond pulses. Large negative nonlinear refractive indices of 3.84 and 3.58 cm(2)/GW were obtained for the wavelengths 532 nm and 1.064 mum, respectively. The two-photon absorption coefficient was determined to be 7.3 cm/GW for 532 nm. The limiting behavior of SBT thin film on a quartz substrate was investigated in an f/5 defocusing geometry by use of 38-ps-duration, 532-nm, 1.064-mum. laser excitation. (C) 2001 Optical Society of America.