Surface passivation and optical characterization of Al2O3/a-SiCx stacks on c-Si substrates

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Síntesis de capas de SiC en substrato de Si mediante implantación iónica

En este trabajo se investiga la síntesis de estructuras SiC/Si mediante implantación iónica de carbono en Si. Las implantaciones se han realizado a energías entre 25 y 300 keV y las dosis en el rango lO^^ylO^^ cm , manteniendo el substrato a temperatura ambiente o 500°C. Algunas estructuras han sido recocidas a 1150°C. Los resultados indican que implantando a temperatura ambiente se forma una capa de SiC amorfa y de composición gradual, que recristaliza formando precipitados de ß-SiC con orientaciones aleatorias después del recocido. Además se forma un capa superficial rica en carbono, debida a la difusión del carbono hacia la superficie durante la implantación, y que desaparece con el recocido. Implantando a 500°C se forma directamente una capa con una muy alta densidad de precipitados de ß-SiC orientados preferencialmente con la matriz de silicio. Dada la estabilidad térmica y química de dicha capa se han realizado membranas de SiC mediante técnicas fotolitográficas y ataque químico selectivo, cuya rugosidad superficial es inferior a 6 nm. Estas membranas muestran unos gradientes de tensiones residuales, que prácticamente desaparecen después del recocido. Los resultados confirman la potencialidad de la implantación iónica para la formación de estructuras microme-cánicas de SiC sobre Si.

Obtención de láminas delgadas de Y-Ba-Cu-O sobre Si (100)

Se ha utilizado la evaporación secuencial de Cu, Y2O3 y BaF2 para la obtención de láminas delgadas superconductoras de YBa-CuO sobre substratos de Si monocristalino con orientación [100], recubiertos con una lámina barrera de Zr02. Se han estudiado los efectos de la variación de los espesores relativos de las láminas constituyentes y del espesor total de la lámina resultante. Las láminas se han caracterizado mediante medidas de la variación de la resistencia con la temperatura, microscopía electrónoca de barrido, difractometría de rayos X, microson-da electrónica y espectometría de masas de iones secundarios. Las láminas presentan un ligero carácter semiconductor en el estado normal, con temperaturas de inicio de la transición su-perconductora alrededor de 90 K, y resistencia nula, en el mejor de los casos, a 45 K.

Calorimetry of hydrogen desorption from ɑ-Si nanoparticles

The process of hydrogen desorption from amorphous silicon (ɑ-Si) nanoparticles grown by plasmaenhanced chemical vapor deposition (PECVD) has been analyzed by differential scanning calorimetry (DSC), mass spectrometry, and infrared spectroscopy, with the aim of quantifying the energy exchanged. Two exothermic peaks centered at 330 and 410 °C have been detected with energies per H atom of about 50 meV. This value has been compared with the results of theoretical calculations and is found to agree with the dissociation energy of Si-H groups of about 3.25 eV per H atom, provided that the formation energy per dangling bond in ɑ-Si is about 1.15 eV. It is shown that this result is valid for ɑ-Si:H films, too

Como si fuera posible recoger sentimientos = As if it were possible to collect suffering

Se trata de una propuesta como resultado del trabajo conjunto entre la escuela de Arte Pigment y el ESPAI ZERO1 del Museu Comarcal de la Garrotxa, destinado exclusivamente a exposiciones temporales de creación contemporánea y como continuidad de propuestas anteriores de colaboración: REPLICA23 y SONESNAT JUNIOR. Com si fos possible recollir el sofriment es un proyecto de la artista Anna Manel.la, y se consideró una propuesta interesante y un reto para conversar, intercambiar y crear con los alumnos sobre el tema de la exposición: la muerte y el sufrimiento. Asimismo porque es una artista conocida por los alumnos de la escuela Pigment, ya que anteriormente habían realizado un proyecto de apadrinamiento de esculturas y habitualmente ella participa en programas divulgativos en la escuela. El trabajo desarrollado centra el aprendizaje en la creación y en la investigación artística como ejes de los procesos de conceptualización con el objetivo de atender las dinámicas y los estímulos característicos de los niños. Facilitando procesos de búsqueda, exploración y manipulación sin condicionantes y promoviendo procesos autónomos en los que los mismos niños se planteen dudas e interrogantes y se enfrenten a situaciones cada vez mas complejas