高反射率193nm反射膜的实现


Autoria(s): 尚淑珍; 赵祖欣; 邵建达; 范正修
Data(s)

2008

Resumo

对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4640

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12897

Idioma(s)

中文

Fonte

尚淑珍;赵祖欣;邵建达;范正修.高反射率193nm反射膜的实现,应用激光,2008,28(1):19-

Palavras-Chave #光学薄膜 #193nm #反射膜 #反射率 #光学稳定性
Tipo

期刊论文