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TECHNIQUES FOR PRODUCING DEFECT-FREE SOI BY DUAL ELECTRON-BEAM HEATING OF DEPOSITED POLYSILICON

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ELECTRON-BEAM ANNEALING OF B-IMPLANTED, P-IMPLANTED, AS-IMPLANTED, SB-IMPLANTED, AND GA-IMPLANTED SILICON BY MULTIPLE-SCAN METHOD

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RECRYSTALLIZATION OF CVD POLY-SI ON INSULATOR BY DUAL ELECTRON-BEAM PROCESSING

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CHARACTERIZATION OF MULTIPLE-SCAN ELECTRON-BEAM ANNEALING METHOD

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DIRECT DEVICE FABRICATION BY SELECTED AREA E-BEAM ANNEALING

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SURFACE-STRUCTURE STUDIES OF ELECTRON-BEAM ANNEALED ION-IMPLANTED SILICON

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SCANNING ELECTRON-BEAM PROCESSING OF DEVICES

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SCANNING ELECTRON-BEAM ANNEALING SYSTEM

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DEPOSITION OF THIN-FILMS USING THE IONIZED CLUSTER BEAM METHOD

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RAPID ELECTRON-BEAM REACTED TANTALUM TITANIUM BILAYERS ON SILICON

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SCANNING ION MICROSCOPY AND MICROSECTIONING OF ELECTRON-BEAM RECRYSTALLIZED SILICON ON INSULATOR DEVICES

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CHARACTERIZATION OF THE DUAL E-BEAM TECHNIQUE FOR RECRYSTALLIZING POLYSILICON FILMS

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TRANSIENT ELECTRO-OPTIC RAMAN-SCATTERING IN LIQUID-CRYSTALS

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ELECTRON-BEAM SYSTEM FOR RAPID ISOTHERMAL ANNEALING OF SEMICONDUCTOR-MATERIALS AND DEVICES

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DETERMINATION OF TWIST ELASTIC AND VISCOTIC CONSTANTS USING ELECTRIC-FIELD DYNAMIC LIGHT-SCATTERING

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