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Resumo:
用深能级瞬态谱(DLTS)研究退火及离子注入对分子束外延生长的GeS/i/Si应变超晶格性质的影响，观察到3个与位错有关的深中心和1个表层内的深中心，退火和离子注入都使得这些深中心的浓度增加数倍，说明GeSi/Si应变超晶格不适应做过多的热处理。测定Pd~+注入在GeSi/Si超晶格的杂质能级为E_C=0.28eV,与体Si中的Pd杂质能级一致。
