Propriedades magnéticas e magnetorresistência em filmes finos de Ni81Fe19

The ferromagnetic materials play an important role in the development of various electronic devices and, have great importance insofar as they may determine the efficiency, cost and, size of the devices. For this reason, many scientific researches is currently focused on the study of materials at ever smaller scales, in order to understand and better control the properties of nanoscale systems, i.e. with dimensions of the order of nanometers, such as thin film ferromagnetic. In this work, we analyze the structural and magnetic properties and magnetoresistance effect in Permalloy-ferromagnetic thin films produced by magnetron sputtering. In this case, since the magnetoresistance effect dependent interfaces of thin films, this work is devoted to the study of the magnetoresistance in samples of Permalloy in nominal settings of: Ta[4nm]/Py[16nm]/Ta[4nm], Ta[4nm]/Py[16nm]/O2/Ta[4nm], Ta[4nm]/O2/Py[16nm]/Ta[4nm], Ta[4nm]/O2/Py[16n m]/O2/Ta[4nm], as made and subjected to heat treatment at temperatures of 160ºC, 360ºC e 460ºC, in order to verify the influence of the insertion of the oxygen in the layer structure of samples and thermal treatments carried out after production of the samples. Results are interpreted in terms of the structure of the samples, residual stresses stored during deposition, stresses induced by heat treatments and magnetic anisotropies

Nucleação e excitação de paredes de Néel em filmes finos

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior

Obtenção de filmes finos de TiO2 nanoestruturado pelo método dos precursores poliméricos

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Filmes finos de Titanato de Chumbo e Lantânio - PLT: influência do pH

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas

Filmes finos de SrBi2Ta2O9 foram depositados em substratos de Pt/Ti/SiO2/Si e, pela primeira vez, sinterizados em forno microondas doméstico. Os padrões de difração de raios X mostraram que os filmes são policristalinos. O processamento por microondas permite utilizar baixa temperatura na síntese e obter filmes com boas propriedades elétricas. Ensaios de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e de Força Atômica (MFA) revelam boa aderência entre filme e substrato, com microestrutura de superfície apresentando grãos finos e esféricos e rugosidade de 4,7 nm. A constante dielétrica e o fator de dissipação, para freqüência de 100 KHz, à temperatura ambiente, foram de 77 e 0,04, respectivamente. A polarização remanescente (2Pr) e o campo coercitivo (Ec) foram 1,04 miC/cm² e 33 kV/cm. O comportamento da densidade de corrente de fuga revela três mecanismos de condução: linear, ôhmico e outro mecanismo que pode ser atribuído à corrente de Schottky. Dos padrões de DRX, análises das imagens por MEV e topografia de superfície por MFA observa-se que 10 min de tratamento térmico a 550 ºC, em forno microondas, é tempo suficiente para se obter a cristalização do filme.

Sinterização de filmes finos de LiNbO3 em forno microondas: estudo da influência da direção do fluxo de calor

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Síntese e caracterização de nanopartículas e filmes finos de óxidos semicondutores

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Investigação de propriedades de filmes finos de Al2O3 para aplicação em dispositivos eletrônicos

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Deposição e caracterização de filmes finos de GaAs e 'Al IND. 2''O IND. 3' para potencial utilizado em transistores

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)

Investigação de propriedades de filmes finos de Sn'O IND. 2' e 'Al IND. 2''O IND. 3' para aplicação em dispositivos

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Caracterização de filmes finos de YBa2Cu3O7-x e La0.7Ca0.3MnO3 produzidos via síntese química

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Influência do pH da suspensão coloidal nas propriedades de filmes finos de Sn'O IND. 2'

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Uma contribuição para o estudo da estrutura de bandas de energia em filmes finos de 'SNO IND.2'

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Fabricação e caracterização de filmes finos e ultrafinos de coroas de éter com azobenzeno incorporado e estudo da birrefringência fotoinduzida

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Preparação e caracterização de filmes finos do tipo 'Pb IND. 1-x-yCa IND. xSr IND.yTiO IND. 3'

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)