1 resultado para Cheratina, Formaldeide, capello, stiratura semipermanente, Raman, SEM, Lisina
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Resumo:
The integration of block-copolymers and nanoimprint lithography presents a novel and cost-effective approach to achieving nanoscale patterning capabilities. The authors demonstrate the fabrication of a surface-enhanced Raman scattering device using templates created by the block-copolymers nanoimprint lithography integrated method.
