Silicon-containing species in used lube oil re-refining

Nowadays, the re-refining of the used lube oils has gained worldwide a lot of attention due to the necessity for added environmental protection and increasingly stringent environmental legislation. One of the parameters determining the quality of the produced base oils is the composition of feedstock. Estimation of the chemical composition of the used oil collected from several European locations showed that the hydrocarbon structure of the motor oil is changed insignificantly during its operation and the major part of the changes is accounted for with depleted oil additives. In the lube oil re-refining industry silicon, coming mainly from antifoaming agents, is recognized to be a contaminant generating undesired solid deposits in various locations in the re-refining units. In this thesis, a particular attention was paid to the mechanism of solid product formation during the alkali treatment process of silicon-containing used lube oils. The transformations of a model siloxane, tetramethyldisiloxane (TMDS), were studied in a batch reactor at industrially relevant alkali treatment conditions (low temperature, short reaction time) using different alkali agents. The reaction mechanism involving solid alkali metal silanolates was proposed. The experimental data obtained demonstrated that the solids were dominant products at low temperature and short reaction time. The liquid products in the low temperature reactions were represented mainly by linear siloxanes. The prolongation of reaction time resulted in reduction of solids, whereas both temperature and time increase led to dominance of cyclic products in the reaction mixture. Experiments with the varied reaction time demonstrated that the concentration of cyclic trimer being the dominant in the beginning of the reaction diminished with time, whereas the cyclic tetramer tended to increase. Experiments with lower sodium hydroxide concentration showed the same effect. In addition, a decrease of alkali agent concentration in the initial reaction mixture accelerated TMDS transformation reactions resulting in solely liquid cyclic siloxanes yields. Comparison of sodium and potassium hydroxides applied as an alkali agent demonstrated that potassium hydroxide was more efficient, since the activation energy in KOH presence was almost 2-fold lower than that for sodium hydroxide containing reaction mixture. Application of potassium hydroxide for TMDS transformation at 100° C with 3 hours reaction time resulted in 20 % decrease of solid yields compared to NaOH-containing mixture. Moreover, TMDS transformations in the presence of sodium silanolate applied as an alkali agent led to formation of only liquid products without formation of the undesired solids. On the basis of experimental data and the proposed reaction mechanism, a kinetic model was developed, which provided a satisfactory description of the experimental results. Suitability of the selected siloxane as a relevant model of industrial silicon-containing compounds was verified by investigation of the commercially available antifoam agent in base-catalyzed conditions.

Atomic Force Microscopy Investigation of NI Particles Deposited on Porous Silicon

In this thesis properties and influence of modification techniques of porous silicon were studied by Atomic Force Microscope (AFM). This device permits to visualize the surface topography and to study properties of the samples on atomic scale, which was necessary for recent investigation. Samples of porous silicon were obtained by electrochemical etching. Nickel particles were deposited by two methods: electrochemical deposition and extracting from NiCl2 ethanol solution. Sample growth was conducted in Saint-Petersburg State Electrotechnical University, LETI. Kelvin probe force microscopy (KPFM) and Magnetic force microscopy (MFM) were utilized for detailed information about surface properties of the samples. Measurements showed the difference in morphology correlating with initial growth conditions. Submicron size particles were clearly visible on surfaces of the treated samples. Although their nature was not clarified due to limitations of AFM technique. It is expected that surfaces were covered by nanometer scale Ni particles, which can be verified by implication of RAMAN device.

Exchange reactions of organic halides and organo-silicon compounds with boron tribromide and boron triiodide

Reactions of the boron halides with organic halides and organo-silicon compounds have been investigated. The results show exchange of halogens between the BX3 (X = Br# 1) and the organic halidef exchange of the halogen of the C-X bond being proved. The rates of halogen exchange vary. Reaction of the heavier halides with organo-silicon compounds indicated that the silicon-carbon bonds ruptured in the absence of electronegative atom attached to the silicon. The presence of an electronegative atom (halogen or oxygen) attached to the silicon causes the bond between the silicon and the electronegative atom to be preferentially broken. Products of exchange reactions of the boron halides and the organic halides or the organo-silicon compounds were studied by use of 1H NMR and GC/MS. From these results some possible mechanisms for the exchange reactions are postulated, but further work is indicated to prove the real courses of the reactions

Polytypism and Silicon carbide : a solid state nuclear magnetic resonance study

A survey of predominantly industrial silicon carbide has been carried out using Magic Angle Spinning nuclear magnetic resonance (MAS nmr); a solid state technique. Three silicon carbide polytypes were studied; 3C, 6H, and 15R. The 13C and 29 Si MAS nmr spectra of the bulk SiC sample was identified on the basis of silicon (carbon) site type in the d iff ere n t pol Y t Y pes • Out to 5.00 A fro mac en t r a lsi 1 i con (0 r carbon) atom four types of sites were characterized using symmetry based calculations. This method of polytype analysis was also considered, in the prelminary stages, for applications with other polytypic material; CdBr 2 , CdI 2 , and PbI 2 " In an attempt to understand the minor components of silicon carbide, such as its surface, some samples were hydrofluoric acid washed and heated to extreme temperatures. Basically, an HF removable species which absorbs at -110 ppm (Si0 2 ) in the 29 Si MAS nmr spectrum is found in silicon carbide after heating. Other unidentified peaks observed at short recycle delays in some 29 Si MAS nmr spectra are considered to be impurities that may be within the lattice. These components comprise less than 5% of the observable silicon. A Tl study was carried out for 29 Si nuclei in a 3C ii polytype sample, using the Driven Equilibrium Single-Pulse Observation of T1 (DESPOT) technique. It appears as though there are a number of nuclei that have the same chemical shift but different T1 relaxation times. The T1 values range from 30 seconds to 11 minutes. Caution has to be kept when interpreting these results because this is the first time that DESPOT has been used for solid samples and it is not likely in full working order. MAS nmr indicates that the 13C and 29 Si ~sotropic chemical shifts of silicon carbide appear to have a reciprocal type of relationship_ Single crystal nmr analysis of a 6H sample is accordance with this finding when only the resultant isotropic shift is considered. However, single crystal nmr also shows that the actual response of the silicon and carbon nuclear environment to the applied magnetic field at various angles is not at all reciprocal. Such results show that much more single crystal nmr work is required to determine the actual behavior of the local magnetic environment of the SiC nuclei.

Étude de la réponse du détecteur ATLAS-MPX aux neutrons rapides

Les détecteurs ATLAS-MPX sont des détecteurs Medipix2-USB recouverts de convertisseurs de fluorure de lithium et de polyéthylène pour augmenter l’efficacité de détection des neutrons lents et des neutrons rapides respectivement. Un réseau de quinze détecteurs ATLAS-MPX a été mis en opération dans le détecteur ATLAS au LHC du CERN. Deux détecteurs ATLAS-MPX de référence ont été exposés à des sources de neutrons rapides 252 Cf et 241 AmBe ainsi qu’aux neutrons rapides produits par la réaction 7Li(p, xn) pour l’étude de la réponse du détecteur à ces neutrons. Les neutrons rapides sont principalement détectés à partir des protons de recul des collisions élastiques entre les neutrons et l’hydrogène dans le polyéthylène. Des réactions nucléaires entre les neutrons et le silicium produisent des particules-α. Une étude de l’efficacité de reconnaissance des traces des protons et des particules-α dans le détecteur Medipix2-USB a été faite en fonction de l’énergie cinétique incidente et de l’angle d’incidence. L’efficacité de détection des neutrons rapides a été évaluée à deux seuils d’énergie (8 keV et 230 keV) dans les détecteurs ATLAS-MPX. L’efficacité de détection des neutrons rapides dans la région du détecteur couverte avec le polyéthylène augmente en fonction de l’énergie des neutrons : (0.0346 ± 0.0004) %, (0.0862 ± 0.0018) % et (0.1044 ± 0.0026) % pour des neutrons rapides de 2.13 MeV, 4.08 MeV et 27 MeV respectivement. L’étude pour déterminer l’énergie des neutrons permet donc d’estimer le flux des neutrons quand le détecteur ATLAS-MPX est dans un champ de radiation inconnu comme c’est le cas dans le détecteur ATLAS au LHC.

Effets de rayonnement sur les détecteurs au silicium à pixels du détecteur ATLAS

Thèse numérisée par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal

Réduction de la durée de vie des porteurs de charge dans le silicium noir par implantation ionique

Le but de ce projet est d’étudier l’effet des défauts cristallins sur les propriétés optoélectroniques de photodétecteurs fabriqué à partir de « silicium noir », c’est-à-dire du silicium dopé et microstructuré par impulsions laser femtoseconde, ce qui lui donne une apparence noire mate caractéristique. Des échantillons de silicium noir ont été recuits puis implantés avec des ions ayant une énergie de 300 keV (Si+), 1500 keV (Si+) ou 2000 keV (H+). Trois fluences pour chaque énergie d’implantation ont été utilisées (1E11, 1E12, ou 1E13 ions/cm2) ce qui modifie le matériau en ajoutant des défauts cristallins à des profondeurs et concentrations variées. Neuf photodétecteurs ont été réalisés à partir de ces échantillons implantés, en plus d’un détecteur-contrôle (non-implanté). La courbe de courant-tension, la sensibilité spectrale et la réponse en fréquence ont été mesurées pour chaque détecteur afin de les comparer. Les détecteurs ont une relation de courant-tension presque ohmique, mais ceux implantés à plus haute fluence montrent une meilleure rectification. Les implantations ont eu pour effet, en général, d’augmenter la sensibilité des détecteurs. Par exemple, l’efficacité quantique externe passe de (0,069±0,001) % à 900 nm pour le détecteur-contrôle à (26,0±0,5) % pour le détecteur ayant reçu une fluence de 1E12 cm-2 d’ions de silicium de 1500 keV. Avec une tension appliquée de -0,50 V, la sensibilité est améliorée et certains détecteurs montrent un facteur de gain de photocourant supérieur à l’unité, ce qui implique un mécanisme de multiplication (avalanche ou photoconductivité). De même, la fréquence de coupure a été augmentée par l’implantation. Une technique purement optique a été mise à l’essai pour mesurer sans contacts la durée de vie effective des porteurs, dans le but d’observer une réduction de la durée de vie causée par les défauts. Utilisant le principe de la réflexion photo-induite résolue en fréquence, le montage n’a pas réuni toutes les conditions expérimentales nécessaires à la détection du signal.

Mesures et analyses de la luminosité d’ATLAS grâce aux détecteurs MPX

Medipix2 (MPX) sont des détecteurs semi-conducteurs au silicium montés sur 256x256 pixels. Chaque pixel a une aire de 55x55μm2. L’aire active d’un détecteur MPX est d’environ 2 cm2. Avec deux modes de détection, un seuil et un temps d’exposition ajustables, leur utilisation peut être optimisée pour une analyse spécifique. Seize de ces détecteurs sont présentement installés dans l’expérience ATLAS (A Toroidal LHC ApparatuS) au CERN (Organisation Européenne pour la Recherche Nucléaire). Ils mesurent en temps réel le champ de radiation dû aux collisions proton-proton, au point d’interaction IP1 (Point d’Interaction 1) du LHC (Grand Collisionneur d’Hadrons). Ces mesures ont divers buts comme par exemple la mesure du champ de neutrons dans la caverne d’ATLAS. Le réseau de détecteurs MPX est complètement indépendant du détecteur ATLAS. Le groupe ATLAS-Montréal s’est intéressé à l’analyse des données récoltées par ces détecteurs pour calculer une valeur de la luminosité du LHC au point de collision des faisceaux, autour duquel est construit le détecteur ATLAS. Cette valeur est déterminée indépendamment de la luminosité mesurée par les divers sous-détecteurs d’ATLAS dédiés spécifiquement à la mesure de la luminosité. Avec l’augmentation de la luminosité du LHC les détecteurs MPX les plus proches du point d’interaction détectent un grand nombre de particules dont les traces sont impossibles à distinguer sur les images ("frames") obtenues, à cause de leur recouvrement. Les paramètres de mesure de certains de ces détecteurs ont été optimisés pour des mesures de luminosité. Une méthode d’analyse des données permet de filtrer les pixels bruyants et de convertir les données des images, qui correspondent à des temps d’exposition propres aux détecteurs MPX, en valeur de luminosité pour chaque LumiBlock. Un LumiBlock est un intervalle de temps de mesure propre au détecteur ATLAS. On a validé les mesures de luminosité premièrement en comparant les résultats obtenus par différents détecteurs MPX, et ensuite en comparant les valeurs de luminosité relevées à celles obtenues par les sous-détecteurs d’ATLAS dédiés spécifiquement à la mesure de la luminosité.

Studies on Chemical Bath Deposited Semiconducting Copper Selenide and Iron Sulfide Thin Films Useful For Photovoltaic Applications

Chemical bath deposition (CBD)is one of the simplest, very convient and probably the cheapest method for thin film preparation. Photovoltaic is the cleanest and the most efficient mode of conversion of energy to electrical power. Silicon is the most popular material in this field. The present study on chemical bath deposited semiconducting copper selenide and iron sulfide thin films useful for photovoltaic applications. Semiconducting thin films prepared by chemical deposition find applications as photo detectors, solar control coatings and solar cells. Copper selenide is a p-type semiconductor that finds application in photovolitics. Several heterojunction systems such as Cu2-xSe/ZnSe (for injection electro luminescence), Cu2Se/AgInSe2 and Cu2Se/Si (for photodiodes), Cu2-xSe/CdS, Cu2-xSe/CdSe, CuxSe/InP and Cu2-xSe/Si for solar cells are reported. A maximum efficiency of 8.3% was achieved for the Cu2-xSe/Si cell, various preparation techniques are used for copper selenide like vacuum evaporation, direct reaction, electrodeposition and CBD. Instability of the as-prepared films was investigation and is accounted as mainly due to deviation from stoichiometry and the formation of iron oxide impurity. A sulphur annealing chamber was designed and fabricated for this work. These samples wee also analysed using optical absorption technique, XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) and XRD.(X-Ray Diffraction).The pyrite films obtained by CBD technique showed amorphous nature and the electrical studies carried out showed the films to be of high resistive nature. Future work possible in the material of iron pyrite includes sulphur annealing of the non-stochiometric iron pyrite CBD thin films in the absence of atmospheric oxygen

Young’s modulus of silicon nitride used in scanning force microscope cantilevers

The Young’s modulus and Poisson’s ratio of high-quality silicon nitride films with 800 nm thickness, grown on silicon substrates by low-pressure chemical vapor deposition, were determined by measuring the dispersion of laser-induced surface acoustic waves. The Young’s modulus was also measured by mechanical tuning of commercially available silicon nitride cantilevers, manufactured from the same material, using the tapping mode of a scanning force microscope. For this experiment, an expression for the oscillation frequencies of two-media beam systems is derived. Both methods yield a Young’s modulus of 280–290 GPa for amorphous silicon nitride, which is substantially higher than previously reported (E5146 GPa). For Poisson’s ratio, a value of n 50.20 was obtained. These values are relevant for the determination of the spring constant of the cantilever and the effective tip–sample stiffness

Functionalized Silicon Polymers: Novel Materials for Catalysis

Dept.of Applied Chemistry,Cochin University of Science and Technolgy

Electrical switching studies on the thin films of polyfuran and polyacrylonitrile prepared by plasma polymerisation and vacuum evaporated amorphous silicon

This thesis Entitled Electrical switching studies on the thin flims of polyfuran and polyacrylonitrile prepared by plasma polymerisation and vacuum evaporated amorphous silicon.A general introduction to the switching and allied phenomena is presented. Subsequently, developments of switching in thin films are described. The Mott transition is qualitatively presented. The working of a switching transitor is outlined and compared to the switching observed in thin films. Characteristic parameters of switching such as threshold voltage, time response to a, voltage pulse, and delay time are described. The various switching configurations commonly used are discussed. The mechanisms used to explain the switching behaviour like thermal, electrothermal and purely electronic are reviewed. Finally the scope, feasibility and the importance of polymer thin films in switching are highlighted.

Elecrical conduction and dielectric behaviour of thin films of vacuum evaporated amorphous silicon, hydrogenated amorphous silicon and chemically deposited cadmium sulphide

A brief account of the several methods used for the production of thin films is presented in this Chapter. The discussions stress on the important methods used for the fabrication of a-si:H thin films. This review' also reveals ‘that almost all the general methods, like vacuum evaporation, sputtering, glow discharge and even chemical methods are currently employed for the production of a-Si:H thin films. Each method has its own advantages and disadvantages. However, certain methods are generally preferred. Subsequently a detailed account of the method used here for the preparation of amorphous silicon thin films and their hydrogenation is presented. The metal chamber used for the electrical and dielectric measurements is also described. A brief mention is made-on the electrode structure, film area and film geometry.