Um problema de interferências quânticas: segregação de impurezas em sistemas metálicos nanoestruturados

Neste trabalho estudamos o problema da segregação de impurezas substitucionais em sistemas nanoestruturados metálicos formados pela justaposição de camadas (multicamadas). Utilizamos o modelo de ligações fortes (tight-binding) com um orbital por sítio para calcular a estrutura eletrônica desses sistemas, considerando a rede cristalina cubica simples em duas direções de crescimento: (001) e (011). Devido à perda de simetria do sistema, escrevemos o hamiltoniano em termos de um vetor de onda k, paralelo ao plano, e um ındice l que denota um plano arbitrario do sistema. Primeiramente, calculamos a estrutura eletrônica do sistema considerando-o formado por átomos do tipo A e, posteriormente, investigamos as modificações nessa estrutura eletrônica ao introduzirmos uma impureza do tipo B em um plano arbitrário do sistema. Calculamos o potencial introduzido por esta impureza levando-se em conta a neutralidade de carga através da regra de soma de Friedel. Calculamos a variação da energia eletrônica total ΔEl como função da posição da impureza. Como substrato, consideramos sistemas com ocupações iguais a 0.94 e 0.54 elétrons por banda, o que dentro do modelo nos permite chamá-los de Nie Cr. As impurezas sao tambem metais de transição - Mn, Fee Co. Em todos os casos investigados, foi verificado que a variação de energia eletrônica total apresenta um comportamento oscilatorio em função da posição da impureza no sistema, desde o plano superficial, até vários planos interiores do sistema. Como resultado, verificamos a ocorrencia de planos mais favoráveis à localização da impureza. Ao considerarmos um número relativamente grande de planos, um caso em particular foi destacado pelo aparecimento de um batimentono comportamento oscilatório de ΔEl. Estudamos também o comportamento da variação da energia total, quando camadas (filmes) são crescidas sobre o substrato e uma impureza do mesmo tipo das camadas é colocada no substrato. Levamos em conta a diferença de tamanho entre os átomos do substrato e os átomos dos filmes. Analisamos ainda a influência da temperatura sobre o comportamento oscilatório da energia total, considerando a expansão de Sommerfeld.

Czochralski growth and crystal structure of cerium-doped Lu2Si2O7 scintillator

Cerium-doped lutetium pyrosilicate crystal, Ce:Lu2Si2O7 (Ce:LPS), was grown by the Czochralski method. The segregation coefficient of Ce3+ ion was studied by the ICP-AES method. X-ray diffraction analysis showed that the structure of Ce:LPS crystal was monoclinic symmetry with space group of C2/m. Perfect cleavage planes (110) and imperfect cleavage planes (001) were observed by optical microscope. The reasons why it is difficult to grow crack-free crystals were studied. After optimized growth parameters, a Ce:LPS crystal with dimension of Phi 25 x 30 mm was grown, which is colorless, high optical quality, cracking-free and no inclusions. The transmittance of Ce:LPS crystal from 380 to 800 nm is over 82% and there is no observable absorption. (c) 2005 Elsevier B.V. All rights reserved.

Defect analysis in Czochralski-grown Yb : FAP crystal

Growth-induced defects in Yb:FAP crystals grown by the Czochralski method have been investigated by optical microscopy, chemical etching, scanning electron microscopy (SEM) and energy-dispersive spectroscopy (EDS). Anisotropic etching features have been observed on two FAP crystal planes: (0001) and (1010). The shape of etch pits on the (0001) plane is hexagonal, while the etch pits on the (1010) plane have a variety of irregular shapes. It is also found that the density of etch pit varies along the boule. Based on the experimental observations, the formation mechanisnis of growth defects are discussed, and methods for reducing the growth-induced defect concentration is proposed. (c) 2005 Elsevier B.V. All rights reserved.

Erretiroaren pentsioa eta adinez langile nagusien lan-bizitzaren luzamena

[Pentsio-sistema honela antolatzen da: lehen maila, kotizaziopeko pentsioak jasotzen ez dituztenei pentsioak ordaintzera bideratzen da; bigarren maila, Gizarte Segurantza edo kotizaziopeko pentsioena da; hirugarren maila, borondatezko gizarte-aurreikuspen osagarriari dagokio Euskal Autonomia Erkidegoan eta pentsio-planei Espainian. Bigarren mailan, Gizarte Segurantza banaketa-sisteman oinarritzen da. 2050ean erretiro-pentsioak finantzatzeko arazoak egotea espero da. Etorkizuneko egoerari aurre egiteko, 27/2011 Legearen eta 5/2013 Errege Lege Dekretuaren bitartez, erreformak burutu dira. Hirugarren mailan, Euskal Autonomia Erkidegoan gizarte-aurreikuspen osagarria Eusko Jaurlaritzaren esku dago eta Borondatezko Aurreikuspen Sozialeko Erakundeen (BASE) aurreikuspen-planak bertako pentsio-plan propioak dira. Lan honetan, batez ere, pentsio-sistemaren bigarren eta hirugarren mailak aztertuko ditut. Lehenengo marko teorikoa, ondoren alde praktikoa, eta azkenean datuetan oinarrituz proposamen batzuk eman eta ondorioak aterako ditut.]