Estudo das propriedades de barreira de filmes depositados a plasma sobre a liga de alumínio 2024

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Aplicação do eletrocapilaridade na manipulação de microgotas

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Propriedades mecânicas e tribológicas de filmes sintetizados mediante técnica de deposição e implantação iônica por imersão em plasma

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Filmes orgânicos contendo óxido de alumínio depositados a plasma

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)

Utilização de plasmas em pressão atmosférica para modificação de polímeros biocompatíveis

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Efeito protetivo produzido pela aplicação de um filme de carbono amorfo na superfície de um ferramental para conformação

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Síntese de filmes finos a-C:H pela técnica de implantação e deposição por imersão em plasma

Pós-graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais - FC

Efeito da incorporação de flúor nas propriedades de superfície de filmes DE aC:H

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)

Implantação iônica por imersão em plasma - IIIP - de argônio, nitrogênio e hélio em hexametildissilazano polimerizado a plasma

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Efeito da implantação iônica por imersão em plasmas sobre a bioatividade de titânio

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Plásticos comerciais tratados a plasma para dispositivos ópticos e embalagens alimentícias

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)

Effect of argon ion bombardment on amorphous silicon carbonitride films

Amorphous silicon carbonitride (a-SiCN:H) films were synthesized by radiofrequency (RF) Plasma Enhanced Vapor Chemical Deposition (PECVD) using hexamethyldisilazane (HMDSN) as precursor compound. Then, the films were post-treated by Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) in argon atmosphere from 15 to 60 min The hardness of the film enhanced after ion implantation, and the sample treated at 45 min process showed hardness greater than sixfold that of the untreated sample. This result is explained by the crosslinking and densification of the structure Films were exposed to oxygen plasma for determining of the etching rate. It decreased monotonically from 33 angstrom/min to 19 angstrom/min for the range of process time, confirming structural alterations. Hydrophobic character of the a-SiCN:H films were modified immediately after ion bombardment, due to incorporation of polar groups. However, the high wettability of the films acquired by the ion implantation was diminished after aging in air. Therefore, argon PIII made a-SiCN.H films mechanically more resistant and altered their hydrophobic character.

Caracterização de plasmas a partir do monômero digime através da espectrometria de massa: deposição polimérica

Pós-graduação em Engenharia Mecânica - FEG

Degree of conversion of different composite resins photo-activated with light-emitting diode and argon ion laser

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)

Avaliação das características de superfície e formação de biofilmes em materiais odontológicos tratados em plasmas de HMDSO

Pós-graduação em Reabilitação Oral - FOAR