El universo pintoresco o historia y descripción de todos los pueblos, de sus religiones, costumbres, usos, industrias, etc. con 3,000 láminas finas que representan las vistas principales, los monumentos antiguos y modernos... : Polonia

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El universo pintoresco o historia y descripción de todos los pueblos, de sus religiones, costumbres, usos, industria, etc. con 3,000 láminas que representan las vistas principales ... : Rusia

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El universo pintoresco o historico y descipción de todos los pueblos, de sus religiones, costumbres, usos, industria, etc. con 3,000 láminas finas que representan las vistas principales, los monumentos antiguos y modernos, los retratos de los hombres más célebres, los trajes,muebles, alajas, armas y otros objetos curiosos : Turquía

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The rule of the turk a revised and enlarged edition of the Armenian crisis

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México, su evolución social: síntesis de la historia política de la organización administrativa y militar y del estado económico de la Federación mexicana.. de sus conquistas en el campo industrial agrícola, minero, mercatil, etc. Inventario monumental que resume en trabajos magistrales..

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Manual del viajero en Méjico : ó, Compendio de la historia de la Ciudad de Méjico, con la descripción e historia de sus templos, conventos, edificios públicos, las costumbres de sus habitantes, etc. y conel plan de dicha ciudad

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Efemérides de los hechos notables acaecidos en la República de Centro - América, desde el año de 1821 hasta el de 1842, seguidos devarios catálogos de Presidentes de la República, Jefes de Estados,etc.

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Traité d'economic politique sociale ou industrielle: exposé didactique des principes et des applications cette science.. salaires, etc.

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Historia natural de las aves : sacada de Buffon, Cuvier, etc.

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Manual del cultivo de la caña de azúcar del labor del azúcar de su refinación por los nuevos procederes; tratado de la destilación de los productos fermentados de la caña, de los azúcares brutos, de los mieles, etc., etc.

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Manual del perfumista : contiene los procedimientos mejores para la preparación de las esencias, aguas aromáticas, aceites de olor, pomadas, cosméticos, dentífricos, vinagres, etc.

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La enciclopedia comercial : Tratado completo de geografía, estadística, historia, economía, aritmética, contabilidad, teneduría, cálculo y legislaciones mercantiles, administrativas e industriales con demostraciones prácticas de todas las operaciones de la banca, del comercio, etc.

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Diccionario de curiosidades históricas: geografícas, hierográficas, cronologícas, etc., de la República Méjicana

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Diccionario biográfico universal que contiene la vida de los personajes históricos de todos los países y de todos los tiempos: santos o mártires, sabios, artistas escritores, etc., heroes ó personajes fabulosos de todos los pueblos

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Élaboration d’un simulateur de gravure par plasma de haute densité basé sur une approche cellulaire pour l’étude de profils dans divers matériaux

La réalisation de dispositifs à des dimensions sous-micrométriques et nanométriques demande une maîtrise parfaite des procédés de fabrication, notamment ceux de gravure. La réalisation des ces dispositifs est complexe et les exigences en termes de qualité et de géométrie des profils de gravure imposent de choisir les conditions opératoires les mieux adaptées. Les simulations de l'évolution spatio-temporelle des profils de gravure que nous proposons dans cette thèse s'inscrivent parfaitement dans ce contexte. Le simulateur que nous avons réalisé offre la possibilité de mieux comprendre les processus qui entrent en jeu lors de la gravure par plasma de profils dans divers matériaux. Il permet de tester l'influence des paramètres du plasma sur la forme du profil et donc de déterminer les conditions opératoires optimales. La mise au point de ce simulateur s'appuie sur les concepts fondamentaux qui gouvernent la gravure par plasma. À partir de l'état des lieux des différentes approches numériques pouvant être utilisées, nous avons élaboré un algorithme stable et adaptable permettant de mettre en évidence l'importance de certains paramètres clés pour la réalisation de profils de gravure par un plasma à haute densité et à basse pression. Les capacités de cet algorithme ont été testées en étudiant d'une part la pulvérisation de Si dans un plasma d'argon et d'autre part, la gravure chimique assistée par les ions de SiO2/Si dans un plasma de chlore. Grâce aux comparaisons entre profils simulés et expérimentaux, nous avons montré l'importance du choix de certains paramètres, comme la nature du gaz utilisé et la pression du plasma, la forme initiale du masque, la sélectivité masque/matériau, le rapport de flux neutre/ion, etc. Nous avons aussi lié ces paramètres à la formation de défauts dans les profils, par exemple celle de facettes sur le masque, de parois concaves, et de micro-tranchées. Enfin, nous avons montré que le phénomène de redépôt des atomes pulvérisés entre en compétition avec la charge électrique de surface pour expliquer la formation de profils en V dans le Pt pulvérisé par un plasma d'argon.