990 resultados para SEMICONDUCTOR LASERS


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The multifractal dimension of chaotic attractors has been studied in a weakly coupled superlattice driven by an incommensurate sinusoidal voltage as a function of the driving voltage amplitude. The derived multifractal dimension for the observed bifurcation sequence shows different characteristics for chaotic, quasiperiodic, and frequency-locked attractors. In the chaotic regime, strange attractors are observed. Even in the quasiperiodic regime, attractors with a certain degree of strangeness may exist. From the observed multifractal dimensions, the deterministic nature of the chaotic oscillations is clearly identified.

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The Thesis consist of the study of the electrical properties of antimony trisulphide films and the electrical behaviour of different metal contacts to antimony trisulphide films. Since the thermal evapouration of the compound antimony trisulphide as such mayresult in nonstoichiometric compound films , sb2s3 films in the present work were mostly prepared by the three temperature method ,keeping the substrate at different temperature ranging from 3031 to 4231 and evapourating antimony and sulphur simultaneously from separate sources.

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The thesis is a report of the attempts made to prepare semiconducting and dielectric thin films and to study their electrical properties. It consists of (i) studies on the preparation and electrical characteristics of compound semiconductor thin films of silver sulphide and ferric hydroxide, and (ii) investigations on the electrical and dielectric properties of plasma polymerized thin films of para-toluidine element

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SnO2 nanocrystalline thin films were deposited on glass substrates by the spray pyrolysis technique in air atmosphere at 375, 400, 425, 450 and 500 ◦C substrate temperatures. The obtained films were characterized by using XRD. The room temperature photoluminescence (PL) spectra of these films have near band edge (NBE) and deep level emission under the excitation of 325 nm radiation. NBE PL peak intensity decreased consistently with temperatures for samples prepared at 400, 450 and 500 ◦C, while a sudden reduction in intensity is observed for the sample prepared at 425 ◦C. A similar effect was observed for the optical transmittance spectra. These effects can be explained on the basis of the change in population of oxygen vacancies as indicated by the change in a values

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A comparat ive study of the effect oflaser in inducing chro mosomal aberrat ions at 4gg nm was done in View j aba L. (faba bean) and Allium ccpa L. (onion) with Argon ion laser (Spectra Physics Model 171). Seeds and bulbs of V.jaba and A. eepa were subjected to laser irra diation by 4gg nm excitations from Argon ion laser source at power levels 200 and 400 mW with power densities 2.25 mW em" and 4.49 mW em" and ditTerent exposure times (10, 20, 30 & 40 minutes). Similar to the effect of oth er physical and chemical mutagens, laser caused a dose dependent decrease in mitotic index and a rise in mitotic aberrations when compared to the control. In both plant species, mutations were observed in all stages of mitotic cell cycle. The total percentage of aberrations was two fold higher at 400 mW than at 200 mW exposure.

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Motivation dieser Arbeit ist die Idee, ein höchst sensitives und selektives Spektroskop, welches gleichzeitig robust ist, auf Basis von Halbleiterlasern zum Einsatz in der Atemgasdiagnostik zu entwickeln. Technische Grundlage ist die Idee, die Probe innerhalb des Laserresonators zu vermessen (sogenannte intra cavity absorption spectroscopy, ICAS). Im speziellen soll durch die Verwendung des relativen Intensitätsrauschens zur Messwertbestimmung und die Verwendung von nur zwei Moden statt der sonst für ICAS verwendeten multimodigen Laser, die Empfindlichkeit erhöht, sowie die Messwerterfassung vereinfacht werden. Die Probe im Laserresonator zu Messen, hat den Vorteil, dass durch die multiple Hin­ und Rückreflektion die wirksame Pfadlänge durch die Probe vervielfacht wird. Dabei werden Verluste an den Resonatorspiegeln durch die Verstärkung der aktiven Zone des Lasers kompensiert. Außerdem wird durch die Konkurrenz der Moden um die idealerweise homogen verbreiterte Verstärkung im Laser die Empfindlichkeit noch einmal bedeutend erhöht. Schon eine geringe Absorption bei einer bestimmten Wellenlänge wird die Intensität des betroffenen Modes zugunsten der anderen Moden verringern. Die Arbeit beschäftigt sich zum einen mit der spektroskopischen Untersuchung zwei- er für die Atemgasdiagnostik relevanter Stoffe, Aceton und das in der Anästhesie häufig eingesetzte Propofol, um das Umfeld, in dem der Laser Verwendung finden soll, zu beleuchten. Diese Untersuchungen flossen in die Entwicklung des später zum Sensor auszubauenden Lasers ein. Für den Laser wurden in der Telekommunikation übliche, glasfaserbasierte, robuste Standardbauteile wie ein optischer Halbleiterverstärker (semiconductor optical amplifier, SOA), Faserkoppler und Faser­Bragg­Gitter verwendet. Die Bauteile wurden charakterisiert. Teilaspekte des Aufbaus wurden mit der Software CAMFR simuliert. Schließlich wurde der Laser als solcher aufgebaut und charakterisiert. Das Ziel der Zweimodigkeit, in einem Intervall von 2 nm durchstimmbar, konnte erreicht werden. An einem vom Heinrich­Hertz­Institut in Berlin entwickelten zweimodigen Halbleiterlasers wurden Untersuchungen der Idee zur Vereinfachung der Messwerterfassung mittels relativen Intensitätsrauschens (relative intensity noise, RIN) durchgeführt. Als Messgröße stellt das RIN die Amplituden der Intensitätsschwankungen des Lasers gegen die Frequenzen der Intensitätsschwankungen als Rauschspektrum dar. Es konnte nachgewiesen werden, dass das Rauschspektrum charakteristisch für das Oszillationsverhalten des Lasers ist.

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The main focus and concerns of this PhD thesis is the growth of III-V semiconductor nanostructures (Quantum dots (QDs) and quantum dashes) on silicon substrates using molecular beam epitaxy (MBE) technique. The investigation of influence of the major growth parameters on their basic properties (density, geometry, composition, size etc.) and the systematic characterization of their structural and optical properties are the core of the research work. The monolithic integration of III-V optoelectronic devices with silicon electronic circuits could bring enormous prospect for the existing semiconductor technology. Our challenging approach is to combine the superior passive optical properties of silicon with the superior optical emission properties of III-V material by reducing the amount of III-V materials to the very limit of the active region. Different heteroepitaxial integration approaches have been investigated to overcome the materials issues between III-V and Si. However, this include the self-assembled growth of InAs and InGaAs QDs in silicon and GaAx matrices directly on flat silicon substrate, sitecontrolled growth of (GaAs/In0,15Ga0,85As/GaAs) QDs on pre-patterned Si substrate and the direct growth of GaP on Si using migration enhanced epitaxy (MEE) and MBE growth modes. An efficient ex-situ-buffered HF (BHF) and in-situ surface cleaning sequence based on atomic hydrogen (AH) cleaning at 500 °C combined with thermal oxide desorption within a temperature range of 700-900 °C has been established. The removal of oxide desorption was confirmed by semicircular streaky reflection high energy electron diffraction (RHEED) patterns indicating a 2D smooth surface construction prior to the MBE growth. The evolution of size, density and shape of the QDs are ex-situ characterized by atomic-force microscopy (AFM) and transmission electron microscopy (TEM). The InAs QDs density is strongly increased from 108 to 1011 cm-2 at V/III ratios in the range of 15-35 (beam equivalent pressure values). InAs QD formations are not observed at temperatures of 500 °C and above. Growth experiments on (111) substrates show orientation dependent QD formation behaviour. A significant shape and size transition with elongated InAs quantum dots and dashes has been observed on (111) orientation and at higher Indium-growth rate of 0.3 ML/s. The 2D strain mapping derived from high-resolution TEM of InAs QDs embedded in silicon matrix confirmed semi-coherent and fully relaxed QDs embedded in defectfree silicon matrix. The strain relaxation is released by dislocation loops exclusively localized along the InAs/Si interfaces and partial dislocations with stacking faults inside the InAs clusters. The site controlled growth of GaAs/In0,15Ga0,85As/GaAs nanostructures has been demonstrated for the first time with 1 μm spacing and very low nominal deposition thicknesses, directly on pre-patterned Si without the use of SiO2 mask. Thin planar GaP layer was successfully grown through migration enhanced epitaxy (MEE) to initiate a planar GaP wetting layer at the polar/non-polar interface, which work as a virtual GaP substrate, for the GaP-MBE subsequently growth on the GaP-MEE layer with total thickness of 50 nm. The best root mean square (RMS) roughness value was as good as 1.3 nm. However, these results are highly encouraging for the realization of III-V optical devices on silicon for potential applications.

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Im Rahmen dieser interdisziplinären Doktorarbeit wird eine (Al)GaN Halbleiteroberflächenmodifikation untersucht, mit dem Ziel eine verbesserte Grenzfläche zwischen dem Material und dem Dielektrikum zu erzeugen. Aufgrund von Oberflächenzuständen zeigen GaN basierte HEMT Strukturen üblicherweise große Einsatzspannungsverschiebungen. Bisher wurden zur Grenzflächenmodifikation besonders die Entfernung von Verunreinigungen wie Sauerstoff oder Kohlenstoff analysiert. Die nasschemischen Oberflächenbehandlungen werden vor der Abscheidung des Dielektrikums durchgeführt, wobei die Kontaminationen jedoch nicht vollständig entfernt werden können. In dieser Arbeit werden Modifikationen der Oberfläche in wässrigen Lösungen, in Gasen sowie in Plasma analysiert. Detaillierte Untersuchungen zeigen, dass die inerte (0001) c-Ebene der Oberfläche kaum reagiert, sondern hauptsächlich die weniger polaren r- und m- Ebenen. Dies kann deutlich beim Defektätzen sowie bei der thermischen Oxidation beobachtet werden. Einen weiteren Ansatz zur Oberflächenmodifikation stellen Plasmabehandlungen dar. Hierbei wird die Oberflächenterminierung durch eine nukleophile Substitution mit Lewis Basen, wie Fluorid, Chlorid oder Oxid verändert, wodurch sich die Elektronegativitätsdifferenz zwischen dem Metall und dem Anion im Vergleich zur Metall-Stickstoff Bindung erhöht. Dies führt gleichzeitig zu einer Erhöhung der Potentialdifferenz des Schottky Kontakts. Sauerstoff oder Fluor besitzen die nötige thermische Stabilität um während einer Silicium-nitridabscheidung an der (Al)GaN Oberfläche zu bleiben. Sauerstoffvariationen an der Oberfläche werden in NH3 bei 700°C, welches die nötigen Bedingungen für die Abscheidung darstellen, immer zu etwa 6-8% reduziert – solche Grenzflächen zeigen deswegen auch keine veränderten Ergebnisse in Einsatzspannungsuntersuchungen. Im Gegensatz dazu zeigt die fluorierte Oberfläche ein völlig neues elektrisches Verhalten: ein neuer dominanter Oberflächendonator mit einem schnellen Trapping und Detrapping Verhalten wird gefunden. Das Energieniveau dieses neuen, stabilen Donators liegt um ca. 0,5 eV tiefer in der Bandlücke als die ursprünglichen Energieniveaus der Oberflächenzustände. Physikalisch-chemische Oberflächen- und Grenzflächenuntersuchung mit XPS, AES oder SIMS erlauben keine eindeutige Schlussfolgerung, ob das Fluor nach der Si3N4 Abscheidung tatsächlich noch an der Grenzfläche vorhanden ist, oder einfach eine stabilere Oberflächenrekonstruktion induziert wurde, bei welcher es selbst nicht beteiligt ist. In beiden Fällen ist der neue Donator in einer Konzentration von 4x1013 at/cm-2 vorhanden. Diese Dichte entspricht einer Oberflächenkonzentration von etwa 1%, was genau an der Nachweisgrenze der spektroskopischen Methoden liegt. Jedoch werden die elektrischen Oberflächeneigenschaften durch die Oberflächenmodifikation deutlich verändert und ermöglichen eine potentiell weiter optimierbare Grenzfläche.

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AURPO Guidance - The safe use of lasers in research and education - Guidance note no.7, 2012 Edition

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Recent rapid developments in biological analysis, medical diagnosis, pharmaceutical industry, and environmental control fuel the urgent need for recognition of particular DNA sequences from samples. Currently, DNA detection techniques use radiochemical, enzymatic, fluorescent, or electrochemiluminescent methods; however, these techniques require costly labeled DNA and highly skilled and cumbersome procedure, which prohibit any in-situ monitoring. Here, we report that hybridization of surface-immobilized single-stranded oligonucleotide on praseodymium oxide (evaluated as a biosensor surface for the first time) with complimentary strands in solution provokes a significant shift of electrical impedance curve. This shift is attributed to a change in electrical characteristics through modification of surface charge of the underlying modified praseodymium oxide upon hybridization with the complementary oligonucelotide strand. On the other hand, using a noncomplementary single strand in solution does not create an equivalent change in the impedance value. This result clearly suggests that a new and simple electrochemical technique based on the change in electrical properties of the modified praseodymium oxide semiconductor surface upon recognition and transduction of a biological event without using labeled species is revealed.

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In this work, a 2.0 nm nanoparticle (low limit synthesized system) is compared to possible simplified models: passivated clusters, small (1.3 nm) nanoparticles and sets of plane surfaces. Our density functional theory results suggest that even when geometric aspects are properly described by the simplifications considered, electronic properties might be very different, especially when edge atoms are not properly taken into account in the nanoparticle`s modeling. In addition, we propose a protocol that might help future theoretical descriptions of nanoparticles.

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In this work we analyze the spin-polarized charge density distribution in the GeMn diluted ferromagnetic semiconductors (DFS). The calculations are performed within a self-consistent k.p method, in which the exchange correlation effects in the local density approximation, as well as the strain effects due to the lattice mismatch, are taken into account. Our findings show that the extra confinement potential provided by the barriers and the variation of the Mn content in the DFS are responsible for a separation between the different spin charge densities, giving rise to higher mobility spin-polarized currents or high ferromagnetism transition temperatures systems. (c) 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.

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This work reports on magnetic measurements of the quasi-two-dimensional (quasi-2D) system Zn(1-x)Mn(x)In(2)Se(4), with 0.01 <= x <= 1.00. For x > 0.67, the quasi-2D system seems to develop a spin-glass behaviour. Evidence of a true phase transition phenomenon is provided by the steep increase of the nonlinear susceptibility chi(nl) when approaching T(C) from above. The static scaling of chi(nl) data yields critical exponents delta = 4.0 +/- 0.2, phi = 4.37 +/- 0.17 and TC = 3.4 +/- 0.1 K for the sample with x = 1.00 and similar values for the sample with x = 0.87. These critical exponents are in good agreement with values reported for other spin-glass systems with short-range interactions.