Analysis and Use of Information and Communication Tools in Economics of Climate Change

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Mecanizado por torneado en duro

[ES]Los objetivos del siguiente trabajo consisten en analizar e optimizar el proceso del torneado en duro del acero ASP-23 indagando de especial manera en la realización de diferentes soluciones para brochas. En este caso, este proyecto nace de la importancia de reducir así como los costes económicos y los costes temporales de fabricación de elementos basados en el acero ASP-23 mediante el torneado en duro; proceso de mecanizado, cuya importancia cada vez es mayor como en las industrias de automoción o aeronáutica. El desarrollo del proyecto es fruto de la necesidad de EKIN S. Coop, uno de los líderes en los procesos de máquina-herramienta de alta precisión para el brochado, de desarrollar un proceso de mecanizado más eficaz de las brochas que produce. Así en el aula máquina-herramienta (ETSIB) se han intentado demostrar los beneficios que tiene el torneado en duro en el mecanizado del ASP-23. Hoy en día, con el rápido desarrollo de nuevos materiales, los procesos de fabricación se están haciendo cada vez más complejos, por la amplia variedad de maquinas con las que se realizan los procesos, por la variedad de geometría/material de las herramientas empleadas, por las propiedades del material de la pieza a mecanizar, por los parámetros de corte tan variados con los que podemos implementar el proceso (profundidad de corte, velocidad, alimentación...) y por la diversidad de elementos de sujeción utilizados. Además debemos ser conscientes de que tal variedad implica grandes magnitudes de deformaciones, velocidades y temperaturas. He aquí la justificación y el gran interés en el proyecto a realizar. Por ello, en este proyecto intentamos dar un pequeño paso en el conocimiento del proceso del torneado en duro de aceros con poca maquinabilidad, siendo conscientes de la amplia variedad y dificultad del avance en la ingeniería de fabricación y del mucho trabajo que queda por hacer.

Análise da dissipação das tensões em dentes humanos restaurados com facetas laminadas de cerâmica, com três tipos de preparos, através do método dos elementos finitos

O objetivo deste trabalho é analisar in vitro a dissipação de tensões em incisivos centrais superiores humanos restaurados com facetas de cerâmica feldspática, através da análise do método dos elementos finitos, considerando cargas funcionais de mastigação e corte dos alimentos, em função de três tipos de preparos utilizados: sem proteção incisal; com proteção incisal em ângulo e com proteção incisal em degrau palatino. Foram utilizadas modelagens bidimensionais de um incisivo central superior e suas estruturas de suporte, simulando três situações: (Primeira modelagem) incisivo central superior com desgaste vestibular (em forma de janela); (Segunda modelagem) incisivo central superior com desgaste vestibular e proteção incisal em plano inclinado; (Terceira modelagem) incisivo central superior com desgaste vestibular, e proteção incisal com degrau palatino. Foi considerada uma carga (P=100N) com uma inclinação de 45 concentrada, simulando a região de contato do incisivo central inferior com o superior durante a mastigação e uma na região de contato topo a topo dos incisivos superior e inferior, simulando o corte dos alimentos. Após a análise dos dados obtidos pela distribuição de tensões, pode-se concluir que quanto à dissipação das tensões em todo o sistema proposto, com a aplicação de carga em 45, não foram observadas mudanças no estado tensional nos três diferentes preparos. Quando foi aplicada carga vertical, simulando o contato de topo, houve variação no estado tensional no sistema do dente com preparo em janela. Nas facetas, com a aplicação de carga em 45, nos preparos em janela e com proteção incisal em plano inclinado o resultado foi semelhante nos valores tensionais enquanto, nas facetas em dentes preparados com proteção incisal com degrau palatino, a distribuição foi mais homogênea tendo valores superiores, mostrando que o abraçamento do dente diminuiu a flexão.

Aberration measurement of projection optics in lithographic tools based on two-beam interference theory

The degradation of image quality caused by aberrations of projection optics in lithographic tools is a serious problem in optical lithography. We propose what we believe to be a novel technique for measuring aberrations of projection optics based on two-beam interference theory. By utilizing the partial coherent imaging theory, a novel model that accurately characterizes the relative image displacement of a fine grating pattern to a large pattern induced by aberrations is derived. Both even and odd aberrations are extracted independently from the relative image displacements of the printed patterns by two-beam interference imaging of the zeroth and positive first orders. The simulation results show that by using this technique we can measure the aberrations present in the lithographic tool with higher accuracy. (c) 2006 Optical Society of America.

Aberration measurement of projection optics in lithographic tools by use of an alternating phase-shifting mask

As a critical dimension shrinks, the degradation in image quality caused by wavefront aberrations of projection optics in lithographic tools becomes a serious problem. It is necessary to establish a technique for a fast and accurate in situ aberration measurement. We introduce what we believe to be a novel technique for characterizing the aberrations of projection optics by using an alternating phase-shifting mask. The even aberrations, such as spherical aberration and astigmatism, and the odd aberrations, such as coma, are extracted from focus shifts and image displacements of the phase-shifted pattern, respectively. The focus shifts and the image displacements are measured by a transmission image sensor. The simulation results show that, compared with the accuracy of the previous straightforward measurement technique, the accuracy of the coma measurement increases by more than 30% and the accuracy of the spherical-aberration measurement increases by approximately 20%. (c) 2006 Optical Society of America.

Measurement technique for in situ characterizing aberrations of projection optics in lithographic tools

As the feature size decreases, degradation of image quality caused by wavefront aberrations of projection optics in lithographic tools has become a serious problem in the low-k1 process. We propose a novel measurement technique for in situ characterizing aberrations of projection optics in lithographic tools. Considering the impact of the partial coherence illumination, we introduce a novel algorithm that accurately describes the pattern displacement and focus shift induced by aberrations. Employing the algorithm, the measurement condition is extended from three-beam interference to two-, three-, and hybrid-beam interferences. The experiments are performed to measure the aberrations of projection optics in an ArF scanner. (C) 2006 Optical Society of America.

A influência do corte com diferentes discos e velocidades na integridade dos espécimes e na resistência adesiva de uma cerâmica a um cimento resinoso dual em ensaio de microtração

Esta pesquisa estudou a influência de diferentes velocidades de corte e marcas de discos diamantados nos valores de resistência adesiva, durante a preparação dos espécimes a serem submetidos à microtração, e na integridade das amostras por meio do microscópio eletrônico de varredura (MEV). Vinte blocos da cerâmica à base de dissilicato de lítio (IPS e.max Press) foram unidos com cimento resinoso (Rely X ARC) a blocos de compósito (Z100), construídos incrementalmente. Foram seguidas as recomendações dos fabricantes no tratamento da superfície da cerâmica e aplicação do cimento resinoso. Após 24 horas em água destilada a 37C, os espécimes foram divididos em dois grupos de discos: marcas Buehler e Extec e subdivididos nas velocidades de 200rpm e 400rpm (B2; E2; B4 e E4, respectivamente). Cada espécime foi cortado em dois eixos perpendiculares para obtenção de palitos com área adesiva de 1,0mm. Para cada condição experimental, os palitos foram separados, aleatoriamente, 15 palitos para análise ao MEV e 30 palitos para serem submetidos à força de tração. As médias de resistência adesiva em MPa foram E4=20,312 ; B4= 24,2 11,3 ; B2= 25,2 9,0 e E2= 28,6 10,4. Na análise estatística, observou-se que os valores de resistência adesiva na velocidade de 200rpm foram significativamente maiores comparados a velocidade de 400rpm, independente do disco empregado. Ao MEV, observou-se melhor integridade dos palitos na velocidade de 200rpm com presença de trincas menos extensas nas bordas externas. Constatou-se também que o disco Extec na velocidade de 400rpm apresentou movimentos excêntricos ao corte e obteve-se maior número de perdas prematuras, uma diminuição significante na média da área total de união (p<0,05), além de diferença significativa nos valores de resistência comparada a velocidade de 200rpm. Concluiu-se que a utilização de diferentes velocidades e sua interação com o disco empregado interfere na integridade dos espécimes e nos valores de resistência adesiva, sendo mais acentuada ao se utilizar o disco da marca Extec.

Coma measurement of projection optics in lithographic tools based on relative image displacements at multiple illumination settings

In this paper, we propose a novel method for measuring the coma aberrations of lithographic projection optics based on relative image displacements at multiple illumination settings. The measurement accuracy of coma can be improved because the phase-shifting gratings are more sensitive to the aberrations than the binary gratings used in the TAMIS technique, and the impact of distortion on displacements of aerial image can be eliminated when the relative image displacements are measured. The PROLITH simulation results show that, the measurement accuracy of coma increases by more than 25% under conventional illumination, and the measurement accuracy of primary coma increases by more than 20% under annular illumination, compared with the TAMIS technique. (c) 2007 Optical Society of America.

Experimental investigation of optical beam deflection based on PLZT electro-optic ceramic

Based on the optical characteristics of PLZT electro-optic ceramic, two kinds of electro-optic deflectors, triangular electrode structure and optical phased array technology, are studied in detail by using transverse electro-optic effect. Theoretically, the electro-optic deflection characteristics and mechanisms of the deflectors are analyzed. Experimentally, the optical characteristics of ceramic wafer, such as the phase modulation, the hysteresis and the electro-induced loss characteristics, are measured firstly, and then the beam deflection experiments are designed to verify the theoretical results. Moreover, the effect of temperature on the performance of triangular electrode deflector is investigated. The characteristics of both deflectors are also compared and illuminated. (c) 2007 Optical Society of America.