Effects of self-administered exercises based on Tuina techniques on musculoskeletal disorders of professional orchestra musicians: a randomized controlled trial

Background Musicians are frequently affected by playing-related musculoskeletal disorders (PRMD). Common solutions used by Western medicine to treat musculoskeletal pain include rehabilitation programs and drugs, but their results are sometimes disappointing. Objective To study the effects of self-administered exercises based on Tuina techniques on the pain intensity caused by PRMD of professional orchestra musicians, using numeric visual scale (NVS). Design, setting, participants and interventions We performed a prospective, controlled, single-blinded, randomized study with musicians suffering from PRMD. Participating musicians were randomly distributed into the experimental (n = 39) and the control (n = 30) groups. After an individual diagnostic assessment, specific Tuina self-administered exercises were developed and taught to the participants. Musicians were instructed to repeat the exercises every day for 3 weeks. Main outcome measures Pain intensity was measured by NVS before the intervention and after 1, 3, 5, 10, 15 and 20 d of treatment. The procedure was the same for the control group, however the Tuina exercises were executed in points away from the commonly-used acupuncture points. Results In the treatment group, but not the control group, pain intensity was significantly reduced on days 1, 3, 5, 10, 15 and 20. Conclusion The results obtained are consistent with the hypothesis that self-administered exercises based on Tuina techniques could help professional musicians controlling the pain caused by PRMD. Although our results are very promising, further studies are needed employing a larger sample size and double blinding designs.

Estudo da qualidade de processos na fabricação de semicondutores

A indústria de semicondutores é um sector em permanente evolução tecnológica. A tendência de miniaturização e de otimização do espaço, a necessidade de produzir circuitos cada vez mais complexos, a tendência para o incremento do número de camadas em cada circuito integrado, são as condições necessárias para que a evolução tecnológica nesta área seja uma constante. Os processos ligados à produção de semicondutores estão também em permanente evolução, dada a pressão efetuada pelas necessidades acima expostas. Os equipamentos necessitam de uma crescente precisão, a qual tem que ser acompanhada de procedimentos rigorosos para que a qualidade atingida tenha sempre o patamar desejado. No entanto, a constante evolução nem sempre permite um adequado levantamento de todas as causas que estão na origem de alguns problemas detetados na fabricação de semicondutores. Este trabalho teve por objetivo efetuar um levantamento dos processos ligados ao fabrico de semicondutores a partir de uma pastilha de silício (wafer) previamente realizada, identificando para cada processo os possíveis defeitos introduzidos pelo mesmo, procurando inventariar as causas possíveis que possam estar na origem desse defeito e realizar procedimentos que permitam criar regras e procedimentos perfeitamente estabelecidos que permitam aprender com os erros e evitar que os mesmos problemas se possam vir a repetir em situações análogas em outros produtos de uma mesma família.