微量掺碳ne-SiC:H薄膜用于p-i-n太阳电池的窗口层

采用等离子增强化学气相沉积方法(PEVVD)制备了微量掺碳的p型纳米非晶硅碳薄膜(p-nc-SiC:H),反应气体为硅烷和甲烷,掺杂气体采用硼烷,沉积温度分别采用333 K,353 K和373 K.测量结果表明随着沉积温度增加和碳含量的增加,薄膜的光学带隙增加;薄膜具有较宽的带隙和较高的电导率,同时有较低的激活能(0.06 eV).Raman和XRD测量结果表明薄膜存在纳米晶.优化的p型纳米非晶硅碳薄膜作为非晶硅p-i-n太阳电池的窗口层,使得太阳电池的开路电压达到0.94 V.

四十年峥嵘岁月

中国科学院半导体研究所成立40年了，40年来全所几代人辛勤工作，从无到有，为开创和发展我国半导体科学，为建立我国半导体工业的初步基础以及将半导体技术应用于国防军工作出了重大贡献。作为我国第一代半导体材料科学研究人员，为此而感到欣慰。追忆四十多年的峥嵘岁月，我感到最值得珍惜的是当今艰苦奋斗的创业精神。在庆祝半导体研究所四十周年生日的时候，写出这篇短文与老同志们一起回味共同经历过的甘苦；希望年青的同志们将这种精神发扬光大，让半导体研究所对国家作出更大贡献。

赝形δ掺杂 AlGaAs/InGa As/GaAs量子阱的光致发光性质研究

测量了一系列不同隔离层(spacer)厚度、阱宽和硅δ掺杂浓度的单边掺杂的赝形高电子迁移率晶体管(p-HEMTs)量子阱的变温和变激发功率光致发光谱，详细研究了(el-hh1)和(e2-hh1)两个发光峰之间的动态竞争发光机制，并运用有限差分法自洽求解薛定谔和泊松方程以得出电子限制势、子带能级以及相应的电子包络波函数、子带占据几率和δ掺杂电子转移效率，研究了两个峰的相对积分发光强度随隔离层厚度、阱宽和δ掺杂浓度的变化。

表面化学分子吸附增强多孔硅发光效率

报道了HNO_3氧化的多孔硅表面吸附9-氰基蒽(9-CA)分子后的发光增强现象。

应变Si（1-x）Ge_x/Si异质结材料的GSMBE生长及X射线双晶衍射研究

于2010-11-23批量导入

双量子阱结构中电子共振隧穿的相干模型

提出了一种新的计算双量子阱结构中电子共振隧穿时间的相干模型,理论计算与报道的实验结果基本一致。

Hydrogen related defects in neutron-irradiated silicon grown in hydrogen ambient

Isochronal thermal-annealing behavior of NTD floating-zone silicon grown in hydrogen ambient (called NTD FZ(H) Si) is presented. The dependencies of resistivity and carrier mobility on annealing temperature are determined by room-temperature Hall electrical measurements. Using infrared absorption spectroscopy, hydrogen-related infrared absorption bands evolution for NTD FZ(H) Si were measured in detail. It is demonstrated that compared with NTD FZ(Ar) Si, NTD FZ(H) Si exhibits the striking features upon isochronal annealing in temperature range of 150 similar to 650 degreesC: there appears the formation of an excessive shallow donor at annealing temperature of 500 degreesC. It is shown that the annealing behavior is directly related to the reaction of hydrogen and irradiation-induced defects. The evolution of infrared absorption bands upon temperature reflects a series of complex reaction process: irradiation-induced defects decomposition, breaking of Si-H bonds, migration and aggregation of atomic hydrogen, and formation of the secondary defects. (C) 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved.