温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析


Autoria(s): 章佶; 孙真荣; 王祖赓; 司继良; 王静雅; 杭寅; 徐军
Data(s)

2005

Resumo

本文研究了不同掺Ti^3+浓度对温梯法生长的Ti:Al2O3晶体吸收光谱、荧光光谱和X射线衍射光谱的影响。根据吸收光谱提出了一个色心模型。对比了样品各处420nm荧光谱,发现掺Ti^3+浓度越大,该处荧光强度越弱,同时解释了420肿处荧光峰的起源。对比了样品各处720nm处的荧光谱,发现掺Ti^3+浓度越大,该处荧光强度越强。X射线衍射谱(XRD)表明,衍射峰强度随掺Ti^3+浓度的增大而逐渐增强。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/5885

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12417

Idioma(s)

中文

Fonte

章佶;孙真荣;王祖赓;司继良;王静雅;杭寅;徐军.温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析,人工晶体学报,2005,34(4):657-660,681

Palavras-Chave #光学材料;晶体 #Ti^3+ #Al2O3 #色心 #光谱 #温度梯度法
Tipo

期刊论文