High-reflectance 193 nm Al2O3/MgF2 mirrors

Thin-film single layers of Al2O3 and MgF2 were deposited upon super polished fused-silica by electron-beam evaporation. The subsequent optical constants n and k were reported for the spectral range of 180-230 nm. High-reflectance dense multilayer coatings for 193 nm were designed on the basis of the evaluated optical constants and produced. The spectra of the reflectance of HR coatings were compared to the theoretical calculations. HR mirrors of 27 layers with a reflectance of more than 98% were reported. (c) 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.

Annealing effects on electron-beam evaporated Al2O3 films

The effects of post-deposited annealing on structure and optical properties of electron-beam evaporated Al2O3 single layers were investigated. The films were annealed in air for 1.5 h at different temperatures from 250 to 400 degrees C. The optical constants and cut-off wavelength were deduced. Microstructure of the samples was characterized by X-ray diffraction (XRD). Profile and surface roughness measurement instrument was used to determine the rms surface roughness. It was found that the cut-off wavelength shifted to short wavelength as the annealing temperature increased and the total optical loss decreased. The film structure remained amorphous even after annealing at 400 degrees C temperature and the samples annealed at higher temperature had the higher rms surface roughness. The decreasing total optical loss with annealing temperature was attributed to the reduction of absorption owing to oxidation of the film by annealing. Guidance to reduce the optical loss of excimer laser mirrors was given. (c) 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.

高反射率193nm Al2O3／MgF2反射膜的实验研究

用电子束热蒸发方法在熔融石英基底上沉积了Al2O3和MgF2两种材料的单层膜，研究了两种材料的光学特性，采用光度法计算并给出了薄膜材料在180～230nm的折射率n／和消光系数k的色散曲线。以两种材料作为高低折射率材料组合，采用1／4波长规整膜系设计并镀制了193nm的高反射膜，反射膜在退火后的反射率在193nm达到96％以上。结果表明在一定工艺条件下Al2O3和MgF2两种材料能够在193nm获得较好的光学性能，适用于高反射膜的制备。

Thickness dependence of structure and optical properties of silver films deposited by magnetron sputtering

A series of silver films with different thickness were prepared under identical conditions by direct current magnetron sputtering. The optical properties of the silver films were measured using spectrophotometric techniques and the optical constants were calculated from reflection and transmission measurements made at near normal incidence. The results show that the optical properties and constants are affected by films' thickness. Below the critical thickness of 17 nm at which Ag film forms a continuous film, the optical properties and constants vary significantly as the thickness of films increases and then tends to a stable value which is reached at 41 nm. X-ray diffraction measurements were carried out to examine the structure and stress evolution of the Ag films as a function of films' thickness. It was found that the interplanar distance of (111) orientation decreases when the film thickness increases and tends to be close to that of bulk material. The compressive strains also decrease with increasing thickness. (C) 2007 Published by Elsevier B.V.

热舟蒸发LaF_3薄膜的紫外性能研究

研究了沉积温度对热舟蒸发氟化镧薄膜结构和光学性能的影响,沉积温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率和反射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学损耗、光学常数以及带隙和截止波长的计算.采用表面轮廓仪进行了表面形貌和表面粗糙度的标定,采用X射线衍射(XRD)方法测量了不同沉积温度下样品的微结构.发现在短波长波段,随着沉积温度的升高,光学损耗增加,晶粒尺寸增大,表面粗糙度略有增加.不过散射损耗在光学损耗中所占比例均很小,光学损耗的增加主要由吸收损耗引起.随着沉积温度的升高,折射率与消光系数增大,带隙变小,相对应的截止波长向长波方向移动.

低损耗193nm增透膜

计算了适用于193nm增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数,并在此基础上对193nm增透膜进行了设计、制备与性能分析.发现基底材料的吸收损耗对增透膜元件的影响很大,超过一定值时,增透膜元件的设计透过率将达不到理想水平.对单面增透膜的设计与制备结果表明,当吸收损耗降低到一定程度,散射损耗成为不可忽略的因素.采用热舟蒸发方法实现了性能良好的193nm减反射膜,剩余反射率在0.2%以下.

Estudo da interação de antipsicóticos atípicos e albumina sérica com base em modelos matemáticos e espectrofluorimétricos

Os antipsicóticos são drogas utilizadas no tratamento de muitos transtornos psiquiátricos, sendo classificados em dois grupos: típicos e atípicos. Os típicos formam o grupo de drogas que bloqueiam especialmente os receptores de dopamina e, por isto, causam efeitos colaterais característicos, que se manifestam através de sintomas extrapiramidais e podem terminar em discinesia tardia. Os atípicos apresentam eficácia antipsicótica similar à dos antipsicóticos típicos, mas produzem menos efeitos colaterais extrapiramidais e não causam discinesia tardia. Os antipsicóticos se ligam às proteínas plasmáticas, principalmente a albumina, a qual representa cerca de 60% do total das proteínas no soro humano. Neste trabalho estudamos os processos de interação de duas drogas antipsicóticas atípicas, risperidona e sulpirida, com as albuminas séricas humana (HSA) e bovina (BSA), através da técnica de supressão da fluorescência intrínseca do triptofano. A partir dos espectros de fluorescência, a análise dos dados foi feita obtendo-se os gráficos e as constantes de Stern-Volmer. A análise da supressão da fluorescência foi feita a partir da média aritmética dos dados oriundos dos experimentos realizados em cada condição adotada. Como a molécula da sulpirida é fluorescente desenvolvemos uma modelagem matemática do processo de interação, que nos permitiu então obter os dados referentes à supressão da fluorescência da proteína. Os resultados mostraram que a risperidona e a sulpirida suprimem a fluorescência de ambas albuminas por um processo de quenching estático, formando complexos droga-albumina. A risperidona tem uma afinidade com a HSA cerca de 6,5 vezes maior do que a sulpirida, a 37 oC. As constantes de associação calculadas para a interação risperidona-HSA, através da Teoria de Stern-Volmer, foram 1,43 ( 0,05) x 105 M-1, a 37 C, e 2,56 ( 0,09) x 105 M-1, a 25 C1; e para a sulpirida, 2,20 ( 0,08) x 104 M-1, a 37 C, e 5,46 ( 0,20) x 104 M-1, a 25 C. Como a taxa de quenching da BSA foi maior do que a da HSA, sugerimos que o sítio primário para a risperidona nas albuminas esteja localizado mais próximo ao domínio do triptofano 134 da BSA do que do domínio do triptofano 212 da HSA. O mesmo sugerimos com relação ao sítio para a sulpirida a 37 C.

SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析

精确的光学常数对于设计和制备高品质的光学薄膜非常重要,尤其是那些光学性能对折射率变化敏感的薄膜。SiO_2是一种常用的低折射率材料,因与常用基底折射率相近使其准确拟合有一定难度。实验通过离子束溅射制备了SiO_2单层膜。考虑测量时的误差和基底折射率的影响,采用透射率包络和反射率包络得到了SiO_2的折射率,并用所得折射率进行反演来对这两种途径在实际测量拟合过程中的准确性进行比对。分析表明,剩余反射率在实际的测量过程中误差更小,直接用测量镀膜前后基片的剩余反射率值可以更简便更准确地得到SiO_2的折射率,能达到10~(-2)的精度。

HfO2的纯度对紫外多层膜反射率的影响

用辉光放电质谱法和二次离子质谱仪测定了两种HfO2材料及它们相应的单层膜中的杂质含量，结果发现，无论是在体材料中还是在用电子束蒸发技术沉积的材料单层薄膜中，ZrO2都是这两种HfO2材料中最主要的杂质。而且，这两种HfO2材料中Zr含量的差别远远大于Ti、Fe含量的差别，这说明Zr含量的差别正是引起两种HfO2膜层光学性能差别的原因。用这两种不同纯度的HfO2材料与同一纯度的SiO2材料组合，沉积形成266nm的紫外反射镜，实验结果表明这两种反射镜的反射率分别在99.85% 和 99.15%左右。这个结果与依据单层膜得出的光学常数所设计的结果符合的很好。

Study on the layer structure of W/C multilayers deposited by magnetron sputtering using x-ray reflectivity

A study on the layer structure of W/C multilayers deposited by magnetron sputtering is reported. In the study, soft x-ray resonant reflectivity and hard x-ray grazing incidence reflectivity of the W/C multilayers were measured. The imperfections at the interface such as interdiffusion and formation of compounds were dealt with by two methods. On analyzing the experimental results, we found that the incorporation of an interlayer was a more suitable method than the traditional statistical method to describe the layer structure of a W/C system we fabricated. The optical constants of each layer at a wavelength of 4.48 nm were also obtained from the analysis. Copyright (C) 2008 John Wiley & Sons, Ltd.

Optical properties and microstructure of Ta2O5 biaxial film

This study investigates the optical properties and microstructure of Ta2O5 film deposited with the glancing angle deposition technique. The tilted nanocolumn microstructure, examined with scanning electron microscopy, induces the optical anisotropy of thin film. The optical properties of thin film are characterized with an inverse synthesis method. Based on the Cauchy model, the dispersion equations of optical constants of film are determined from the transmittance spectra measured at normal and oblique incidence over 400-800 nm. The starting values derived with an envelope method quicken the optimization process greatly. The dispersion of the principal indices N-1, N-2, and N-3 and the thickness d of thin film are presented statistically. A good agreement between the measured optical properties and theoretical calculation is obtained, which validates the model established for thin film produced by glancing angle deposition. (C) 2008 Optical Society of America

Aplicações do formalismo de Keldysh ao transporte e ao bombeamento de calor em nanoestruturas

Num regime balísstico e a baixas temperaturas, a fórmula de Landauer dá uma boa descrição do transporte de calor para nano-junções conectadas a dois fios acoplados a banhos térmicos a temperaturas diferentes. Partindo de um modelo microscópico e utilizando o método de funções de Green fora do equilíbrio, é possível obter uma expressão para a condutância térmica na nano-junção equivalente a fórmula de Landauer. Esta depende dos valores das constantes de acoplamento entre os modos de fônons da região central e dos fios, além do gradiente térmico. A expressão para a condutância térmica é muito semelhante aquela obtida para a condutância elétrica. Neste trabalho nós apresentamos o método para o cálculo de grandezas relacionadas ao transporte térmico em um regime onde não há um gradiente de temperatura entre os reservatórios mas o sistema sofre uma perturbação dependente do tempo. Ou seja, com uma escolha conveniente da parametrização temporal dos termos de acoplamento entre a nano-junção e os fios é possível produzir uma corrente de calor na ausência de diferença de temperaturas entre os banhos térmicos aos quais os fios estão conectados. Esse fenômeno caracteriza o bombeamento de calor. Desenvolvemos uma teoria de transporte dependente do tempo para descrever o bombeamento. A teoria é geral, dependendo da densidade de fônons, da intensidade e dependência temporal do acoplamento. Aplicamos o formalismo em um modelo simples demonstrando que, em princípio, é possível bombear calor através de uma cadeia linear de átomos sem gradiente térmico.

Constantes de acoplamento de vértices com mésons estranhos e charmosos usando as regras de soma da QCD

Neste trabalho, foram calculados os fatores de forma e as constantes de acoplamento dos vértices mesônicos J/ψ DsDs, J/ψ Ds*Ds e J/ψ Ds*Ds*usando a técnica das regras de soma da QCD (RSQCD) até a ordem 5 da OPE. Estes três vértices estão envolvidos em algumas das numerosas hipóteses que tentam explicar a estrutura interna de alguns mésons charmosos exóticos que começaram a ser observados a partir de 2003. Tais mésons não se encaixam no espectro do charmonium e/ou apresentam números quânticos exóticos dentro do modelo CQM (constituent quark model). Um exemplo é o méson Y(4140), cujo decaimento observado é no par J/ψφ enquanto o esperado seria que tivesse decaimento predominante em mésons com open charm, devido à sua massa. Uma das propostas para se entender este méson consiste em estudá-lo como um estado molecular Ds*ar{D}s*, de modo que seu decaimento seria Y(4140) → Ds* ar{D}s* → J/ψφ. Neste processo, aparecerão os vértices de interação estudados neste trabalho, de maneira que o conhecimento mais preciso de seus fatores de forma e de suas constantes de acoplamento pode beneficiar a compreensão sobre a constituição fundamental do Y(4140) assim como a de outros novos estados como o X(4350), Y(4274) e Y(4660) por exemplo. Foram considerados neste trabalho, todos os casos off-shell possíveis para cada um dos três vértices, obtendo assim dois fatores de forma distintos para o vértice J/ψ DsDs, três para o vértice J/ψ Ds*Ds e dois para o vértice J/ψ Ds* Ds*. Nestes três vértices, os fatores de forma para o caso J/ψ off-shell foram bem ajustados por curvas monopolares enquanto os casos Ds e Ds* foram ajustados por curvas exponenciais, o que está de acordo com o comportamento encontrado em trabalhos anteriores do grupo. Os cálculos das constantes de acoplamento tiveram como resultados: g_{J/ψ Ds Ds} = 5.98^{+0.67}_{ -0.58}, g_{J/ψ D*s Ds} = 4.30_{+0.41}^{-0.35}GeV^{-1} e g_{J/ψ Ds* Ds*} = 7.47^{+1.04}_{-0.71}, resultados estes que estão compatíveis com os trabalhos anteriores que utilizaram as RSQCD para o cálculo das constantes de acoplamento dos vértices J/ψ D(*)D(*).

Avaliação do efeito da interação solo estrutura sobre o comportamento estrutural de edificações em aço e mistas (aço concreto).

O conhecimento do tema da interação solo-estrutura permite que as edificações sejam projetadas de maneira mais realista com o comportamento físico. Há décadas atrás seria inviável um dimensionamento considerando a deformabilidade do solo de fundação, e as estruturas eram dimensionadas adotando-se as fundações como indeslocáveis, sob uma base rígida. Essa consideração conduz a respostas estruturais inadequadas, por vezes comprometendo a segurança e a estabilidade do conjunto estrutural. Atualmente, o avanço tecnológico permite a obtenção de resultados de milhões de cálculos matemáticos em questões de segundos, podendo-se obter soluções mais arrojadas e dinâmicas, facilitando o dimensionamento estrutural de forma a atender ao novo padrão de construção e arquitetura. A relevância de tal assunto motivou a análise numérica de um edifício de 4 pavimentos de estrutura mista (aço-concreto), considerando o efeito da interação solo-estrutura. As análises foram conduzidas com o programa ANSYS, de elementos finitos, substituindo-se os apoios indeslocáveis por molas discretas, lineares e elásticas, com rigidez equivalente ao solo, conforme hipótese de Winkler. Os parâmetros dos solos de fundação foram adquiridos a partir de correlações empíricas existentes na literatura e da utilização do programa computacional PLAXIS para a determinação das constantes elásticas das molas. Neste trabalho, foram comparados os resultados de reações verticais, esforços normais, momentos fletores e deslocamentos da estrutura obtidos pelo modelo clássico de projeto, que considera apoios indeslocáveis, e pelo modelo de Winkler, que considera a interação solo-estrutura. As análises foram executadas para seis diferentes tipos de solos argilosos, siltosos e arenosos. Os resultados obtidos mostraram claramente a redistribuição dos momentos fletores, esforços normais e reações verticais nos pilares com diferenças significativas para os pilares de canto e periféricos. Observou-se uma tendência de alívio dos esforços nos pilares mais solicitados, adotando a estrutura assentada em uma base rígida. As análises ressaltaram a relevância da interação solo-estrutura, com efeitos provenientes do rearranjo do solo de fundação nos elementos estruturais das edificações.

Fatores de forma em processos com mésons B

Neste trabalho calculamos os fatores de forma e constantes de acoplamento para os vértices B*sBK, B*BsK e BsBK* usando as Regras de Soma da Cromodinâmica Quântica (QCD). Ainda estão incluídos os diagramas não perturbativos. Nós usamos a técnica de considerar dois mésons fora da camada de massa para obter dois fatores de forma diferentes a fim de diminuir as incertezas. Os cálculos das incertezas foram incluídos neste trabalho.