Ion beam analysis of a-C:H films on alloy steel substrate

An a-C:H thin film deposited by plasma immersion ion implantation and deposition on alloy steel (16MnCr5) was analyzed using a self-consistent ion beam analysis technique.In the self-consistent analysis, the results of each individual technique are combined in a unique model, increasing confidence and reducing simulation errors.Self-consistent analysis, then, is able to improve the regular ion beam analysis since several analyses commonly used to process ion beam data still rely on handling each spectrum independently.The sample was analyzed by particle-induced x-ray emission (for trace elements), elastic backscattering spectrometry (for carbon), forward recoil spectrometry (for hydrogen) and Rutherford backscattering spectrometry (for film morphology).The self-consistent analysis provided reliable chemical information about the film, despite its heavy substrate.As a result, we could determine precisely the H/C ratio, contaminant concentration and some morphological characteristics of the film, such as roughness and discontinuities.© 2013 Elsevier B.V.All rights reserved.

Estudo das propriedades de barreira de filmes depositados a plasma sobre a liga de alumínio 2024

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Investigação da temperatura eletrônica da fase plasma e estudo da morfologia, estrutura molecular e crescimento do polímero proveniente de um plasma de benzeno excitado por tensão contínua

Pós-graduação em Física - FEG

Filmes finos obtidos a plasma em reagentes contendo ácido cítrico/etilenoglicol

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Propriedades mecânicas e tribológicas de filmes sintetizados mediante técnica de deposição e implantação iônica por imersão em plasma

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Filmes orgânicos contendo óxido de alumínio depositados a plasma

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)

Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Tratamento a plasma de polímeros comerciais transparentes

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Caracterização química, propriedades ópticas e modelagem de filmes de carbono amorfo hidrogenado halogenado e similares produzidos por deposição à plasma

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos a-C:H:CI obtidos por deposição à vapor químico assistido por plasma e deposição e implantação iônica por imersão em plasma

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Síntese de filmes finos a-C:H pela técnica de implantação e deposição por imersão em plasma

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Efeito do tratamento a plasma do politetrafluoroetileno (PTFE) nas suas propriedades eletrostáticas e superficiais

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Plásticos comerciais tratados a plasma para dispositivos ópticos e embalagens alimentícias

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Caracterização de filmes finos polimerizados por plasma a partir dos monômeros hexametildisilazano e acetileno e posteriormente expostos à descarga por barreira dielétrica

Pós-graduação em Engenharia Mecânica - FEG

Structural and optical properties of brominated plasma polymers

Novel brominated amorphous hydrogenated carbon (a-C:H:Br) films were produced by the plasma polymerization of acetylene-bromoform mixtures. The main parameter of interest was the degree of bromination, which depends on the partial pressure of bromoform in the plasma feed, expressed as a percentage of the total pressure, R-B. When bromoform is present in the feed, deposition rates of up to about 110 nm min(-1) may be obtained. The structure and composition of the films were characterized by Transmission Infrared Reflection Absorption Spectroscopy (IRRAS) and X-ray Photo-electron Spectroscopy (XPS). The latter revealed that films with atomic ratios Br:C of up to 0.58 may be produced. Surface contact angles, measured using goniometry, could be increased from similar to 63 degrees (for an unbrominated film) to similar to 90 degrees for R-B of 60 to 80%. Film surface roughness, measured using a profilometer, does not depend strongly on R-B. Optical properties the refractive index, n, absorption coefficient, alpha(E), where E is the photon energy, and the optical gap, E-g, were determined from film thicknesses and data obtained by Transmission Ultraviolet-Visible Near Infrared Spectroscopy (UVS). Control of n was possible via selection of R-B. The measured optical gap increases with increasing F-BC, the atomic ratio of Br to C in the film, and semi-empirical modeling accounts for this tendency. A typical hardness of the brominated films, determined via nano-indentation, was similar to 0.5 GPa. (C), 2013 Elsevier B.V. All rights reserved.