高反射率193nm反射膜的实现
Data(s) |
2008
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Resumo |
对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
尚淑珍;赵祖欣;邵建达;范正修.高反射率193nm反射膜的实现,应用激光,2008,28(1):19- |
Palavras-Chave | #光学薄膜 #193nm #反射膜 #反射率 #光学稳定性 |
Tipo |
期刊论文 |