Preparation of films from aluminum acetylacetonate by plasma sputtering

Aluminum acetylacetonate has been reported as a precursor for the deposition of alumina films using different approaches. In this work, alumina-containing films were prepared by plasma sputtering this compound, spread directly on the powered lowermost electrode of a reactor, while grounding the substrates mounted on the topmost electrode. Radiofrequency power (13.56 MHz) was used to excite the plasma from argon atmosphere at a working pressure of 11 Pa. The effect of the plasma excitation power on the properties of the resulting films was studied. Film thickness and hardness were measured by profilometry and nanoindentation, respectively. The molecular structure and chemical composition of the layers were analyzed by Fourier transform infrared spectroscopy and energy dispersive spectroscopy. Surface micrographs, obtained by scanning electron microscopy, allowed the determination of the sample morphology. Grazing incidence X-ray diffraction was employed to determine the structure of the films. Amorphous organic layers were deposited with thicknesses of up to 7 μm and hardness of around 1.0 GPa. The films were composed by aluminum, carbon, oxygen and hydrogen, their proportions being strongly dependent on the power used to excite the plasma. A uniform surface was obtained for low-power depositions, but particulates and cracks appeared in the high-power prepared materials. The presence of different proportions of aluminum oxide in the coatings is ascribed to the different activations promoted in the metalorganic molecule once in the plasma phase. Copyright © 2013 John Wiley & Sons, Ltd. Copyright © 2013 John Wiley & Sons, Ltd.

Mechanical and tribological properties of a-C:H:F Thin Films

a-C:H films were grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition in atmospheres composed by 30 % of acetylene and 70 % of argon. Radiofrequency signal (RF) was supplied to the sample holder to generate the depositing plasmas. Deposition time and pressure were chosen 300 s and 9.5 Pa, respectively, while the excitation power changed from 5 to 125 W. The films were exposed to a post-deposition treatment during 300 s in RF-plasmas (13.56 MHz, 70 W) excited from 13.33 Pa of SF6. Raman and X-ray photoelectron spectroscopy were used to evaluate the microstructure and chemical composition of the films. The thickness was measured by perfilometry. Hardness and friction coefficient were determined from nanoindentation and risk tests, respectively. With increasing power, the film thickness reduced, but a further shrinkage occurred upon the fluorination process. After that, the molecular structure was observed to vary with deposition power. Fluorine was detected in all samples replacing H atoms. Consistently with the elevation in the proportion of C atoms with sp3 hybridization, hardness increased from 2 to 18 GPa. Friction coefficient also increased with power due to the generation of dangling bonds during the fluorination process. © 2012 Springer Science+Business Media, LLC.

Physicochemical and mechanical properties of zirconium oxide and niobium oxide modified Portland cement-based experimental endodontic sealers

Aim: To evaluate the physicochemical and mechanical properties of Portland cement-based experimental sealers (ES) with different radiopacifying agents (zirconium oxide and niobium oxide micro- and nanoparticles) in comparison with the following conventional sealers: AH Plus, MTA Fillapex and Sealapex. Methodology: The materials were tested for setting time, compressive strength, flow, film thickness, radiopacity, solubility, dimensional stability and formaldehyde release. Data were subjected to anova and Tukey tests (P < 0.05). Results: MTA Fillapex had the shortest setting time and lowest compressive strength values (P < 0.05) compared with the other materials. The ES had flow values similar to the conventional materials, but higher film thickness (P < 0.05) and lower radiopacity (P < 0.05). Similarly to AH Plus, the ES were associated with dimensional expansion (P > 0.05) and lower solubility when compared with MTA Fillapex and Sealapex (P < 0.05). None of the endodontic sealers evaluated released formaldehyde after mixing. Conclusion: With the exception of radiopacity, the Portland cement-based experimental endodontic sealers presented physicochemical properties according to the specifications no 57 ANSI/ADA (ADA Professional Product Review, 2008) and ISO 6876 (Dentistry - Root Canal Sealing Materials, 2012, British Standards Institution, London, UK). The sealers had setting times and flow ability that was adequate for clinical use, satisfactory compressive strength and low solubility. Additional studies should be carried out with the purpose of decreasing the film thickness and to determine the ideal ratio of radiopacifying agents in Portland cement-based root canal sealers. © 2013 International Endodontic Journal.

Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de polianilina/látex de borracha natural

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Caracterização topográfica e estrutural de filmes poliméricos provenientes de acetileno (C2H2) depositados a plasma sobre substratos lisos e rugosos

Pós-graduação em Física - FEG

Caracterização de filmes finos de ZnO dopados com Al e Mn depositados em substrato vítreo pelo método de Spray Pirólise

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Construção de filmes ultra finos de Bismarck Brown R por eletropolimerização e sua aplicação

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Filmes orgânicos contendo óxido de alumínio depositados a plasma

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)

Filmes evaporados de ftalocianina de cobalto: arquitetura molecular e aplicação sensorial

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Filmes nanoestruturados aplicados ao sistema de língua eletrônica: um estudo de interfaces

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Efeito da neutralização e remoção sônica do precipitado do ácido fluorídrico na resistência à fratura de coroas cerâmicas

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Análise de dissipadores de calor com filmes de diamante CVD

Dissipadores de calor recobertos com filmes de diamante CVD foram desenvolvidos para acoplar a semicondutores, utilizando-se do Laboratório de Deposição de Filmes de Diamante CVD, na UNESP - Campus de Guaratinguetá e o Laboratório de Diamantes da Universidade São Francisco, em Itatiba, SP. Analisou-se o filme de diamante CVD sobre o silício, para emprego como dissipador de calor, porque o filme de diamante CVD pode ter o valor da condutividade térmica até cinco vezes superior ao do cobre e de dez vezes a do alumínio. Os filmes foram obtidos via deposição através de reator de filamento quente, trabalhando-se com vários filamentos retilíneos em paralelo, resultando assim em um processo que visou obter um filme mais uniforme e com grande área de deposição. Os dados para análises da composição química superficial dos filmes foram obtidos por Difração de Raios-X, Dispersão de Energia de Raios-X e para a verificação da morfologia e espessura do filme foi utilizada a Microscopia Eletrônica de Varredura. Para a verificação do comportamento da temperatura sobre o dissipador com o filme de diamante CVD foi utilizada uma câmera de imagem termográfica, marca Fluke, modelo Ti 40 FT. Foram obtidos filmes de 2 e 10 ?m sobre o silício. Estas espessuras ainda não oferecem um desempenho mecânico que o torne autosustentado. Do ponto de vista de desempenho térmico as análises mostraram que, mesmo com pequena espessura, o filme de diamante CVD apresentou bom resultado experimental. Os principais desafios de construção para esse dissipador de calor são a obtenção do filme com espessura acima de um mm e a garantia da qualidade do filme com a repetitividade do processo em cujo caso torna-se necessário definir as dimensões do dissipador antes da deposição do filme.

Propriedades físico-químicas e mecânicas, potencial bioativo e caracterização da interface dentina-cimento de cimentos endodônticos experimentais à base de cimento Portland associados à radiopacificadores micro e nanoparticulados

Pós-graduação em Odontologia - FOAR

Efeito de protocolos de cimentação na carga de fratura para uma cerâmica de dissilicato de lítio

Pós-graduação em Odontologia Restauradora - ICT