Estudo da qualidade de processos na fabricação de semicondutores

A indústria de semicondutores é um sector em permanente evolução tecnológica. A tendência de miniaturização e de otimização do espaço, a necessidade de produzir circuitos cada vez mais complexos, a tendência para o incremento do número de camadas em cada circuito integrado, são as condições necessárias para que a evolução tecnológica nesta área seja uma constante. Os processos ligados à produção de semicondutores estão também em permanente evolução, dada a pressão efetuada pelas necessidades acima expostas. Os equipamentos necessitam de uma crescente precisão, a qual tem que ser acompanhada de procedimentos rigorosos para que a qualidade atingida tenha sempre o patamar desejado. No entanto, a constante evolução nem sempre permite um adequado levantamento de todas as causas que estão na origem de alguns problemas detetados na fabricação de semicondutores. Este trabalho teve por objetivo efetuar um levantamento dos processos ligados ao fabrico de semicondutores a partir de uma pastilha de silício (wafer) previamente realizada, identificando para cada processo os possíveis defeitos introduzidos pelo mesmo, procurando inventariar as causas possíveis que possam estar na origem desse defeito e realizar procedimentos que permitam criar regras e procedimentos perfeitamente estabelecidos que permitam aprender com os erros e evitar que os mesmos problemas se possam vir a repetir em situações análogas em outros produtos de uma mesma família.

The semiconductor industry is a sector in constant technological evolution. The trend of miniaturization, the chip space optimization, the need to increasingly produce complex circuits, the trends towards the increase in the layers number in each, are the necessary conditions for constant technological developments in this area. Semiconductors production processes are also in permanent evolution, given the pressure made by the needs above outlined. The equipment requires a growing accuracy, which has to be accompanied by strict procedures so that the quality achieved has always the desired level. However, the constant evolution does not always allow an adequate survey of all the root causes on the basis of some problems detected in the manufacture of semiconductors. This work has the objective to carry out a survey of the processes linked to the manufacture of semiconductors from a previously held "silicon wafer" by identifying the possible defects introduced by each process, looking for possible causes that may be at the origin of this defect and to establish rules and procedures that while prevent the same glitches that are likely to repeat in analogous situations in other products of the same family.