3 resultados para Technological Evolution
em Instituto Politécnico do Porto, Portugal
Resumo:
Em consequência da elevada permanência das pessoas em espaços interiores de edifícios, surge actualmente uma maior preocupação com o conforto térmico e qualidade do ar no seu interior. Apesar da grande evolução tecnológica dos sistemas de conservação de energia térmica e controle da qualidade do ar interior (QAI) na construção, os edifícios existentes acabam por não acompanhar essa evolução, apresentando um comportamento térmico e higrométrico que por vezes podem comprometer quer o conforto, quer a saúde e actividades dos seus utilizadores. Nos estabelecimentos de ensino, o comportamento termo-higrométrico assume um papel importante face à permanência diária de um grande número de crianças e jovens no seu interior. Com este estudo pretende-se caracterizar a qualidade do ambiente no interior de oito escolas, através de uma análise aos principais parâmetros de natureza higrotérmica de oito salas de aulas, tais como: a temperatura (ambiente e superficial), a humidade relativa (do ambiente e da superfície da envolvente exterior opaca), bem como o nível de escoamento do ar interior. Neste trabalho são apresentados os resultados das medições efectuadas em oito salas de aula que permitiram a comparação de características termo-higrométricas entre as respectivas escolas. É ainda apresentada a estimativa do nível de conforto térmico face às condições ambientais registadas, bem como a análise do risco de ocorrência de condensações interiores.
Resumo:
The results presented in the article are part of a wider PhD project developed under the Doctoral program in Multimedia in Education from the University of Aveiro. The project, which sought to understand student ID in Higher education through the use of Digital Storytelling, was made possible through the Doctoral Grant awarded by Fundação para a Ciência e Tecnologia (FCT).
Resumo:
A indústria de semicondutores é um sector em permanente evolução tecnológica. A tendência de miniaturização e de otimização do espaço, a necessidade de produzir circuitos cada vez mais complexos, a tendência para o incremento do número de camadas em cada circuito integrado, são as condições necessárias para que a evolução tecnológica nesta área seja uma constante. Os processos ligados à produção de semicondutores estão também em permanente evolução, dada a pressão efetuada pelas necessidades acima expostas. Os equipamentos necessitam de uma crescente precisão, a qual tem que ser acompanhada de procedimentos rigorosos para que a qualidade atingida tenha sempre o patamar desejado. No entanto, a constante evolução nem sempre permite um adequado levantamento de todas as causas que estão na origem de alguns problemas detetados na fabricação de semicondutores. Este trabalho teve por objetivo efetuar um levantamento dos processos ligados ao fabrico de semicondutores a partir de uma pastilha de silício (wafer) previamente realizada, identificando para cada processo os possíveis defeitos introduzidos pelo mesmo, procurando inventariar as causas possíveis que possam estar na origem desse defeito e realizar procedimentos que permitam criar regras e procedimentos perfeitamente estabelecidos que permitam aprender com os erros e evitar que os mesmos problemas se possam vir a repetir em situações análogas em outros produtos de uma mesma família.