Ta2O5/SiO2 insulating acoustic mirrors for AlN-based X-band BAW resonators

This work describes the performance of AlN-based bulk acoustic wave resonators built on top of insulating acoustic reflectors and operating at around 8 GHz. The acoustic reflectors are composed of alternate layers of amorphous Ta2O5and SiO2 deposited at room temperature by pulsed-DC reactive sputtering in Ar/O2 atmospheres. SiO2 layers have a porous structure that provides a low acoustic impedance of only 9.5 MRayl. Ta2O5 films exhibit an acoustic impedance of around 39.5 MRayl that was assessed by the picoseconds acoustic technique These values allow to design acoustic mirrors with transmission coefficients in the centre of the band lower than -40 dB (99.998 % of reflectance) with only seven layers. The resonators were fabricated by depositing a very thin AlN film onto an iridium bottom electrode 180 nm-thick and by using Ir or Mo layers as top electrode. Resonators with effective electromechanical coupling factors of 5.7% and quality factors at the antiresonant frequency around 600 are achieved.

Refractive index changes in amorphous SiO2 (silica) by swift ion irradiation

The refractive index changes induced by swift ion-beam irradiation in silica have been measured either by spectroscopic ellipsometry or through the effective indices of the optical modes propagating through the irradiated structure. The optical response has been analyzed by considering an effective homogeneous medium to simulate the nanostructured irradiated system consisting of cylindrical tracks, associated to the ion impacts, embedded into a virgin material. The role of both, irradiation fluence and stopping power, has been investigated. Above a certain electronic stopping power threshold (∼2.5 keV/nm), every ion impact creates an axial region around the trajectory with a fixed refractive index (around n = 1.475) corresponding to a certain structural phase that is independent of stopping power. The results have been compared with previous data measured by means of infrared spectroscopy and small-angle X-ray scattering; possible mechanisms and theoretical models are discussed.

Ionoluminescence as sensor of structural disorder in crystalline SiO2: determination of amorphization threshold by swift heavy ions

Ionoluminescence (IL) has been used in this work as a sensitive tool to probe the microscopic electronic processes and structural changes produced on quartz by the irradiation with swift heavy ions. The IL yields have been measured as a function of irradiation fluence and electronic stopping power. The results are consistent with the assignment of the 2.7 eV (460 nm) band to the recombination of self-trapped excitons at the damaged regions in the irradiated material. Moreover, it was possible to determine the threshold for amorphization by a single ion impact, as 1:7 keV/nm, which agrees well with the results of previous studies.

Electronic damage in quartz (c-SiO2) by MeV ion irradiations: Potentiality for optical waveguiding applications

The damage induced on quartz (c-SiO2) by heavy ions (F, O, Br) at MeV energies, where electronic stopping is dominant, has been investigated by RBS/C and optical methods. The two techniques indicate the formation of amorphous layers with an isotropic refractive index (n = 1.475) at fluences around 1014 cm−2 that are associated to electronic mechanisms. The kinetics of the process can be described as the superposition of linear (possibly initial Poisson curve) and sigmoidal (Avrami-type) contributions. The coexistence of the two kinetic regimes may be associated to the differential roles of the amorphous track cores and preamorphous halos. By using ions and energies whose maximum stopping power lies inside the crystal (O at 13 MeV, F at 15 MeV and F at 30 MeV) buried amorphous layer are formed and optical waveguides at the sample surface have been generated.

In-situ optical reflectance characterization of ion beam irradiation damage on crystalline (quartz) and amorphous (silica) SiO2

Outline: • Motivation, aim • Complement waveguide data on silica • Optical data in quartz • Detailed analysis, i.e. both fluence kinetics and resolution • Efficiency of irradiation and analysis, samples, time... • Experimental set-up description • Reflectance procedure • Options: light source (lasers, white light..), detectors, configurations • Results and discussion • Comparative of amorphous and crystalline phases

Electrical, photoelectrical and morphological properties of ZnO nanowire networks grown on SiO2 and on Si

ZnO nanofibre networks (NFNs) were grown by vapour transport method on Si-based substrates. One type of substrate was SiO2 thermally grown on Si and another consisted of a Si wafer onto which Si nanowires (NWs) had been grown having Au nanoparticles catalysts. The ZnO-NFN morphology was observed by scanning electron microscopy on samples grown at 600 °C and 720 °C substrate temperature, while an focused ion beam was used to study the ZnO NFN/Si NWs/Si and ZnO NFN/SiO2 interfaces. Photoluminescence, electrical conductance and photoconductance of ZnO-NFN was studied for the sample grown on SiO2. The photoluminescence spectra show strong peaks due to exciton recombination and lattice defects. The ZnO-NFN presents quasi-persistent photoconductivity effects and ohmic I-V characteristics which become nonlinear and hysteretic as the applied voltage is increased. The electrical conductance as a function of temperature can be described by a modified three dimensional variable hopping model with nanometer-ranged typical hopping distances.

Ion-beam damage induced in SiO2: Excitonic mechanisms under heavy electronic excitation

The Centro de Micro-Análisis de Materiales (CMAM) in the Universidad Autónoma de Madrid is carrying out an extensive research program on the processes induced by high energy heavy mass ions (SHI) on dielectric materials and their photonic applications [1?21]. A significant part of this activity constitutes a relevant contribution to the scientific program associated to the TECHNOFUSION project. It is performed in collaboration with the Instituto de Fusion Nuclear at the UPM, the CIEMAT, the Departamento de Física de Materiales at UAM and several other national institutions (INTA) and international laboratories (GANIL, France), Legnaro Italy, Grenoble?. The program has led to a large number of publications in reputed international journals.

Silicon nanopillar arrays with SiO2 overlayer for biosensing application

We present the fabrication of silicon dioxide (SiO2) coated silicon nanopillar array structures and demonstrate their application as sensitive optical biosensors. Colloidal lithography, plasma dry etching and deposition processes are used to fabricate SiO2 coated Si nanopillar arrays with two different diameters and periods. Proof of concept bio recognition experiments are carried out with the bovine serum albumin (BSA)/antiBSA model system using Fourier transform visible and IR spectrometry (FT-VIS-IR) in reflection mode. A limit of detection (LoD) value of 5.2 ng/ml is estimated taking in to account the wavenumber uncertainty in the measurements.

Desenvolvimento de materiais nanoestruturados à base de SiO2-Nb2O5 preparados por uma nova rota sol-gel com aplicações em fotônica

Este trabalho concentra-se na preparação e caracterizações estrutural e espectroscópica de materiais nanoestruturados à base de SiO2-Nb2O5 dopados e codopados com íons Er3+, Yb3+ e Eu3+ na forma de pós e guias de onda planares. Os nanocompósitos foram preparados através de uma nova rota sol-gel utilizando óxido de nióbio como precursor em substituição ao alcóxido de nióbio. A correlação estrutura propriedades luminescentes foi estudada por difração de raios X, microscopia eletrônica de transmissão, espectroscopia vibracional de absorção no infravermelho, espectroscopia vibracional de espalhamento Raman, análise térmica, reflectância difusa e especular, espectroscopia de fotoluminescência e acoplamento M-line. Inicialmente foi avaliado a influência da concentração de nióbio nas propriedades estruturais e luminescentes de nanocompósitos (100-x)Si-xNb dopados e codopados com íons Er3+, Yb3+ e Eu3+ tratados termicamente a 900 °C por 3h. A cristalização do Nb2O5 foi dependente da concentração de Nb na matriz, com a distribuição dos íons lantanídeos preferencialmente no Nb2O5, afetando as propriedades luminescentes. Para os nanocompósitos codopados com íons Er3+ e Yb3+ foram obtidos valores de largura de banda a meia altura (FWHM) da ordem de 70 nm na região de 1550 nm e tempos de vida de até 5,2 ms. A emissão na região do visível, decorrente de processos de conversão ascendente, revelou-se dependente da concentração de nióbio. Foi verificada emissão preferencial na região do verde para menores concentrações de Nb. Enquanto que, para as maiores concentrações, processos de relaxação cruzada levaram a um aumento relativo na intensidade de emissão na região do vermelho. A eficiência quântica de emissão dos nanocompósitos (100-x)Si-xNb dopados com Eu3+ variou com o comprimento de onda de excitação, refletindo os diferentes sítios de simetria ocupados por este íons nesta estrutura complexa. A influência da temperatura de tratamento térmico no processo de cristalização do Nb2O5 em nanocompósitos 70Si:30Nb codopados com íons Er3+ e Yb3+ foi avaliada. Material amorfo foi obtido a 700 °C enquanto que a 900 e 1100 °C foram identificas as fases ortorrômbica (fase T) e monoclínica (fase M) do Nb2O5. Intensa emissão na região de 1550 nm com valores de FWHM de 52 e 67 nm e tempos de vida de 5,6 e 5,4 ms foram verificados a 700 e 900 °C sob excitação em 977 nm, respectivamente. Por fim, foram obtidos guias de onda planares com excelentes propriedades ópticas e com grande potencial de aplicação em dispositivos de amplificação óptica. Especificamente, materiais fotônicos com banda larga de emissão na região do infravermelho foram preparados, indicando fortemente a potencialidade para a aplicação em telecomunicações envolvendo não somente a banda C como também as bandas L e S em materiais contendo somente íons Er3+ como centros emissores.

Catalisadores Ni/MgO-SiO2 aplicados na reação de reforma a vapor de glicerol

Catalisadores de Ni (10% em massa) suportado em matrizes mistas MgO-SiO2 foram aplicados na reação de reforma a vapor de glicerol. Os efeitos do teor de MgO como aditivo e do método de preparação foram avaliados frente às propriedades físico-químicas e texturais dos materiais; assim como à atividade, seletividade, estabilidade e formação de carbono na reforma a vapor do glicerol. Os catalisadores foram preparados com diferentes teores mássicos de MgO (10%, 30% e 50%) sobre SiO2 comercial, utilizando processo via seca (mistura física) e via úmida (impregnação sequencial com diferentes solventes: água, etanol e acetona). Foram utilizadas as técnicas de caracterização de espectroscopia de energia dispersiva de raios X, fisissorção de nitrogênio, difratometria de raios X, termogravimetria, difratometria de raios X in situ com O2, redução a temperatura programada com H2, difratometria de raios X in situ com H2, dessorção a temperatura programada com H2 e microscopia eletrônica de varredura. Foi observado que o Ni(II) interage de forma variada com os suportes com diferentes teores de MgO, e que a polaridade do solvente de impregnação utilizado no processo de preparação influencia as propriedades dos catalisadores. A fim de verificar a atividade, seletividade e deposição de carbono; os catalisadores foram testados na reação de reforma a vapor de glicerol a 600oC, por um período de 5h e razão molar água:glicerol de 12:1. Após as reações, os catalisadores foram novamente submetidos às análises de termogravimetria, difratometria de raios X e microscopia eletrônica de varredura, visando a caracterização dos depósitos de carbono obtidos durante o processo catalítico. Os catalisadores de matrizes mistas se mostraram ativos e apresentaram seletividades similares para os produtos gasosos CH4, CO e CO2, além de um alto rendimento em H2. Observou-se que a adição de MgO no suporte, aumentou a dispersão do Ni(II) no material, que por sua vez, influenciou na quantidade de carbono depositado ao longo da reação. A polaridade do solvente de impregnação também teve influência na dispersão metálica, sendo que, quanto menor a polaridade do solvente, maior foi a dispersão obtida no catalisador, e menor a deposição de carbono na reação. O material que apresentou o melhor desempenho catalítico frente ao rendimento de H2 e à deposição de carbono, foi o catalisador preparado com 30% de MgO com etanol como solvente de impregnação.

Electrocatalytic Performance of SiO2-SWCNT Nanocomposites Prepared by Electroassisted Deposition

Composite materials made of porous SiO2 matrices filled with single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) were deposited on electrodes by an electroassisted deposition method. The synthesized materials were characterized by several techniques, showing that porous silica prevents the aggregation of SWCNT on the electrodes, as could be observed by transmission electron microscopy and Raman spectroscopy. Different redox probes were employed to test their electrochemical sensing properties. The silica layer allows the permeation of the redox probes to the electrode surface and improves the electrochemical reversibility indicating an electrocatalytic effect by the incorporation of dispersed SWCNT into the silica films.