Étude fondamentale de la gravure physico-chimique de SiO₂ dans un plasma haute densité
| Contribuinte(s) |
Margot, Joëlle |
|---|---|
| Data(s) |
28/05/2012
28/05/2012
13/03/2008
2007
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| Resumo |
Mémoire numérisé par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
fr |
| Palavras-Chave | #Gravure physico-chimique #Plasma #Profils de tranchées #Chlore #Photolithographie |
| Tipo |
Thèse ou Mémoire numérique / Electronic Thesis or Dissertation |
