Indicadores de Juruti : monitoramento 2011

Iniciado em 2007, o trabalho é derivado do modelo "Juruti Sustentável", uma proposta de desenvolvimento local para o município, que à época vivenciava a chegada de um empreendimento de mineração da Alcoa na região. O primeiro monitoramento, publicado em 2009, apontou caminhos e tendências nos mais diversos temas - saúde, educação, população, meio ambiente, agricultura e pecuária, desenvolvimento econômico, entre outros -, tendo como base o ano de 2008. Esta segunda edição apresenta informações atualizadas até 2010. A iniciativa é fundamentada na crença de que o processo de construção de indicadores e o acompanhamento das transformações sociais, econômicas e ambientais de uma região estimula a reflexão coletiva sobre a realidade local, promovendo um ambiente de aprendizado que favorece o empoderamento humano e social, e instrumentaliza o planejamento estratégico das instituições públicas e privadas. Os indicadores também enviam uma importante mensagem a outros municípios brasileiros que hospedam ou vão hospedar grandes empreendimentos. Como preparar as regiões para as transformações que vão enfrentar? Como aproveitar as oportunidades para garantir um desenvolvimento de qualidade para todos?

Microbiologia da fermentação alcoólica: a importância do monitoramento microbiológico em destilarias

O item não apresenta o texto completo, para aquisição do livro na íntegra você poderá acessar a Editora da UFSCar por meio do link: www.editora.ufscar.br

Monitoramento da informação: uma introdução à inteligência competitiva

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Construção de um aparato experimental para monitoramento in situ da deposição de filmes finos de titânio por magnetron sputtering

The technique of surface coating using magnetron sputtering is one of the most widely used in the surface engineering, for its versatility in obtaining different films as well as in the micro / nanometric thickness control. Among the various process parameters, those related to the active species of the plasma are of the most fundamental importance in the mechanism and kinetics of deposition. In order to identify the active species of the plasma, parameters such as gas flow, pressure and density of electric power were varied during titanium coating on glass substrate. By flowing argon gas of 10, 20, 30, 40 and 50 sccm (cubic centimeters per minute) for each gas flow a sequential scan of the electric current of 0.10, 0.20, 0.30, 0.40 , 0.50 A. The maximum value of 0.50 A was chosen based both on literature data and on limitations of the equipment. The monitoring of plasma species present during the deposition was carried out in situ by the technique of optical emission spectroscopy (OES) through the spectrometer Ocean Optics USB2000 Series. For this purpose, an apparatus was developed to adapt the OES inside the plasma reactor to stay positioned closest to the target. The radiations emitted by the species were detected by an optical fiber placed behind the glass substrate and their intensities as a function of wavelength were, displayed on a monitor screen. The acquisition time for each condition of the plain parameters was related to the minima of spectral lines intensities due to the film formed on the substrate. The intensities of different emission lines of argon and titanium were then analyzed as a function of time, to determine the active species and estimate the thickness of the deposited films. After the deposition, the coated glasses thin films were characterized by optical transmittance through an infrared laser. It was found that the thickness and deposition rate determined by in situ analysis were consistent with the results obtained by laser transmittance