Metodologia Problematizadora na formação de graduandos de Pedagogia em Comunicação Alternativa

A formação inicial de professores se constitui como objeto desta tese. Na presente pesquisa pretendi planejar, implementar e avaliar a eficácia de um programa de formação inicial de professores para atuar com Tecnologia Assistiva, principalmente com a Comunicação Alternativa e Ampliada, por meio de metodologia problematizadora. Para responder à pergunta principal do estudo A formação inicial de professores para atuar com TA, principalmente com a CAA, através de metodologia problematizadora favorece a modificação das preconcepções sobre deficiência e práticas desses futuros professores? foi necessário conhecer as concepções dos alunos de Pedagogia, assim como envolvê-los no planejamento do curso. Outro elemento fundamental na proposta de formação foi a Metodologia da Problematização aplicada a questões educacionais , que estimula o trabalho reflexivo, criativo e colaborativo. A pesquisa foi desenvolvida em dois estudos, durante o período de agosto de 2008 a dezembro de 2010. Uma pesquisa ação foi desenvolvida com 37 alunos da graduação do curso de Pedagogia, duas professoras responsáveis pela disciplina, 26 alunos com deficiência sem fala articulada, com idades entre 8 e 32 anos, cinco professoras de uma escola especial da rede pública de ensino. Os estudos foram desenvolvidos na Faculdade de Educação da UERJ em salas de aula e no Laboratório de Tecnologia Assistiva/Comunicação Alternativa (Lateca) e numa escola especial. Foram utilizados questionários, filmagens, vídeos e vários recursos de tecnologia assistiva. Os procedimentos metodológicos foram os seguintes: 1. Aplicação de questionário com objetivo duplo caracterizar os graduandos de Pedagogia e apreender suas concepções a respeito de Educação Inclusiva, deficiência, TA e CAA. 2. Com base na análise dos questionários, levantei o perfil dos alunos, suas expectativas em relação a essa formação e as sugestões que direcionaram o planejamento e a implementação da oferta das aulas expositivas e das atividades práticas. 3. Oferta de aulas expositivas, acompanhadas de farto material audiovisual e do desenvolvimento de atividades práticas, que versaram sobre os seguintes temas: linguagem, comunicação e interação, deficiência, TA e CAA. 4. Os graduandos observaram, planejaram e desenvolveram uma proposta de intervenção direta para alunos com deficiência. Os estudos apontaram que houve modificação das concepções dos graduandos em relação aos conceitos de deficiência, TA e CAA. Os dados revelaram ainda que esse trabalho proporcionou aos graduandos uma oportunidade real de exercício da prática, com as seguintes características: partindo da observação da realidade de uma sala de aula ou sala de atendimento especializado, identificar problemas pedagógicos e escolher um deles como foco de uma investigação; refletir sobre os possíveis fatores e determinantes principais do problema selecionado e definir os pontos-chave do estudo; investigar esses pontos-chave; buscar informações em diversas fontes e analisá-las para responder ao problema, compondo, assim, a teorização; elaborar hipóteses de solução para o problema; e, por fim, aplicar uma ou mais das hipóteses de solução, como um retorno do estudo à realidade investigada. Verifiquei também, ao final do estudo, a imensa gama de recursos e estratégias de CAA, a adequação de material pedagógico e os recursos de acesso ao computador que foram criados pelos graduandos nesse atendimento aos alunos com deficiência. O estudo beneficiou, ainda, os professores e alunos da escola especial que, além de conhecer os recursos de TA e CAA, puderam vivenciar essa abordagem educacional diferenciada, proposta na formação inicial. Além disso, observei que os alunos com deficiência ampliaram as oportunidades de comunicação e interação social.

Ta2O5／SiO2硬膜双腔滤光片激光损伤特性研究

研究了Ta2O5／SiO2硬膜双腔干涉滤光片带内、带边及带外的吸收和激光损伤特性。实验发现，对于作用激光，带通滤光片的驻波场分布、吸收率和损伤阈值在带内、带边和带外的响应特性对作用激光波长均呈现出明显的选择性。根据实验结果，结合滤光片的驻波场分析，给出了带通滤光片的损伤机理。

窄带干涉滤光片抗击不同输出方式激光的损伤特性研究

利用Nd：YAG调Q单脉冲激光和自由脉冲激光对硬膜窄带干涉滤光片进行激光损伤阈值的测试，并且采用表面热透镜技术测量了滤光片的吸收率。实验发现：窄带干涉滤光片的吸收率和激光损伤阈值强烈依赖于辐照激光波长与窄带干涉滤光片通带的相对位置；在调Q单脉冲激光作用下，不同中心波长的滤光片损伤形貌存在明显的差别，而在自由脉冲激光作用下，各滤光片的损伤形貌则趋于相同．均表现为典型的热熔烧蚀破坏。根据实验结果，结合损伤形貌，通过驻波场理论对激光作用下滤光片内电场分布的分析与模拟．探讨了两种激光模式作用下滤光片的损伤特征和损

薄膜材料对TiO2基薄膜激光损伤阈值的影响

abstract {The optical property, structure, surface properties (roughness and defect density) and laser-induced damage threshold (LIDT) of TiO₂ films deposited by electronic beam (EB) evaporation of TiO₂ (rutile), TiO₂ (anatase) and TiO₂ + Ta₂O₅ composite materials are comparatively studied. All films show the polycrystalline anatase TiO₂ structure. The loose sintering state and phase transformation during evaporating TiO₂ anatase slice lead to the high surface defect density, roughness and extinction coefficient, and low LIDT of films. The TiO₂ + Ta₂O₅ composite films have the lowest extinction coefficient and the highest LIDT among all samples investigated. Guidance of selecting materials for high LIDT laser mirrors is given.}

Estudo do reparo das lesões induzidas no DNA de Escherichia coli pela radiação ultravioleta C (UVC)

Didaticamente, podemos dividir o espectro da radiação ultravioleta (UV) em três faixas: UVA (400 a 320 nm), UVB (320 a 290 nm) e UVC (290 a 100 nm). Apesar do UVC ou UV-curto ser eficientemente filtrado pela camada de ozônio da Terra e sua atmosfera, este é uma das faixas do espectro de UV mais usadas para explorar as consequências de danos causados ao DNA, já que a letalidade induzida por este agente está relacionada aos danos diretos no genoma celular, como as lesões dímero de pirimidina, que são letais se não reparadas. Contudo, demonstrou-se que a radiação UVC pode gerar espécies reativas de oxigênio (ERO), como o oxigênio singleto (1O2). Embora, o radical hidroxil (OH) cause modificações oxidativas nas bases de DNA, alguns trabalhos indicam que o 1O2 também está envolvido nos danos oxidativos no DNA. Esta ERO é produzida por vários sistemas biológicos e reações fotossensibilização, quando cromóforos são expostos à luz visível ou são excitados pela luz UV, permitindo que essa energia possa ser transferida para o oxigênio sendo convertido em 1O2, que é conhecido por modificar resíduos de guanina, gerando 8-oxoG, que caso não seja reparada pode gerar uma transversão GC-TA. O objetivo deste trabalho foi o de elucidar a participação de ERO nos efeitos genotóxicos e mutagênicos gerados pela radiação UVC, assim como as enzimas envolvidas no processo de reparação destas lesões em células de Escherichia coli. Nos ensaios as culturas foram irradiadas com o UVC (254 nm; 15W General Electric G15T8 germicidal lamp, USA). Nossos resultados mostram que o uso de quelantes de ferro não alterou a letalidade induzida pelo UVC. A azida sódica, um captador de 1O2, protegeu as cepas contra os danos genotóxicos gerados pelo UVC e também diminuiu a frequência de mutações induzidas no teste com rifampicina. A reversão específica GC-TA foi induzida mais de 2,5 vezes no ensaio de mutagênese. A cepa deficiente na proteína de reparo Fpg, enzima que corrige a lesão 8-oxoG, apresentou menos quebras no DNA do que a cepa selvagem no ensaio de eletroforese alcalina. A letalidade induzida pelo UVC foi aumentada nos mutantes transformados com o plasmídeo pFPG, ao mesmo tempo que representou uma redução na indução mutagênica. Houve dimuição na eficiência de transformação com plasmídeo pUC 9.1 na cepa fpg quando comparado a cepa selvagem. Assim como, um aumento da sensibilidade ao UVC na associação entre mutantes fpg e uvrA. Estes resultados mostram que o 1O2 participa dos danos induzidos pelo UVC, através da geração da lesão 8-oxoG, uma lesão mutagênica, que é reparada pela proteína Fpg

Influence of different substrates on laser induced damage thresholds at 1064 nm of Ta2O5 films

Ta2O5 films are prepared on Si, BK7, fused silica, antireflection (AR) and high reflector (HR) substrates by electron beam evaporation method, respectively. Both the optical property and laser induced damage thresholds (LIDTs) at 1064 nm of Ta2O5 films on different substrates are investigated before and after annealing at 673 K for 12h. It is shown that annealing increases the refractive index and decreases the extinction index, and improves the O/Ta ratio of the Ta2O5 films from 2.42 to 2.50. Moreover, the results show that the LIDTs of the Ta2O5 films are mainly correlated with three parameters: substrate property, substoichiometry defect in the films and impurity defect at the interface between the substrate and the films. Details of the laser induced damage models in different cases are discussed.

不同方法制备的Ta_2O_5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析

采用电子束蒸发(EBE)和离子束溅射(IBS)制备了不同的Ta_2O_5薄膜,同时对电子束蒸发制备的薄膜进行了退火处理。研究了制备的Ta_2O_5薄膜的光学性能、激光损伤阈值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂质含量。结果表明,退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善,接近离子束溅射的薄膜的光学性能。电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和杂质含量高,而与薄膜的散射和粗糙度关系不大。退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低,损伤阈值得到提高。退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量,因此选用高纯度的蒸发膜料和减少电子束蒸发过程中的污染有可能进一步提高薄膜的损伤阈值。