高性能193nm反射膜的制备与误差分析

分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响，发现高低折射率材料厚度反方向变化时（高折射率膜层厚度增加，低折射率膜层厚度减小），反射膜的反射率变化不明显，设计的膜系结构对这种膜厚变化方式的制造误差宽容。在此基础上制备了193nm反射膜，结果表明退火前光学损耗相对较大，实验结果与理论计算结果存在一定差距，并且散射损耗在总的光学损耗中所占比例很小，而吸收损耗占光学损耗的主要部分，起主导作用。退火后光学损耗明显下降，实验结果与理论计算结果更为接近，193nm反射膜的反射率达98％以上。散射损耗增加至接近吸收损耗的水平，不过在总的光学损耗中仍然占比较小的比例。说明当吸收损耗下降到一定程度时，散射损耗所起的作用也是不可忽视的。