997 resultados para Plasma (Ionized gases)
Resumo:
Tesis (Maestría en Ciencias en Producción Agrícola) UANL
Resumo:
Tesis (Maestría en Ciencias con Especialidad en Microbiología) U.A.N.L.
Resumo:
Tesis (Maestro en Ciencias de la Ingeniería Mecánica con Especialidad en Térmica y Fluidos - Universidad Autónoma de Nuevo León, 1999
Resumo:
Tesis (Maestro en Ciencias de la Ingeniería Eléctrica con Especialidad en Control) UANL, 2000.
Resumo:
Tesis (Maestría en Ciencias Químicas con Especialidad en Química Analítica) U.A.N.L.
Resumo:
Tesis (Maestría en Ciencias de la Ingeniería Mecánica con Especialidad en Materiales) UANL, 2011.
Resumo:
Tesis (Maestría en Ciencias con Especialidad en Biología Molecular e Ingeniería Genética) UANL, 2011.
Resumo:
Tesis (Maestría en Ciencias en Nutrición) UANL, 2014.
Resumo:
UANL
Resumo:
Tesis (Doctorado en Ciencias Agrícolas con Especialidad en Agua-Suelo) UANL
Resumo:
Tesis (Doctor en Ciencias con Acentuación en Alimentos) UANL, 2010.
Resumo:
La réalisation de dispositifs à des dimensions sous-micrométriques et nanométriques demande une maîtrise parfaite des procédés de fabrication, notamment ceux de gravure. La réalisation des ces dispositifs est complexe et les exigences en termes de qualité et de géométrie des profils de gravure imposent de choisir les conditions opératoires les mieux adaptées. Les simulations de l'évolution spatio-temporelle des profils de gravure que nous proposons dans cette thèse s'inscrivent parfaitement dans ce contexte. Le simulateur que nous avons réalisé offre la possibilité de mieux comprendre les processus qui entrent en jeu lors de la gravure par plasma de profils dans divers matériaux. Il permet de tester l'influence des paramètres du plasma sur la forme du profil et donc de déterminer les conditions opératoires optimales. La mise au point de ce simulateur s'appuie sur les concepts fondamentaux qui gouvernent la gravure par plasma. À partir de l'état des lieux des différentes approches numériques pouvant être utilisées, nous avons élaboré un algorithme stable et adaptable permettant de mettre en évidence l'importance de certains paramètres clés pour la réalisation de profils de gravure par un plasma à haute densité et à basse pression. Les capacités de cet algorithme ont été testées en étudiant d'une part la pulvérisation de Si dans un plasma d'argon et d'autre part, la gravure chimique assistée par les ions de SiO2/Si dans un plasma de chlore. Grâce aux comparaisons entre profils simulés et expérimentaux, nous avons montré l'importance du choix de certains paramètres, comme la nature du gaz utilisé et la pression du plasma, la forme initiale du masque, la sélectivité masque/matériau, le rapport de flux neutre/ion, etc. Nous avons aussi lié ces paramètres à la formation de défauts dans les profils, par exemple celle de facettes sur le masque, de parois concaves, et de micro-tranchées. Enfin, nous avons montré que le phénomène de redépôt des atomes pulvérisés entre en compétition avec la charge électrique de surface pour expliquer la formation de profils en V dans le Pt pulvérisé par un plasma d'argon.
Resumo:
Thèse numérisée par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal
Resumo:
Thèse numérisée par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal.
Resumo:
Mémoire numérisé par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal